JP4971137B2 - 色収差補正搭載プロジェクタ・ランプ・ヘッドライト - Google Patents

Description

関連出願のクロスリファレンス
この特許出願は、２００４年４月８日に出願された米国仮特許出願第６０／５６０，７９７号、および２００４年９月３日に出願された米国仮特許出願第６０／６０７，０１１号に対して優先権を主張する。

発明の技術分野
この発明は、概して、ヘッドライト・アセンブリに関し、より具体的には、乗り物の前方照明に使用されるプロジェクタ型ヘッドライト・アセンブリに関する。

発明の背景技術
乗り物のヘッドライトは、主として、夜間運転中に前方の照明を提供して視界を改善するために使用される。使用中、ほとんどの乗り物のヘッドライトは少なくとも２つの操作状態を有する。１つは、先行するあるいは対向する車両の存在がない道路を運転する間に使用される、ハイビーム状態である。いま１つは、そうしないとハイビーム状態の使用によって生じうる末梢性過度照明眩輝を制限しつつ、ドライバーが前方の道路を見ることを可能とするように、ほとんどの夜間運転状態中に使用されるロービーム状態である。

ロービーム操作について、政府の規制は、一般的には、有害なグレアから対向する車両を保護することを意図する特定の測光要求を有する配光ビームパターンを、乗り物のヘッドライトが提供することを要求する。これらの要求を満たすプロジェクタ・ランプ・ヘッドライトは、一般的には、集束ビームパターンにおいて比較的明確な明／暗境界線を示す。この鋭い、いわゆる光・影ラインは、上向きのビーム投射を制限する不透明な金属製マスクの使用によりもたらされる。マスクは、光源（および／またはリフレクタ）とプロジェクタ・レンズとの間の光経路の下部に位置する。典型的なプロジェクタ・レンズの反転特性のために、マスクによって投じられる影は、投射されるビームパターンの上部領域へ移される。したがって、マスクの最上縁は、ヘッドライト・アセンブリからの投射ビームパターンにおいて、光がラインの下にあり、影がラインの上にある、光・影ラインを生成する。この上が暗く下が明るい分配パターンは、路面の視界のための光を提供する上に、対向車両へのグレアを最小限にしようとするものである。

自動車が道路の突起あるいは窪みに遭遇するとき、投射ビームパターンは、対向車両の視界へ一時的に上昇する可能性がある。鋭い光・影境界のために、対向車両は、上下するビームパターンを、気を散らさせる光の閃きとして知覚するであろう。

さらに、金属性マスクを備えたプロジェクタ型ヘッドライトは、いわゆる“色収差”、すなわち異なる色の光が異なる個所で焦点を結ぼうとする、望ましくない色の影響を生じる可能性がある。この収差は、対向するドライバーを悩ませるか、あるいは混乱させることがある、鮮やかな色のついた明帯という影響をもたらす。色のついた明帯は、この結果を生じさせる発症機序は論争中ではあるが、金属性マスクの最上縁によって生成されると考えられる。１つの理論によれば、光源から発せられた白色光は、金属性マスクの最上縁に衝突し、最上縁の周囲の空気によりプリズムレンズ作用を生じ、それにより（図６Ａに図示されるように）白色光を色のついた明帯に分割する。別の理論によれば、金属性マスクの最上縁に斜角で反射する光が偏光し、（図６Ｂに図示されるように）可視の電磁場ベクトルの一方の配向性がより優勢となる。その原因にかかわらず、色収差は、プロジェクタ型ヘッドライトを有した対向する乗り物が道路の突起あるいは窪みに当たって青から紫
色の光の短時間の閃光をもたらすときに、色のついた明帯がしばしば青色で現われ、かつ、最も顕著となるという、望ましくない影響をもたらすことが知られている。これらの閃光は、対向する車両に気を散らさせるグレアを与え、近づいてくる乗り物がパトカーまたは他の緊急車両であると思わせ、対向するドライバーを混乱させることがある。

したがって、対向車両のためには、鋭い光・影境界のグレアの悪影響を色収差による悪影響と併せて低減する必要性がある。

発明の概要および利点
本発明の第１の態様によれば、低グレアのプロジェクタ型ヘッドライト・アセンブリは、可視光を投射する光源と、光源に隣接し、概ね前方経路に光を導くリフレクタと、前方経路に位置し、光を反転操作して集束ビームパターンとする光学レンズと、レンズとリフレクタとの間の前方経路の一部に位置し、対向車両を保護するために集束ビームパターンにおける上部影領域を生成する不透明なマスクとを備えている。マスクは、集束ビームパターンにおいて光・影境界を確立する最上縁を有している。マスクは、その最上縁に隣接し、マスクに限定された量の投射光を通過させる遷移領域を備えている。投射光の軌跡が、集束ビームパターンにおける光・影境界よりも上に導かれることを可能とすることによって、対向車両光・影境界が対向車両の視界を交差する時に、光・影境界などの光強度における急激な変化のすべてあるいは少なくともいくらかの影響が低減されるという点で恩恵を被る。

