JP4935982B2 - 光配向膜用組成物、光学異方体及びその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、液晶表示素子や光学異方体の液晶配向膜として有用な光配向膜用組成物に関し、更に該光配向膜用組成物からなる光配向膜を使用した光学異方体、及び、その製造方法に関する。
液晶表示装置においては、液晶の分子配列の状態を電場等の作用によって変化させて、これに伴う光学特性の変化を表示に利用している。多くの場合、液晶は二枚の基板の間隙に注入して用いられるが、この液晶分子を特定の方向に配列させるために、基板の内側に液晶配向膜を配置する。
また最近では、液晶セルと偏光板との間に光学異方体の一種である光学補償シート（位相差板）として、重合性液晶材料を配向させた状態で硬化させて得た光学異方体が使用されるようになり、該重合性液晶材料を配向させる材料としても液晶配向膜が使用される。
また最近では、液晶セルと偏光板との間に光学異方体の一種である光学補償シート（位相差板）として、重合性液晶材料を配向させた状態で硬化させて得た光学異方体が使用されるようになり、該重合性液晶材料を配向させる材料としても液晶配向膜が使用される。
従来液晶配向膜としては、ポリイミド等の高分子の膜を一方向に布等で摩擦したラビング膜が使用される。しかしながら、ラビング法では機械的に擦ることによる高分子膜表面の微細な傷が、液晶配向欠陥の原因となったり、ラビング時の押し付け圧の不均一性などにより、配向ムラが生じたりすることで、液晶素子の精細度が低下するという問題がある。
また、光学補償シート（位相差板）は、広波長帯域化や視野角安定性を高精度化させる目的で使用する場合も多く、その場合は、例えば１／４波長板と１／２波長板との積層体、あるいは、Ａ−プレートとＣ−プレートとの積層体が使用される。しかし、該積層体を製造する方法、即ち液晶配向膜層を作成後、重合性液晶層を硬化させる工程を繰り返す場合、重合性液晶層をラビングで作成したのでは、装置が非常に大がかりとなり、連続的に作成することができない。従って、液晶配向膜、及び液晶層の全ての積層工程を連続的に行うことができるような、液晶配向膜を得る方法が求められている。
また、光学補償シート（位相差板）は、広波長帯域化や視野角安定性を高精度化させる目的で使用する場合も多く、その場合は、例えば１／４波長板と１／２波長板との積層体、あるいは、Ａ−プレートとＣ−プレートとの積層体が使用される。しかし、該積層体を製造する方法、即ち液晶配向膜層を作成後、重合性液晶層を硬化させる工程を繰り返す場合、重合性液晶層をラビングで作成したのでは、装置が非常に大がかりとなり、連続的に作成することができない。従って、液晶配向膜、及び液晶層の全ての積層工程を連続的に行うことができるような、液晶配向膜を得る方法が求められている。
このような問題を解決するために、近年ラビングを行わない液晶配向膜作製技術が注目されている。とりわけ、基板上に設けた膜に何らかの異方性を有する光を照射することで液晶の配向を得る光配向法は、量産性に優れ、大型の基板にも対応できることから実用化が期待されている。
このような光配向膜となり得るものとしてはアゾベンゼン誘導体のように光異性化反応をする化合物、シンナメート、クマリン、カルコン等の光二量化反応を生じる部位を有する化合物やポリイミドなど異方的な光分解を生じる化合物がある。
このような光配向膜となり得るものとしてはアゾベンゼン誘導体のように光異性化反応をする化合物、シンナメート、クマリン、カルコン等の光二量化反応を生じる部位を有する化合物やポリイミドなど異方的な光分解を生じる化合物がある。
現在最も低照射量の異方性を有する光で再配向し（以下、感度と称す）、液晶配向能に優れる光配向膜材料としては、例えば、下記構造式で表されるようなアゾ化合物が知られている（例えば特許文献１参照）。該アゾ構造を有する化合物は、例えば５００ｍＪ／ｃｍ２の低照射量で液晶配向能力を示す。
しかし該アゾ化合物を使用した光配向膜は低分子化合物であるため、液晶セル製造段階で使用するシール剤等の接着部材で侵されることがあった。また、該光配向膜と重合性液晶層の積層を繰り返すような積層された光学異方体の製造においては、光配向膜上に重合性液晶組成物溶液を塗布する工程や、重合性液晶層上に光配向膜用組成物溶液を塗布する工程を有するが、これらの塗布溶液に使用する溶剤等によって、既に作成後の液晶配向膜層や重合性液晶層が侵されることもあり、膜のはがれ、あるいは均一な光学特性が得られないことがあった。また、液晶セル製造段階、あるいは、重合性液晶材料を配向させた状態で硬化させて光学異方層を得た後工程にもたらされる高温によって光学異方層が劣化し、光学特性が劣化するという問題があった。
しかし該アゾ化合物を使用した光配向膜は低分子化合物であるため、液晶セル製造段階で使用するシール剤等の接着部材で侵されることがあった。また、該光配向膜と重合性液晶層の積層を繰り返すような積層された光学異方体の製造においては、光配向膜上に重合性液晶組成物溶液を塗布する工程や、重合性液晶層上に光配向膜用組成物溶液を塗布する工程を有するが、これらの塗布溶液に使用する溶剤等によって、既に作成後の液晶配向膜層や重合性液晶層が侵されることもあり、膜のはがれ、あるいは均一な光学特性が得られないことがあった。また、液晶セル製造段階、あるいは、重合性液晶材料を配向させた状態で硬化させて光学異方層を得た後工程にもたらされる高温によって光学異方層が劣化し、光学特性が劣化するという問題があった。
該アゾ化合物を固定化する目的で、該化合物をアクリレート化した化合物が知られている。（特許文献２参照）該化合物を配向後、重合させた光配向膜は耐光性に優れる。しかし、アクリレート化したために感度が下がってしまい、低照射量で再配向させることが困難であった。また、該アゾ化合物を使用した光配向性重合性組成物層と、重合性液晶組成物層との積層膜を基板上に形成し、該重合性基を有する液晶組成物を配向させた状態で、両層を重合させたことを特徴とする光学異方体も知られている（特許文献３，４参照）。該方法は、光配向膜層と液晶重合体層との両層間に結合関係を導入でき、密着性及び耐久性に優れた光学異方体を得る好ましい方法である。しかし、該アクリレート化したアゾ化合物を使用しているので、感度が低いという問題は解決できていない。また、該アゾ化合物を使用した光学異方体も、該光配向膜と重合性液晶層の積層を繰り返すような積層された光学異方体の製造において、膜のはがれ、あるいは均一な光学特性が得られないことがあった。
発明が解決しようとする課題は、感度が高く、且つ、セル製造過程で使用するような接着部材、あるいは、接着部材や重合性液晶組成物溶液や配向膜溶液等に使用する有機溶剤に侵されることのない光配向膜のための光配向膜用組成物、該光配向膜用組成物からなる光配向膜を使用した、有機溶剤等に侵されることのない光学異方体、及び、その製造方法を提供することにある。
本発明者らは、前記構造式で表されるような感度の高いアゾ化合物に、該アゾ化合物と相溶するような重合性化合物を添加した光配向膜用組成物が上記課題を解決できることを見いだした。
一般に、塗膜等の耐有機溶剤性を上げる方法として塗膜の架橋密度を高める方法が知られているが、前記アゾ化合物に通常知られている（メタ）アクリレート等を混和したのでは、前記アゾ化合物の感度や液晶配向能が著しく劣ってしまうことがあった。
本発明者らは、感度を下げずに耐有機溶剤性（以下、耐溶剤性とする）を上げる方法として、前記アゾ化合物と相溶するような親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を添加することが、最も効果的であることを見いだした。
親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物は、前記アゾ化合物と相溶し、反応前は分子容が小さいので化合物の自由体積を妨げない。前記アゾ化合物は、光異性化の構造変化に要する自由体積を維持できるので、感度や液晶配向能をそのまま保つことができる。一方、親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を重合後は、重合物である（メタ）アクリル樹脂で前記アゾ化合物の周囲が囲まれることになり、前記アゾ化合物は光異性化反応に必要な自由体積を奪われてしまうので、有機溶剤等により配向性が乱れたり、はがれが生じたりすることがない。親水性基を有することで基板との密着性にも優れるため、基板との界面剥離に対しても効果を示す。
あるいは、光学異方体を作製する場合には、親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物が重合性液晶と重合して一体化し、さらに親水性基を有することで基板との密着性にも優れるため、有機溶剤等により配向性が乱れたり、はがれが生じたりすることがない光学異方体を作製することができる。
一般に、塗膜等の耐有機溶剤性を上げる方法として塗膜の架橋密度を高める方法が知られているが、前記アゾ化合物に通常知られている（メタ）アクリレート等を混和したのでは、前記アゾ化合物の感度や液晶配向能が著しく劣ってしまうことがあった。
本発明者らは、感度を下げずに耐有機溶剤性（以下、耐溶剤性とする）を上げる方法として、前記アゾ化合物と相溶するような親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を添加することが、最も効果的であることを見いだした。
親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物は、前記アゾ化合物と相溶し、反応前は分子容が小さいので化合物の自由体積を妨げない。前記アゾ化合物は、光異性化の構造変化に要する自由体積を維持できるので、感度や液晶配向能をそのまま保つことができる。一方、親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を重合後は、重合物である（メタ）アクリル樹脂で前記アゾ化合物の周囲が囲まれることになり、前記アゾ化合物は光異性化反応に必要な自由体積を奪われてしまうので、有機溶剤等により配向性が乱れたり、はがれが生じたりすることがない。親水性基を有することで基板との密着性にも優れるため、基板との界面剥離に対しても効果を示す。
あるいは、光学異方体を作製する場合には、親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物が重合性液晶と重合して一体化し、さらに親水性基を有することで基板との密着性にも優れるため、有機溶剤等により配向性が乱れたり、はがれが生じたりすることがない光学異方体を作製することができる。
更に本発明者らは、前記化合物と親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物との混合物に、更に特定の化合物を添加することで、耐熱性をも向上させることを見いだした。該組成物を光配向膜用の組成物として使用することで、有機溶剤に侵されることなく、且つ、耐熱性に優れた光配向膜、または光学異方体を作成することができる。
即ち本発明は、一般式（１）で表される化合物、及び、親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を含有する光配向膜用組成物を提供する。
（式中、Ｒ１およびＲ２は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ５（ただしＲ５は、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数３〜６のシクロアルキル基又は炭素原子数１〜６のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）、炭素原子数１〜４のヒドロキシルアルキル基、−ＣＯＮＲ６Ｒ７（ただしＲ６及びＲ７は、各々独立して水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）、又はメトキシカルボニル基を表し、Ｒ３およびＲ４は各々独立して、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、スルホ基若しくはそのアルカリ金属塩、ニトロ基、アミノ基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、又はヒドロキシル基を表す。）
また本発明は、液晶配向膜上に作成した重合性液晶組成物膜を配向させた状態で重合させて得られる光学異方体であって、該液晶配向膜が前記記載の光配向膜用組成物を配向させて得られたものである光学異方体を提供する。
また本発明は、基板上に前記記載の光配向膜用組成物の膜を作成する工程１と、前記光配向膜用組成物の膜上に重合性液晶組成物膜を作成する工程２と、異方性を有する光を照射して、一般式（１）で表される化合物及び液晶分子を配向させながら親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物と重合性液晶組成物を重合させる工程３を、この順に行う光学異方体の製造方法を提供する。
また本発明は、基板上に前記記載の光配向膜用組成物の膜を作成する工程１と、前記光配向膜用組成物の膜に異方性を有する光を照射して一般式（１）で表される化合物を配向させる工程２と、前記光配向膜用組成物の膜上に重合性液晶組成物膜を作成する工程３と、熱又は光により親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物と重合性液晶組成物を重合させる工程４を、この順に行う光学異方体の製造方法を提供する。
また本発明は、基板上に前記記載の光配向膜用組成物の膜を作成する工程１と、前記光配向膜用組成物の膜に異方性を有する光を照射して一般式（１）で表される化合物を配向させる工程２と、親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を熱又は光により重合させる工程３と、前記光配向膜用組成物の膜上に重合性液晶組成物膜を作成する工程４と、熱又は光により重合性液晶組成物を重合させる工程５を、この順に行う光学異方体の製造方法を提供する。
また本発明は、基板上に前記記載の光配向膜用組成物の膜を作成する工程１と、前記光配向膜用組成物の膜に異方性を有する光を照射して一般式（１）で表される化合物を配向させながら親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を重合させる工程２と、前記光配向膜用組成物の膜上に重合性液晶組成物を塗布し配向させる工程３と、熱又は光により重合性液晶組成物を重合させる工程４を、この順に行う光学異方体の製造方法を提供する。
本発明の光配向膜用組成物を使用することで、感度が高く、且つ、セル製造過程で使用するような接着部材、あるいは、接着部材、重合性液晶組成物溶液、配向膜溶液等に使用する有機溶剤に侵されることのない光配向膜、及び、該光配向膜を使用した、有機溶剤等に侵されることのない光学異方体が得られる。
（一般式（１）で表される化合物）
一般式（１）において、Ｒ１およびＲ２は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ５（ただしＲ５は、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数３〜６のシクロアルキル基又は炭素原子数１〜６のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）、炭素原子数１〜４のヒドロキシルアルキル基、−ＣＯＮＲ６Ｒ７（ただしＲ６及びＲ７は、各々独立して水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）、又はメトキシカルボニル基を表す。
一般式（１）において、Ｒ１およびＲ２は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ５（ただしＲ５は、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数３〜６のシクロアルキル基又は炭素原子数１〜６のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）、炭素原子数１〜４のヒドロキシルアルキル基、−ＣＯＮＲ６Ｒ７（ただしＲ６及びＲ７は、各々独立して水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）、又はメトキシカルボニル基を表す。
ハロゲン原子としては、フッ素原子や塩素原子が挙げられる。カルボキシル基のアルカリ金属塩のアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられる。ハロゲン化メチル基としては、トリクロロメチル基やトリフルオロメチル基が挙げられる。ハロゲン化メトキシ基としては、クロロメトキシ基やトリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