本発明の他の態様によれば、低グレアのプロジェクタ型ヘッドライト・アセンブリは、可視光を投射する光源と、光源に隣接し、概ね前方経路に光を導くリフレクタと、前方経路に位置し、光を反転操作して集束ビームパターンとする光学レンズと、前方経路に位置し、光エネルギの選択的な波長を乱す色フィルタと、レンズとリフレクタとの間の前方経路の一部に位置し、対向車両を保護するために集束ビームパターンにおいて上部影領域を生成する不透明なマスクとを備えている。マスクは、集束ビームパターンにおける光・影境界を確立する最上縁を有し、その最上縁に隣接する遷移領域を備えている。遷移領域は、集束ビームパターンにおける光・影境界よりも上に投射光の軌跡が導かれるように、前方経路において限定された量の光がマスクを通過することを可能にする。このことは、換言すれば、さもなければ光・影境界が視界を交差する時に光強度における急激な変化によりもたらされることがある、対向車両への妨げを最小限にする。アセンブリにおいて生成されるどの色収差も色フィルタを通じてコントロールされる。

本発明のさらに他の態様によれば、低グレアのプロジェクタ型ヘッドライト・アセンブリは、可視光を投射する光源と、光源に隣接し、概ね前方経路に光を導くリフレクタと、前方経路に位置し、光を反転させ操作して集束ビームパターンとし、その光経路における光エネルギの選択的な波長を乱す色フィルタリング材料を含む光学レンズと、レンズとリフレクタとの間の前方経路の一部に位置し、対向車両を保護するために集束ビームパターンにおける上部影領域を生成する不透明なマスクとを備えている。マスクは、集束ビームパターンにおける光・影境界を確立する最上縁を有し、その最上縁に隣接する遷移領域を備えている。遷移領域は、投射光の軌跡が集束ビームパターンにおける光・影境界よりも上に導かれるように、前方経路において限定された量の光がマスクを通過することを可能とする。この構成においては、対向車両は、光・影境界が視界を交差する時に光強度における急激な変化に直面せず、また、アセンブリにおいて生成されるどの色収差も色フィルタリングレンズを通じてコントロールされる。

本発明の他の利点が、添付の図面との関連で考察される場合、以下の詳細な記述を参照
することによって一層よく理解されるのに伴い、本発明の他の利点も容易に理解されるであろう。

好適な実施形態の詳細な説明
図１を参照すると、概ね前方経路に光を導くリフレクタ１２と、リフレクタ１２の焦点内に位置した光源１４と、光源１４の前方に位置した不透明なマスク１６と、マスク１６に前方に位置したレンズ１８を備えた投射型ヘッドライト・アセンブリ１０が、一般的に示されている。光源１４は、ハロゲン、タングステン、高輝度放電などを含む任意の既知の種類であることができる。リフレクタ１２、マスク１６、およびレンズ１８は、本技術分野において既知であるように、すべてレンズホルダ（図示せず）によって相互接続されることが好ましく、ヘッドライト・アセンブリ１０全体は、より大きなヘッドライト・ハウジング（図示せず）内に囲われてよい。マスク１６とは対照的に、図１に表されるようなリフレクタ１２、光源１４、およびレンズ１８は、すべて実質的に既知であり、本技術分野における当業者に利用可能な構成要素である。

マスク１６は、実質的に矩形であるように示されているが、図示されていないレンズホルダまたはヘッドライト・ハウジングの囲い内に嵌合するような形状等、等しい効果を有する他の形状をなすことができる。図１中のマスク１６の拡大した矩形は、いずれの空気／縁の悪影響も低減することができるように、その側縁およびの底縁のすべてを光の前方経路から除去するように意図されている。マスク１６は、図１、３および４に示されるように、ガラスまたはプラスチックからなる共面透明基材２０と一体にされることが可能である。この条件においては、マスク１６は、はめ込み、エッチング、埋め込み、被覆などのような任意の既知の技術を使用して透明基材２０に適用される不透明フィルムまたは被覆からなる。あるいは、マスク１６’は、ピギーバック方式で取り付けられる、すなわち、下に議論される理由のために、図２において示されるような透明基材２０’に、オフセット平面内で固定されることが可能である。