Ｒ５の炭素原子数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、１−メチルエチル基等が挙げられる。Ｒ５で表される炭素原子数１〜６のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６のアルキル気としては、メトキシメチル基、１−エトキシエチル基、テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。
炭素原子数１〜４のヒドロキシルアルキル基としては、ヒドロキシルメチル基、１−ヒドロキシルエチル基、２−ヒドロキシルエチル基、１−ヒドロキシルプロピル基、２−ヒドロキシルプロピル基、３−ヒドロキシルプロピル基、１−ヒドロキシルブチル基等が挙げられる。
Ｒ６及びＲ７で表される炭素原子数１〜６のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、１−メチルエチル基等が挙げられる。
これらの中でも、ハロゲン原子、カルボキシル基、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ヒドロキシルメチル基、カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、シアノ基が好ましく、カルボキシル基、ヒドロキシルメチル基、またはトリフルオロメチル基は良好な配向性が得られる点で特に好ましい。
Ｒ５の炭素原子数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、１−メチルエチル基等が挙げられる。Ｒ５で表される炭素原子数１〜６のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６のアルキル気としては、メトキシメチル基、１−エトキシエチル基、テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。
炭素原子数１〜４のヒドロキシルアルキル基としては、ヒドロキシルメチル基、１−ヒドロキシルエチル基、２−ヒドロキシルエチル基、１−ヒドロキシルプロピル基、２−ヒドロキシルプロピル基、３−ヒドロキシルプロピル基、１−ヒドロキシルブチル基等が挙げられる。
Ｒ６及びＲ７で表される炭素原子数１〜６のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、１−メチルエチル基等が挙げられる。
これらの中でも、ハロゲン原子、カルボキシル基、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ヒドロキシルメチル基、カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、シアノ基が好ましく、カルボキシル基、ヒドロキシルメチル基、またはトリフルオロメチル基は良好な配向性が得られる点で特に好ましい。
また、Ｒ１及びＲ２は、４，４‘−ビス（フェニルアゾ）ビフェニル骨格の両端のフェニレン基の、アゾ基からみてメタ位に置換していると、優れた光配向性が得られ特に好ましい。
Ｒ３およびＲ４は各々独立して、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、スルホ基若しくはそのアルカリ金属塩、ニトロ基、アミノ基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、又はヒドロキシル基を表す。カルボキシル基やスルホ基のアルカリ金属塩のアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられる。これらＲ３およびＲ４は、４，４’−ビス（フェニルアゾ）ビフェニル骨格の２、２’位に置換していると、優れた光配向性が得られ、特に好ましい。
一般式（１）におけるＲ３およびＲ４は、光配向性能やその他の特性に最も影響を与える部位であると推定され、Ｒ３およびＲ４に導入しうる置換基の種類や組合せにより、様々な特性が得られる。
前記Ｒ３およびＲ４がカルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、スルホ基若しくはそのアルカリ金属塩であると、ガラスやＩＴＯなどの透明電極に対して親和性が高く、基板表面に均一に光配向膜を形成することができるため好ましい。
また、前記Ｒ３およびＲ４がカルバモイル基、スルファモイル基であると、得られる光配向膜上に重合性液晶を重合させて得た光学異方体が高い耐熱性を示すので、耐熱性を必要とする用途に有用である。
前記Ｒ３およびＲ４がカルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、スルホ基若しくはそのアルカリ金属塩であると、ガラスやＩＴＯなどの透明電極に対して親和性が高く、基板表面に均一に光配向膜を形成することができるため好ましい。
また、前記Ｒ３およびＲ４がカルバモイル基、スルファモイル基であると、得られる光配向膜上に重合性液晶を重合させて得た光学異方体が高い耐熱性を示すので、耐熱性を必要とする用途に有用である。
前記一般式（１）で表される化合物は、単体でも、一般式（１）で表される化合物の範囲内のＲ１〜Ｒ４が各々異なる化合物を複数混合して使用してもよい。
複数混合使用する場合においては、Ｒ３およびＲ４がスルホ基若しくはそのアルカリ金属塩である化合物と、Ｒ３およびＲ４がカルバモイル基、スルファモイル基である化合物とを混合して使用すると、得られる光配向膜、及び光学異方体の、基板に対する密着性、及び耐熱性とを付与することができ好ましい。
複数混合使用する場合においては、Ｒ３およびＲ４がスルホ基若しくはそのアルカリ金属塩である化合物と、Ｒ３およびＲ４がカルバモイル基、スルファモイル基である化合物とを混合して使用すると、得られる光配向膜、及び光学異方体の、基板に対する密着性、及び耐熱性とを付与することができ好ましい。
特に、前記一般式（１）におけるＲ３およびＲ４がスルホ基若しくはそのアルカリ金属塩である化合物（１−１）と、一般式（２−１）で表される化合物とを含むことが好ましい。その場合、化合物（１−１）は、Ｒ１およびＲ２がカルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、ヒドロキシルメチル基、または、トリフルオロメチル基であることが好ましく、カルボキシル基またはそのアルカリ金属塩、またはヒドロキシルメチル基が更に好ましく、カルボキシル基またはそのアルカリ金属塩が特に好ましい。
（一般式（２−１）で表される化合物）
一般式（２−１）中、Ｒ11、Ｒ12は、各々独立して、ヒドロキシル基、又は（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、ビニルオキシ基、及びマレイミド基からなる群から選ばれる重合性官能基を表す。
Ｘ11は、Ｒ11がヒドロキシル基の場合、単結合を表し、Ｒ11が重合性官能基の場合、−（Ａ１−Ｂ１）ｍ−で表される連結基を表し、
Ｘ12は、Ｒ12がヒドロキシル基の場合、単結合を表し、Ｒ12が重合性官能基の場合、−（Ａ２−Ｂ２）ｎ−で表される連結基を表す。ここで、Ａ１はＲ11に結合するものとし、Ａ２はＲ1２に結合するものとする。
Ａ１及びＡ２は各々独立して単結合、又は二価の炭化水素基を表し、Ｂ１及びＢ２は各々独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−、又は−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−を表す。ｍ及びｎは各々独立して０〜４の整数を表す。但し、ｍ又はｎが２以上のとき、複数あるＡ１、Ｂ１，Ａ２及びＢ２は同じであっても異なっていても良い。但し、二つのＢ１又はＢ２の間に挟まれたＡ１又はＡ２は、単結合ではないものとする。
Ｒ13およびＲ14は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ17（ただしＲ17は、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数３〜６のシクロアルキル基又は炭素原子数１〜６のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）、炭素原子数１〜４のヒドロキシルアルキル基、又は−ＣＯＮＲ18Ｒ19（Ｒ18及びＲ19は、各々独立して水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）、またはメトキシカルボニル基を表す。
Ｒ15およびＲ16は各々独立して、カルバモイル基、又はスルファモイル基を表す。
Ｘ11は、Ｒ11がヒドロキシル基の場合、単結合を表し、Ｒ11が重合性官能基の場合、−（Ａ１−Ｂ１）ｍ−で表される連結基を表し、
Ｘ12は、Ｒ12がヒドロキシル基の場合、単結合を表し、Ｒ12が重合性官能基の場合、−（Ａ２−Ｂ２）ｎ−で表される連結基を表す。ここで、Ａ１はＲ11に結合するものとし、Ａ２はＲ1２に結合するものとする。
Ａ１及びＡ２は各々独立して単結合、又は二価の炭化水素基を表し、Ｂ１及びＢ２は各々独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−、又は−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−を表す。ｍ及びｎは各々独立して０〜４の整数を表す。但し、ｍ又はｎが２以上のとき、複数あるＡ１、Ｂ１，Ａ２及びＢ２は同じであっても異なっていても良い。但し、二つのＢ１又はＢ２の間に挟まれたＡ１又はＡ２は、単結合ではないものとする。
Ｒ13およびＲ14は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ17（ただしＲ17は、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数３〜６のシクロアルキル基又は炭素原子数１〜６のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）、炭素原子数１〜４のヒドロキシルアルキル基、又は−ＣＯＮＲ18Ｒ19（Ｒ18及びＲ19は、各々独立して水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）、またはメトキシカルボニル基を表す。
Ｒ15およびＲ16は各々独立して、カルバモイル基、又はスルファモイル基を表す。
前記一般式（２−１）で表される化合物のうち、Ｒ11およびＲ12がヒドロキシル基である化合物は、前記一般式（１）の範囲内の化合物である。
前記一般式（２−１）で表される化合物は、単体でも、一般式（２−１）で表される化合物の範囲内の異なる化合物を複数混合して使用してもよい。
前記一般式（２−１）で表される化合物のうち、Ｒ11およびＲ12がヒドロキシル基であり且つＲ13およびＲ14が炭素原子数１〜４のヒドロキシルアルキル基である化合物が好ましく、Ｒ11およびＲ12がヒドロキシル基であり且つＲ13およびＲ14がヒドロキシルメチル基である化合物が特に好ましい。
前記一般式（２−１）で表される化合物は、単体でも、一般式（２−１）で表される化合物の範囲内の異なる化合物を複数混合して使用してもよい。
前記一般式（２−１）で表される化合物のうち、Ｒ11およびＲ12がヒドロキシル基であり且つＲ13およびＲ14が炭素原子数１〜４のヒドロキシルアルキル基である化合物が好ましく、Ｒ11およびＲ12がヒドロキシル基であり且つＲ13およびＲ14がヒドロキシルメチル基である化合物が特に好ましい。
また、前記一般式（２−１）で表される化合物の代わりに、一般式（２−２）で表される化合物や、置換基としてヒドロキシル基を有するトリフェニレン（２−３）を添加しても、同様の効果を得ることができる。なお、前記一般式（２−１）で表される化合物、一般式（２−２）で表される化合物、及び一般式（２−３）で表される化合物を総称して、化合物（２）とする。
一般式（２−２）で表される化合物としてはＲ21およびＲ22が、各々独立して、水素原子、メチル基、あるいはメトキシ基であるものが好ましい。
一般式（２−２）で表される化合物としてはＲ21およびＲ22が、各々独立して、水素原子、メチル基、あるいはメトキシ基であるものが好ましい。
（一般式（２−２）で表される化合物）
一般式（２−２）中、Ｒ21およびＲ22は各々独立して、水素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基あるいは炭素原子数１〜６のアルコキシ基を表し、Ａ11及びＡ12は各々独立して、置換基としてアミノ基及びスルホ基若しくはそのアルカリ金属塩を有するナフタレン環、又は、置換基としてアミノ基及びスルホ基若しくはそのアルカリ金属塩を有するベンゼン環を表す。
前記一般式（２−２）で表される化合物は、単体でも、一般式（２−２）で表される化合物の範囲内の異なる化合物を複数混合して使用してもよい。
前記一般式（２−２）で表される化合物は、単体でも、一般式（２−２）で表される化合物の範囲内の異なる化合物を複数混合して使用してもよい。
（置換基としてヒドロキシル基を有するトリフェニレン（２−３））
置換基としてヒドロキシル基を有するトリフェニレン（２−３）において、置換基であるヒドロキシル基の数は特に限定はないが、３〜６が好ましく、６が最も好ましい。
置換基としてヒドロキシル基を有するトリフェニレン（２−３）において、置換基であるヒドロキシル基の数は特に限定はないが、３〜６が好ましく、６が最も好ましい。
これらの、前記一般式（２−１）で表される化合物、前記一般式（２−２）で表される化合物、及び、前記置換基としてヒドロキシル基を有するトリフェニレン（２−３）からなる群から選ばれる少なくとも１つの化合物（２）は、前記化合物（１−１）と、前記化合物（２）との比率が、１：０．２〜１：５の範囲となるように添加するのが好ましく、更に好ましくは１：０．５〜１：２の範囲が好ましい。
本発明で使用する一般式（１）で表される化合物の例としては、例えば、下記構造の化合物が挙げられる。
本発明で使用する一般式（２−１）で表される化合物の例としては、例えば、下記構造の化合物が挙げられる。
本発明で使用する一般式（２−２）で表される化合物の例としては、例えば、下記構造の化合物が挙げられる。
本発明で使用する前記置換基としてヒドロキシル基を有するトリフェニレン（２−３）の例としては、例えば、下記構造の化合物が挙げられる。
一般式（１）で表される化合物は、水あるいは極性有機溶媒に高い溶解性を示し、かつガラス等に対して良好な親和性を示す。該化合物を水あるいは極性有機溶媒に溶解してなる光配向膜用組成物を、ガラス等の基板に塗布した後、水あるいは極性有機溶媒を除去するだけで、基板上に一様で、かつ安定な光配向膜用膜を形成することができる。
（親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物）
本発明で使用する親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物の親水性基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、アミノ基等が挙げられる。中でも、ヒドロキシル基あるいはカルボキシル基を有する（メタ）アクリレートが、一般式（１）で表される化合物と混和性がよく好ましい。１分子あたりの（メタ）アクリロイルオキシ基の数には特に制限はなく、１つでも２つ以上でも良い。（メタ）アクリロイルオキシ基数の実用的な範囲としては、１〜６であり、１〜４が好ましい。
また、光配向膜や光学異方体の製造時にかかる乾燥時等の熱を考慮すると、使用する親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物の１気圧下における沸点は１００℃以上であることが好ましい。
また、分子量及び粘度については、通常本発明の光配向膜用組成物は溶媒で希釈して使用するため特に限定はないが、分子量の好ましい範囲としては数平均分子量１００〜５０００であり１５０〜２０００の範囲が実用的であり好ましい。
本発明で使用する親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物の親水性基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、アミノ基等が挙げられる。中でも、ヒドロキシル基あるいはカルボキシル基を有する（メタ）アクリレートが、一般式（１）で表される化合物と混和性がよく好ましい。１分子あたりの（メタ）アクリロイルオキシ基の数には特に制限はなく、１つでも２つ以上でも良い。（メタ）アクリロイルオキシ基数の実用的な範囲としては、１〜６であり、１〜４が好ましい。