マスク１６は、最上縁２２におけるその最上範囲で終了する領域を覆っている。マスク１６はいくつかの図において、光を選択的に遮断するための角度付き部分２４を含む最上縁２２を備えて示されている。しかし、この角度付き部分２４は、任意であり、使用される場合には、所望のビームパターンに応じて様々な形状および構成をなすことができる。特定の構成にかかわらず、最上縁２２は、集束ビームパターンにおいて光・影境界を確立する。図５において、光線は、リフレクタ１２からの光の前方経路２６、レンズ１８から出る集束ビームパターン２８、および集束ビームパターン２８の上部範囲を含んだ光・影ライン３０と共に破線で示されている。

ここで図３を参照すると、マスク１６の前方に向いた立面図が示されている。マスク１６は、その最上縁２２に隣接し、マスク１６に限定された量の投射光を通過させる遷移領域３２を備えている。遷移領域３２は、投射光の軌跡が、集束ビームパターン２８における光・影境界３０よりも上に導かれることを許容する。このことは、光・影境界３０が対向車両の視界を交差する時に、光強度における急激な変化の影響のすべてまたは少なくともいくらかを低減することによって、対向車両に利益をもたらす。遷移領域３２は、好ましくは、完全に不透明な底部から部分的に不透明な最上部まで変化する光透過レベルを備えている。部分的に不透明とは、可視光線では貫けない部分がある一方で、利用可能な可視光線の断片的な部分がレンズ１８を通過することを意味するように意図されている。いずれにせよ、遷移領域は、マスク１６のうちのいくらかだけまたはほぼすべてを占めることができ、したがって、それを、図２から４に示されるように、マスク１６の全体にわたって、または単にマスク１６の上部にわたって光をだんだんにあるいは徐々に透過させるようにする。

１つの実施例として、遷移領域３２は、下側の最大の不透明区画で実質的にすべての可視光線がブロックされ（つまり、＞〜９０％の可視光線がブロックされる）、中間の不透明区画がいくらかの可視光線をブロックし（たとえば、５０％をブロックする）、最小の不透明区画がわずかな可視光線だけをブロックする（たとえば、１０％をブロックする）、不透明の帯または不透明の連続に形成されることができる。最小の不透明区画は、最上縁２２に隣接している。この遷移は、あらゆる方法で達成することができる。１つの実施例として、図３において誇張した方法で図示された遷移領域３２は、その周囲に透明基材２０が露出される、複数の個別の不透明な地点３４を含んでいる。不透明な箇所３４は、透明基材２０上にマスク１６を形成するのに使用するのと同じ材料および技術を使用して透明基材２０上に形成しうる。複数の個別の不透明な地点３４は、図３において示される円のような概ね反復的な幾何学的形状を有することが可能である。それらは、同様に、他の形状またはパターンまたはグリッドのデザインであることが可能である。図３の最上縁２２近傍の、個別の不透明な地点３４で囲まれた領域は、最上縁２２からより遠くに離隔された個別の不透明な地点３４で囲まれた領域よりも小さい。換言すれば、個別の不透明な地点３４は、遷移領域３２の底近傍で直径が大きく、それらが最上縁２２に近づくにつれて徐々に小さくなっている。

あるいは、図４におけるように、遷移領域３２は、透明基材２０が露出される複数の個別の空隙３６を含んでもよい。これらの個別の空隙３６は、図４において示される円のように、概ね反復的な幾何学的形状を有することもできる。しかしながら、前のように、他の幾何学的形状および／またはデザインを使用することができる。不透明から透明までの連続を達成するために、最上縁２２に隣接する個別の空隙３６で囲まれた領域は、最上縁２２からより遠くに離隔された個別の空隙３６で囲まれた領域よりも大きい。