また、光配向膜や光学異方体の製造時にかかる乾燥時等の熱を考慮すると、使用する親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物の１気圧下における沸点は１００℃以上であることが好ましい。
また、分子量及び粘度については、通常本発明の光配向膜用組成物は溶媒で希釈して使用するため特に限定はないが、分子量の好ましい範囲としては数平均分子量１００〜５０００であり１５０〜２０００の範囲が実用的であり好ましい。
ヒドロキシル基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物としては、ヒドロキシル基を２つ以上有するものが、親水性が高く特に好ましい。
具体例としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート等のモノグリシジルエーテルや、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ヒドロキシルピバリン酸ネオペンチルグリコール、ビスフェノールＡ、エトキシ化ビスフェノールＡ等の２価アルコールのジグリシジルエーテルや、トリメチロールプロパン、エトキシ化トリメチロールプロパン、プロポキシ化トリメチロールプロパン、グリセリン等の３価アルコールのトリグリシジルエーテル、少なくとも１個の芳香環または脂環を有する多価フェノール（なお、ここでいう多価フェノールとは、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ等のビスフェノール化合物又はビスフェノール化合物のアルキレンオキサイド付加体、フェノールノボラック、クレゾールノボラック等またはそのアルキレンオキサイド付加体等を例として挙げることが出来る）のポリグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル化合物のグリシジル基に、（メタ）アクリル酸を反応させて得たエポキシ（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリス２―ヒドロキシルエチルイソシアヌレートジ（メタ）アクリレート等の、ポリオールのヒドロキシル基の一部に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるアルコール性（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
具体例としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート等のモノグリシジルエーテルや、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ヒドロキシルピバリン酸ネオペンチルグリコール、ビスフェノールＡ、エトキシ化ビスフェノールＡ等の２価アルコールのジグリシジルエーテルや、トリメチロールプロパン、エトキシ化トリメチロールプロパン、プロポキシ化トリメチロールプロパン、グリセリン等の３価アルコールのトリグリシジルエーテル、少なくとも１個の芳香環または脂環を有する多価フェノール（なお、ここでいう多価フェノールとは、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ等のビスフェノール化合物又はビスフェノール化合物のアルキレンオキサイド付加体、フェノールノボラック、クレゾールノボラック等またはそのアルキレンオキサイド付加体等を例として挙げることが出来る）のポリグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル化合物のグリシジル基に、（メタ）アクリル酸を反応させて得たエポキシ（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリス２―ヒドロキシルエチルイソシアヌレートジ（メタ）アクリレート等の、ポリオールのヒドロキシル基の一部に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるアルコール性（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
カルボキシル基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物は、カルボキシル基の親水性が十分高いことから、１分子あたりのカルボキシル基の数に特に制限はなく、１つでも２つ以上でも良い。しかしカルボキシル基の数が増えていくと溶剤に対する溶解性が悪くなり、化合物の結晶性も高くなるので、接着部材あるいは溶剤に対する耐性が悪化しない範囲でカルボキシル基の数は少ないものが好ましい。特に芳香環に直結したカルボキシル基を持つ化合物の場合は１分子あたりのカルボキシル基の数は２以下が好ましい。
具体的には、例えば、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタレート、２−アクリロイルオキシエチルフタレート、２−メタクリロイルオキシエチルフタレート、エチレンオキサイド変性琥珀酸アクリレート等の、カルボキシル基及び一分子中に少なくとも１つ以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物や、２−ヒドロキシルエチル（メタ）アクリレ−トの等のヒドロキシル基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物に無水フタル酸等の酸無水物を付加させて得られる化合物や、末端に（メタ）アクリロイルオキシ基が導入されたアルキル（オキシ）基を置換基に有する安息香酸誘導体が挙げられる。
前記安息香酸誘導体の場合、置換基である末端に（メタ）アクリロイルオキシ基が導入されたアルキル（オキシ）基の数は１つでもそれ以上でも良いが、１〜３が合成の容易さの面から好ましい。また、複数の末端に（メタ）アクリロイルオキシ基が導入されたアルキル（オキシ）基を導入する場合には、置換する位置として分子の対称性を低くするような位置を選択することが、結晶性を高くしすぎないという面で好ましい。具体的には、２−（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸、２，３−ジ（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸、２，４−ジ（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸、２，５−ジ（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸、３−（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸、３，４−ジ（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸、４−（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸で、アルキル鎖のメチレン基の数が１〜１４のものが挙げられる。特にメチレン基の数が２〜１０のものがさらに好ましい。
前記安息香酸誘導体の場合、置換基である末端に（メタ）アクリロイルオキシ基が導入されたアルキル（オキシ）基の数は１つでもそれ以上でも良いが、１〜３が合成の容易さの面から好ましい。また、複数の末端に（メタ）アクリロイルオキシ基が導入されたアルキル（オキシ）基を導入する場合には、置換する位置として分子の対称性を低くするような位置を選択することが、結晶性を高くしすぎないという面で好ましい。具体的には、２−（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸、２，３−ジ（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸、２，４−ジ（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸、２，５−ジ（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸、３−（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸、３，４−ジ（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸、４−（ω−（メタ）アクリロイルオキシアルキル（オキシ））安息香酸で、アルキル鎖のメチレン基の数が１〜１４のものが挙げられる。特にメチレン基の数が２〜１０のものがさらに好ましい。