図３および４は、それぞれ、いくつかの先行技術のウィンドシールド・ガラスに使用される既知のフリット・バンド技術の代替の用途を表している。概して、フリット・バンドは、ウィンドシールドの周辺に適用され、ガラスへと焼かれた、黒いエナメルからできている。このフリット・バンドは、典型的には、内蔵サンバイザとして部分的に役立つ、ぼかしたドットまたは開口の境界として現われる。しかしながら、本発明で提示されるようなマスク１６の新規の遷移領域３２を生成するために多くの他の技術を使用しうる。たとえば、マスク１６は、図５から９において意図されるように、その上部領域周辺に穴をあけられた金属の板として形成され、遷移領域３２を形成することができるかも知れない。穴の代わりに、鋸歯パターンまたは櫛状フリンジが、マスク１６の上部領域に形成することも可能である。これらの技術はいずれも、他のデザインと同様に、前方経路２６における限定した量の光がマスク１６を通過することを可能にする目的を達成するために利用でき、その結果、投射光の軌跡が、集束ビームパターン２８における光・影境界３０よりも上に導かれる。このことは、さもなければ、光・影境界３０が視界を交差する時に光強度における急激な変化によりもたらされることがある、対向車両への妨げを最小限にするために望まれる。

マスク１６上の空気／縁接触部は、６Ａに図示されており、ここでは、空気は、線Ａによって表され、仮想プリズムは、Ｐで想像線にて示されている。プリズムＰ（すなわち、空気／縁接触部６Ａ）を通過する光源１４からの光は、色スペクトル（赤橙黄緑青紫）に分散され、青から紫の範囲の光は対向車両に最も大きな刺激をもたらす傾向にある。別の方法で、図６Ｂにおいて図示されるように、問題の色の影響が金属性マスク１６の最上縁２２に斜角で反射し、偏光状態になる光によってもたらされることがある場合。

図１および３から４に関連して記述されるように透明基材２０内またはその上にマスク１６を埋め込む必要はない。代わりに、マスク１６’は、透明基材２０’に付着されるか
、組み立てられるか、あるいはさもなければ取り付けられる材料の個別の構成要素であることが可能である。図２においては、この代替の実施形態は、従来のデザインの金属板を備えたマスク１６’として図示されている。遷移領域３２は、独立した透明基材２０’に適用される。この実施形態は、最上縁２２上の空気の流れを乱すことによって、さもなければ金属製マスク１６の空気／縁効果によって生じることがある色帯に取り組む。

ここまで扱われた本発明の実施形態のすべてにおいて、問題の色の影響は、光源から放射される光の経路の外へ空気／縁接触部の空気Ａを移動および／または乱すことによって取り除かれる。代替のアプローチ、あるいは付加的なアプローチとして、空気／縁効果は、透明基材２０の吸収性のあるまたは干渉の表面処理を使用してさらに低減あるいは取り除かれることができる。たとえば、ある光の波長を選択的にブロックするために使用することができる吸収性および干渉の被覆は既知である。吸収は、電磁エネルギが被覆を通過しない場合に、光スペクトルの可視領域における吸収性被覆で生じる。換言すれば、エネルギの所定の波長は、被覆に吸収され、必ずしも反射されない。透明基材２０に一体とされた光学フィルタは、フィルタを通じて透過しない波長が吸収または散乱によってではなく干渉現象によって取り除かれる干渉被覆を含んでよい。そのような干渉被覆またはフィルタは、典型的には、屈折率の異なる２つ以上の材料からなる交互の層を含み、紫外線、可視線、および赤外線のような電磁スペクトルの様々な部分からの光を選択的に透過および／または反射する。光学フィルタを生成する一般的な技術は、本技術分野の当業者に既知である２色性の被覆処理を使用することである。

さらに、マスク１６は、２色性または半吸収性の材料として透明基材２０のすべてあるいは一部を提供することによって、透明基材２０上の被覆のような材料を提供することによって、または、傾斜屈折率ガラスなどとして基材２０のすべてあるいは一部を提供することによって生成されてよい。

ここで図７から９に戻ると、透明基材２０が使用されないか、あるいは利用可能でない時に、問題の色の影響（図６Ａおよび６Ｂに図示される）が克服される、様々な代替の実施形態が提案されている。透明基材２０なしでは、前方経路の光が反応する可能性がある付加的な表面が生成されるので、色収差現象は、遷移領域３２によってより顕著であろう。これらの実施例において、好ましくない青から紫（あるいは他の色範囲またはベクトルの方向性）の光は、色フィルタ技術の使用で吸収あるいは分散される。

図７において、色の影響は、色フィルタ被覆３８をレンズ１８に適用することによって対処される。そのような被覆は、本技術分野においては既知であり、光のある波長だけを透過する一方、スペクトルの残りを反射する２色性の種類であるか、あるいは、好ましくない光の波長および／またはベクトルの方向性をフィルタリングするための、他の既知の種類の被覆であってよい。これにより、刺激性のある青から紫の光は、レンズ１８を通過しない。もちろん、任意の好ましくない光の波長（青から紫の範囲もしくは他の範囲またはベクトルの方向性を含む）も、被覆３８の成分を調整することによって選択的にフィルタリングすることができる。