カルボキシル基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物の市販品としては、例えば共栄社化学（株）社製の商品名「ライトアクリレートＨＯＡＨＨ」、「ライトアクリレートＨＯＨＨ」、「ライトアクリレートＨＯＭＰＬ」、「ライトアクリレートＨＯＭＰＰ」、「ライトアクリレートＨＯＡ−ＭＳ」などが挙げられる。
前記親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物は、１種類で使用してもよく２種類以上混合して使用してもよい。
また、前記親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物は親水性が高いため、一般式（１）で表される化合物との相溶性は良好であるが、まれに結晶化が生じる組み合わせがある。その場合、平滑な膜が得られないため配向規制力に影響が生じるおそれがあるので、配合した状態で結晶性が著しく高くならないような前記親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物と一般式（１）で表される化合物との組み合わせが好ましい。結晶化の有無は、例えば、光学的観察や分光分析、散乱実験等により判断が可能である。
また、前記親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物は親水性が高いため、一般式（１）で表される化合物との相溶性は良好であるが、まれに結晶化が生じる組み合わせがある。その場合、平滑な膜が得られないため配向規制力に影響が生じるおそれがあるので、配合した状態で結晶性が著しく高くならないような前記親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物と一般式（１）で表される化合物との組み合わせが好ましい。結晶化の有無は、例えば、光学的観察や分光分析、散乱実験等により判断が可能である。
前記一般式（１）で表される化合物と親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物との配合比は特に限定はないが、該化合物の添加量があまりに少なすぎると十分な配向規制力が得られない可能性があり、親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物の添加量があまりに少なすぎると接着部剤あるいは溶剤に対する耐性が十分得られない可能性があるので、通常は親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物は、組成物中の全不揮発分に対して１０〜９０質量％の範囲が好ましく、２０〜８５質量％の範囲がなお好ましく、２０〜８０質量％の範囲がさらに好ましく、３０〜８０質量％の範囲が特に好ましい。また、配合した状態で結晶性が著しく高くならないような前記一般式（１）で表される化合物と親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物の配合比にするのが好ましい。
本発明の光配向膜用組成物を使用した光配向膜は、ネマチック液晶等の表示素子用として使用する汎用の液晶の配向膜として、あるいは、光学異方体作成時に使用する重合性液晶組成物の配向膜として、好適に使用することができる。
（溶剤）
本発明で使用する光配向膜用組成物は、塗布性を良好にする目的で、通常溶媒を使用する。溶媒に使用する溶剤としては、特に限定はないが、前記化合物が良好な溶解性を示す溶媒を使用するのが好ましい。例えば、メタノール、エタノール等のアルコール系溶剤、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−ブタンジオール等のジオール系溶剤、テトラヒドロフラン、２−メトキシエターノール、２−ブトキシエタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール等のエーテル系溶剤、２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤、γ−ブチロラクトン、クロロベンゼン、ジメチルスルホキシド、等が挙げられる。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。また、本発明の効果を損なわない範囲で、公知慣用の添加剤を添加してもよい。
通常、固形分比が０．２質量％以上となるように調製する。中でも０．５〜１０質量％となるように調製することが好ましい。
本発明で使用する光配向膜用組成物は、塗布性を良好にする目的で、通常溶媒を使用する。溶媒に使用する溶剤としては、特に限定はないが、前記化合物が良好な溶解性を示す溶媒を使用するのが好ましい。例えば、メタノール、エタノール等のアルコール系溶剤、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−ブタンジオール等のジオール系溶剤、テトラヒドロフラン、２−メトキシエターノール、２−ブトキシエタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール等のエーテル系溶剤、２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤、γ−ブチロラクトン、クロロベンゼン、ジメチルスルホキシド、等が挙げられる。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。また、本発明の効果を損なわない範囲で、公知慣用の添加剤を添加してもよい。
通常、固形分比が０．２質量％以上となるように調製する。中でも０．５〜１０質量％となるように調製することが好ましい。
（添加剤）
本発明で使用する光配向膜用組成物を均一に塗布し、膜厚の均一な光配向膜を得るために、汎用の添加剤を使用することもできる。例えば、レベリング剤、チキソ剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、表面処理剤、等の添加剤を液晶の配向能を著しく低下させない程度添加することができる。
本発明で使用する光配向膜用組成物を均一に塗布し、膜厚の均一な光配向膜を得るために、汎用の添加剤を使用することもできる。例えば、レベリング剤、チキソ剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、表面処理剤、等の添加剤を液晶の配向能を著しく低下させない程度添加することができる。
（光配向膜、光配向膜を有する光学異方体あるいは光学素子の製造方法）
本発明の光配向膜用組成物を使用して光配向膜を得るには、該光配向膜用組成物を基板上に塗布乾燥した後に、紫外線、あるいは、可視光線等の異方性を有する光を照射し、一般式（１）で表される化合物を配向させる。同時に、又はその後、光または熱により親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を重合させることで、光配向膜を得ることができる。
本発明の光配向膜用組成物を使用して光配向膜を得るには、該光配向膜用組成物を基板上に塗布乾燥した後に、紫外線、あるいは、可視光線等の異方性を有する光を照射し、一般式（１）で表される化合物を配向させる。同時に、又はその後、光または熱により親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を重合させることで、光配向膜を得ることができる。
（塗布、基板）
本発明で使用する光配向膜用組成物を、基板上にスピンコーティング法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット法、ダイコーティング法、キャップコーティング法、ディッピング法等、公知慣用の方法によって塗布または印刷し、乾燥させて膜を得る。使用する基板は、液晶表示素子や光学異方体に通常用いられる基板であって、光配向膜用組成物溶液の塗布後の乾燥時、あるいは液晶素子製造時における加熱に耐えうる耐溶剤性と耐熱性を有する材料であれば、特に制限はない。そのような基板としては、ガラス基板、セラミックス基板、金属基板や高分子材料基板、等が挙げられる。高分子材料基板としては、セルロース誘導体、ポリシクロオレフィン誘導体、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリアリレート、ナイロン、ポリスチレン等を用いることができる。光配向膜用組成物の塗布性や接着性向上のために、これらの基板の表面処理を行っても良い。表面処理として、オゾン処理、プラズマ処理などが挙げられる。また、光の透過率や反射率を調節するために、基板表面に有機薄膜、無機酸化物薄膜や金属薄膜等を蒸着など方法によって設けても良い。
通常は、有機溶剤で希釈した溶液を塗布するので、塗布後は乾燥させ、光配向膜用膜を得る。乾燥させる場合は加熱乾燥が好ましい。
本発明で使用する光配向膜用組成物を、基板上にスピンコーティング法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット法、ダイコーティング法、キャップコーティング法、ディッピング法等、公知慣用の方法によって塗布または印刷し、乾燥させて膜を得る。使用する基板は、液晶表示素子や光学異方体に通常用いられる基板であって、光配向膜用組成物溶液の塗布後の乾燥時、あるいは液晶素子製造時における加熱に耐えうる耐溶剤性と耐熱性を有する材料であれば、特に制限はない。そのような基板としては、ガラス基板、セラミックス基板、金属基板や高分子材料基板、等が挙げられる。高分子材料基板としては、セルロース誘導体、ポリシクロオレフィン誘導体、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリアリレート、ナイロン、ポリスチレン等を用いることができる。光配向膜用組成物の塗布性や接着性向上のために、これらの基板の表面処理を行っても良い。表面処理として、オゾン処理、プラズマ処理などが挙げられる。また、光の透過率や反射率を調節するために、基板表面に有機薄膜、無機酸化物薄膜や金属薄膜等を蒸着など方法によって設けても良い。
通常は、有機溶剤で希釈した溶液を塗布するので、塗布後は乾燥させ、光配向膜用膜を得る。乾燥させる場合は加熱乾燥が好ましい。
（光異性化工程）
前記方法により得た光配向膜用膜に、異方性を有する光を照射して液晶配向機能を付与（以下、光異性化工程と略す）して、光異性化した光配向膜用膜を作成する。光異性化工程で使用する、異方性を有する光としては、直線偏光や楕円偏光等の偏光、もしくは基板面に対して斜めの方向から非偏光があげられる。偏光は直線偏光、楕円偏光のいずれでも良いが、効率よく光配向を行うためには、消光比の高い直線偏光を用いることが好ましい。
前記方法により得た光配向膜用膜に、異方性を有する光を照射して液晶配向機能を付与（以下、光異性化工程と略す）して、光異性化した光配向膜用膜を作成する。光異性化工程で使用する、異方性を有する光としては、直線偏光や楕円偏光等の偏光、もしくは基板面に対して斜めの方向から非偏光があげられる。偏光は直線偏光、楕円偏光のいずれでも良いが、効率よく光配向を行うためには、消光比の高い直線偏光を用いることが好ましい。
また、光照射装置において偏光を得るためには偏光フィルター等を用いる必要があるので、膜面に照射される光強度が減少するといった欠点があるが、膜面に対して斜め方向から非偏光を照射する方法では、照射装置に偏光フィルター等を必要とせず、大きな照射強度が得られ、光配向のための照射時間を短縮することができるという利点がある。このときの非偏光の入射角は基板法線に対して１０°〜８０°の範囲が好ましく、照射面における照射エネルギーの均一性、得られるプレチルト角、配向効率等を考慮すると、２０°〜６０°の範囲が更に好ましく、４５°が最も好ましい。
照射する光は、使用する化合物の光配向性基が吸収を有する波長領域の光であれば良い。例えば光配向性基がアゾベンゼン構造を有する場合は、アゾベンゼンのπ→π＊遷移による強い吸収がある、波長３３０〜５００ｎｍの範囲の紫外線が特に好ましい。
照射する光は、使用する化合物の光配向性基が吸収を有する波長領域の光であれば良い。例えば光配向性基がアゾベンゼン構造を有する場合は、アゾベンゼンのπ→π＊遷移による強い吸収がある、波長３３０〜５００ｎｍの範囲の紫外線が特に好ましい。
照射光の光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等の紫外光源、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レーザー、Ａｒイオンレーザー等の可視光レーザー等が挙げられる。特に光配向性基がアゾベンゼン構造を有する場合は、３６５ｎｍの紫外線の発光強度が特に大きい超高圧水銀ランプを有効に使用することができる。
前記光源からの光を偏光フィルターやグラントムソン、グランテ−ラ−等の偏光プリズムを通すことで紫外線の直線偏光を得ることができる。
また、偏光、非偏光のいずれを使用する場合でも、照射する光は、ほぼ平行光であることが特に好ましい。
前記光源からの光を偏光フィルターやグラントムソン、グランテ−ラ−等の偏光プリズムを通すことで紫外線の直線偏光を得ることができる。
また、偏光、非偏光のいずれを使用する場合でも、照射する光は、ほぼ平行光であることが特に好ましい。
また、偏光を照射する際に、フォトマスクを使用すれば、光配向膜にパターン状に２以上の異なった方向に液晶配向能を生じさせることができる。具体的には、本発明の光配向膜用組成物を塗布乾燥した後に、基板にフォトマスクを被せて全面に偏光もしくは非偏光を照射し、パターン状に露光部分に液晶配向能を与える。必要に応じてこれを複数回繰り返すことで、複数方向に液晶配向能を生じさせることができる。
さらに場合によっては、前記光異性化工程の後に光配向膜を冷却することもできる。冷却方法としては、光異性化した光配向膜用膜が冷却されればよく、例えば、コールドプレート、チャンバー、低温恒温器等、公知慣用の冷却装置で基板ごと冷却を行う。
冷却条件としては、冷却温度が２０℃で１分以上であるが、冷却温度が２０℃よりも低い場合は、その限りではない。冷却温度としては、用いる溶剤の融点以上であればよいが、通常、４０℃〜２０℃の範囲が好ましい。液晶配向機能が向上した、より安定な光配向膜を得るには１０℃以下が好ましく、冷却時間としては５分以上が好ましい。さらに冷却時間を短縮させるには冷却温度は５℃以下が好ましい。
また、結露防止のため、冷却をする際に乾燥空気や窒素、アルゴン雰囲気下で行ってもよいし、乾燥空気や窒素等を基板に吹きかけながら冷却してもよい。
冷却条件としては、冷却温度が２０℃で１分以上であるが、冷却温度が２０℃よりも低い場合は、その限りではない。冷却温度としては、用いる溶剤の融点以上であればよいが、通常、４０℃〜２０℃の範囲が好ましい。液晶配向機能が向上した、より安定な光配向膜を得るには１０℃以下が好ましく、冷却時間としては５分以上が好ましい。さらに冷却時間を短縮させるには冷却温度は５℃以下が好ましい。
また、結露防止のため、冷却をする際に乾燥空気や窒素、アルゴン雰囲気下で行ってもよいし、乾燥空気や窒素等を基板に吹きかけながら冷却してもよい。
（重合工程）
光配向膜として使用する場合は、光異性化工程後、親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を重合させる。この場合は、後述の光重合開始剤を添加しておくことが好ましい。重合方法は光照射又は熱でよいが、光照射で行う場合は、光異性化工程で得られた配向状態を乱さないようにするため、アゾベンゼン骨格が持つ吸収帯以外の波長で行われることが好ましいとされる。このような光は、具体的には３２０ｎｍ以下の紫外光であるが、３２０ｎｍ以下の紫外光により光配向膜及び重合性液晶組成物が分解などを引き起こす場合は、３２０ｎｍ以上の紫外光で重合処理を行ったほうが好ましい場合もある。
３２０ｎｍ以上の紫外光によって、既に得られたアゾベンゼン骨格の配向が乱されないようにするためには、通常は、アゾベンゼン骨格が有する光の吸収帯とは異なる光吸収波長帯域を持つ光重合開始剤を使用するのが好ましい。また、通常の光重合開始剤の吸収帯よりも長波長の光を吸収し、重合開始剤へのエネルギー移動を起こすことによって重合反応を誘起する化合物を混合しても良い。これらにより、光配向操作で固定されている光配向膜用組成物の配向状態を乱さずに、重合させることができる。一方、重合のための光を光配向操作と同じ方向から照射する場合や、アゾベンゼン骨格の吸収遷移モーメントと直交する偏波面を有する偏光照射を行えば、得られた配向状態を乱す恐れがないので、任意の波長を使用することができる。