図８の実施形態において、色フィルタ４０は、前方の光経路２６内に、および好ましくは光源１４とレンズ１８との間に位置する。示されるように、色フィルタ４０は、図示された実線あるいは想像線の位置のいずれかにおいて、マスク１６に隣接するヘッドライト・ハウジングに固定されることができる。色フィルタ４０は、たとえば、２色性フィルタ、ゲル型フィルタなどの、写真撮影および照明の分野において広範囲に使用される種類の市販の材料から作られてよい。色フィルタ４０は、好ましくない光の波長を選択的にブロックし、したがって青から紫の（または好ましくない偏光した）光がレンズ１８を通過するのを防止する。この概念の拡張として、様々なフィルタリング特性の複数の色フィルタ
４０が、波長の選択された範囲および／または方向性をフィルタリングするために連動することができる。

図９においては、レンズ１８’は、色フィルタリング材料を添加されている。特定の材料が、本技術分野において知られているような市販の成分のうちの任意の１つから選択されることができる。レンズ１８’のガラス（あるいは他の構成材料）は、その原料のまま凝固しない状態で色フィルタリング材料と混合される。結果として生じる成分は、後でレンズ形状に形成され、したがって固有の色フィルタリング特性を有する。

本発明は、対向車両に投射され、跳ね返るビームパターン、および色の悪影響によるグレアを、低減する、あるいは取り除くためのよりソフトな光・影遮断３０を提供する、プロジェクタ型ヘッドライト・アセンブリ１０を提供する。

以上の記述が本発明の好ましい典型的な実施形態についてのものであり、本発明が示された特定の実施形態に限定されないことは理解されるであろう。様々な変更および修正が、本技術分野における当業者にとっては明白であろう。たとえば、多くの異なる被覆技術およびマスク１６の形状が使用可能である。また、長方形のマスクが示されているが、特定の用途に適する任意の他の形状を使用することもできる。そのような変更および修正は、すべてこの発明の範囲内にあることを意図されたものである。

ランプ、リフレクタ、マスク、およびレンズを備えた本発明のヘッドライト・アセンブリの実施形態の単純化された斜視図を示す。 オフセット遷移領域を備えた不透明なマスクの他の実施形態の斜視図である。 図１のヘッドライト・アセンブリのマスクを通じて前方を見た正面図であり、例示の目的で誇張した方法で遷移領域を示している。 図３と同様の図であるが、遷移領域の代替の構成を示している。 リフレクタによって向きを変えられる光の前方経路と、レンズから放射される集束ビームパターンとを示す、対象のヘッドライト・アセンブリの他の実施形態の単純化された断面図である。 図５において特定される領域の拡大図であり、色収差の原因について説明するための代替の理論を図示している。 図５において特定される領域の拡大図であり、色収差の原因について説明するための代替の理論を図示している。 色フィルタリング被覆がレンズに適用される、本発明の代替の実施形態である。 色フィルタが光源とレンズとの間に位置する、本発明の代替の実施形態である。そして、 レンズが色フィルタリング材料を含浸する、本発明の代替の実施形態である。

Claims (18)

1. 可視光を投射する光源と、
   前記光源に隣接し、概ね前方経路に前記光を導くリフレクタと、
   前記前方経路に位置し、前記光を集束ビームパターンに変換する光学レンズと、
   前記レンズと前記リフレクタとの間の前記前方経路の一部に位置し、対向車両を保護するために前記集束ビームパターンにおける上部影領域を生成する不透明なマスクと、
   前記マスクの少なくとも一部に接続された傾斜屈折率ガラスから構成されている透明基材とを含み、
   前記マスクは、前記集束ビームパターンにおいて光・影境界を確立する最上縁を有し、
   前記マスクは、前記最上縁に隣接し、限定された量の投射光を前記最上縁よりも下に通過させる遷移領域を含み、
   それによって、前記光・影境界が視界を交差する時に対向車両が光強度の急激な変化に直面しないように、投射光の軌跡が前記集束ビームパターンにおける前記光・影境界よりも上に導かれる、低グレアのプロジェクタ型ヘッドライト・アセンブリ。
2. 前記遷移領域は、前記マスクを通し、前記最上縁の法線方向に徐々に変化する量で露出される前記透明基材を含む、請求項１記載のアセンブリ。
3. 前記遷移領域は、前記マスクと共面の平面に固定される、請求項１記載のアセンブリ。
4. 前記遷移領域は、前記マスクの残りからオフセットされた平面に固定される、請求項１記載のアセンブリ。
5. 前記遷移領域は、その周囲で前記透明基材が露出される複数の離散した不透明な地点を含む、請求項１記載のアセンブリ。
6. 前記複数の離散した不透明な地点は、概ね反復的な幾何学的形状を有し、前記最上縁に隣接する前記離散した不透明な地点で囲まれた領域は、前記最上縁からより遠くに離隔された前記離散した不透明な地点で囲まれた領域よりも小さい、請求項５記載のアセンブリ。
7. 前記遷移領域は、それを通して前記透明基材が露出される、複数の離散した空隙を前記マスクに含む、請求項１記載のアセンブリ。
8. 前記複数の離散した空隙は、概ね反復的な幾何学的形状を有し、前記最上縁に隣接する前記離散した空隙で囲まれた領域は、前記最上縁からより遠くに離隔された前記離散した空隙で囲まれた領域よりも大きい、請求項７記載のアセンブリ。
9. 前記透明基材は、前記マスクの前記最上縁よりも上に、前記光の前方経路へ延びている、請求項１記載のアセンブリ。
10. 前記マスクは、少なくとも１つの２色性および吸収性の材料から構成されている、請求項１記載のアセンブリ。
11. 前記マスクは、前記透明基材を備えた金属性のシールドを含み、前記透明基材は、前記金属性のシールドに隣接して位置している、請求項１記載のアセンブリ。
12. 前記前方経路に位置し、光エネルギの選択的な波長を乱す色フィルタをさらに含む、請求項１記載のアセンブリ。
13. 前記色フィルタは、前記マスクと前記レンズとの間に配置されている、請求項１２記載のアセンブリ。
14. 前記色フィルタは、前記レンズに取り付けられている、請求項１３記載のアセンブリ。
15. 前記色フィルタは、前記光源と前記マスクとの間に配置される、請求項１２記載のアセンブリ。
16. 前記レンズは、前記光経路における光エネルギの選択的な波長を乱す色フィルタリング材料を含む、請求項１記載のアセンブリ。
17. 可視光を投射する光源と、
    前記光源に隣接し、概ね前方経路に前記光を導くリフレクタと、
    前記前方経路に位置し、前記光を集束ビームパターンに変換する光学レンズと、
    前記前方経路に位置し、光エネルギの選択的な波長を乱す色フィルタと、
    前記レンズと前記リフレクタとの間の前記前方経路の一部に位置し、前記集束ビームパターンにおける上部影領域を生成して対向車両を保護する不透明なマスクと、
    前記マスクの少なくとも一部に接続された傾斜屈折率ガラスから構成されている透明基材とを含み、
    前記マスクは、前記集束ビームパターンにおける光・影境界を確立する最上縁を有し、
    前記マスクは、その前記最上縁に隣接する遷移領域を含み、前記遷移領域は、前記前方経路において限定された量の光が前記マスクを通過することを可能にし、
    それによって、前記光・影境界が視界を交差する時に対向車両が光強度の急激な変化に直面しないように、投射光の軌跡が前記集束ビームパターンにおける前記光・影境界よりも上に導かれる、低グレアのプロジェクタ型ヘッドライト・アセンブリ。
18. 可視光を投射する光源と、
    前記光源に隣接し、概ね前方経路に前記光を導くリフレクタと、
    前記前方経路に位置し、前記光を集束ビームパターンに変換し、前記光経路における光エネルギの選択的な波長を乱す色フィルタリング材料を含む光学レンズと、
    前記レンズと前記リフレクタとの間の前記前方経路の一部に位置し、前記集束ビームパターンにおける上部影領域を生成して対向車両を保護する不透明なマスクと、
    前記マスクの少なくとも一部に接続された傾斜屈折率ガラスから構成されている透明基材とを含み、
    前記マスクは、前記集束ビームパターンにおいて光・影境界を確立する最上縁を有し、
    前記マスクは、その前記最上縁に隣接する遷移領域を含み、前記遷移領域は、前記前方経路において限定された量の光が前記マスクを通過することを可能にし、
    それによって、前記光・影境界が視界を交差する時に対向車両が光強度の急激な変化に直面しないように、投射光の軌跡が前記集束ビームパターンにおける前記光・影境界よりも上に導かれる、低グレアのプロジェクタ型ヘッドライト・アセンブリ。

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