例えば、光配向材料に光重合開始剤を添加しておき、光配向材料を配向させるような光を照射すると、光配向と光重合を同時に行うことができる。また、光配向を、重合阻害をおこすような雰囲気、例えば空気中で行うことにより、光配向のみ行い、その後、雰囲気を、重合阻害を及ぼさない、例えば、窒素中に変更することにより、光重合を開始させることもできる。この場合は、光配向の時の照射量を調整し、重合阻害の雰囲気で光配向を行っているうちに、すべての光重合開始剤を消費しないようにすることが好ましい。
光配向膜として使用する場合は、光異性化工程後、親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を重合させる。この場合は、後述の光重合開始剤を添加しておくことが好ましい。重合方法は光照射又は熱でよいが、光照射で行う場合は、光異性化工程で得られた配向状態を乱さないようにするため、アゾベンゼン骨格が持つ吸収帯以外の波長で行われることが好ましいとされる。このような光は、具体的には３２０ｎｍ以下の紫外光であるが、３２０ｎｍ以下の紫外光により光配向膜及び重合性液晶組成物が分解などを引き起こす場合は、３２０ｎｍ以上の紫外光で重合処理を行ったほうが好ましい場合もある。
３２０ｎｍ以上の紫外光によって、既に得られたアゾベンゼン骨格の配向が乱されないようにするためには、通常は、アゾベンゼン骨格が有する光の吸収帯とは異なる光吸収波長帯域を持つ光重合開始剤を使用するのが好ましい。また、通常の光重合開始剤の吸収帯よりも長波長の光を吸収し、重合開始剤へのエネルギー移動を起こすことによって重合反応を誘起する化合物を混合しても良い。これらにより、光配向操作で固定されている光配向膜用組成物の配向状態を乱さずに、重合させることができる。一方、重合のための光を光配向操作と同じ方向から照射する場合や、アゾベンゼン骨格の吸収遷移モーメントと直交する偏波面を有する偏光照射を行えば、得られた配向状態を乱す恐れがないので、任意の波長を使用することができる。
例えば、光配向材料に光重合開始剤を添加しておき、光配向材料を配向させるような光を照射すると、光配向と光重合を同時に行うことができる。また、光配向を、重合阻害をおこすような雰囲気、例えば空気中で行うことにより、光配向のみ行い、その後、雰囲気を、重合阻害を及ぼさない、例えば、窒素中に変更することにより、光重合を開始させることもできる。この場合は、光配向の時の照射量を調整し、重合阻害の雰囲気で光配向を行っているうちに、すべての光重合開始剤を消費しないようにすることが好ましい。
一方、熱による重合の場合は、８０〜２５０℃で行うのが好ましく、８０〜１６０℃が好ましい。この場合は、熱重合開始剤を添加しておくのが好ましい。
本発明で使用する光重合開始剤は公知慣用のものが使用できる。
３２０ｎｍ以下の紫外光で使用できる光重合開始剤としては１−ヒドロキシルシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア１８４」）、１−［４−（２−ヒドロキシルエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシル２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシル２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（メルク社製「ダロキュア１１７３」）などが挙げられる。
また、アゾベンゼン骨格が有する光の吸収帯とは異なる光吸収波長帯域を持つ光重合開始剤としては、例えば、特許第３０１６６０６号に記載の近赤外線吸収色素と有機ホウ素を組み合わせたもの等が挙げられる。
その他の光重合開始剤としては、例えば、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシル２−メチルプロパン−１−オン（メルク社製「ダロキュア１１１６」）、２−メチル−１−［（メチルチオ）フェニル］−２−モリホリノプロパン−１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア９０７」）。ベンジルメチルケタ−ル（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア６５１」）。２，４−ジエチルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬社製「カヤキュアＥＰＡ」）との混合物、イソプロピルチオキサントン（ワ−ドプレキンソップ社製「カンタキュア−ＩＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合物、アシルフォスフィンオキシド（ＢＡＳＦ社製「ルシリンＴＰＯ」）、などが挙げられる。光重合開始剤の使用量は重合性液晶化合物に対して１０質量％以下が好ましく、０．５〜５質量％が特に好ましい。
３２０ｎｍ以下の紫外光で使用できる光重合開始剤としては１−ヒドロキシルシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア１８４」）、１−［４−（２−ヒドロキシルエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシル２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシル２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（メルク社製「ダロキュア１１７３」）などが挙げられる。
また、アゾベンゼン骨格が有する光の吸収帯とは異なる光吸収波長帯域を持つ光重合開始剤としては、例えば、特許第３０１６６０６号に記載の近赤外線吸収色素と有機ホウ素を組み合わせたもの等が挙げられる。
その他の光重合開始剤としては、例えば、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシル２−メチルプロパン−１−オン（メルク社製「ダロキュア１１１６」）、２−メチル−１−［（メチルチオ）フェニル］−２−モリホリノプロパン−１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア９０７」）。ベンジルメチルケタ−ル（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア６５１」）。２，４−ジエチルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬社製「カヤキュアＥＰＡ」）との混合物、イソプロピルチオキサントン（ワ−ドプレキンソップ社製「カンタキュア−ＩＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合物、アシルフォスフィンオキシド（ＢＡＳＦ社製「ルシリンＴＰＯ」）、などが挙げられる。光重合開始剤の使用量は重合性液晶化合物に対して１０質量％以下が好ましく、０．５〜５質量％が特に好ましい。
また、熱重合の際に使用する熱重合開始剤としては公知慣用のものが使用でき、例えば、メチルアセトアセテイトパ−オキサイド、キュメンハイドロパ−オキサイド、ベンゾイルパ−オキサイド、ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パ−オキシジカ−ボネイト、ｔ−ブチルパ−オキシベンゾエイト、メチルエチルケトンパ−オキサイド、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパ−オキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｐ−ペンタハイドロパ−オキサイド、ｔ−ブチルハイドロパ−オキサイド、ジクミルパ−オキサイド、イソブチルパ−オキサイド、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パ−オキシジカ−ボネイト、１，１−ビス（ｔ−ブチルパ−オキシ）シクロヘキサン等の有機過酸化物、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾニトリル化合物、２，２’−アゾビス（２−メチル−Ｎ−フェニルプロピオン−アミヂン）ジハイドロクロライド等のアゾアミヂン化合物、２，２’アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシルメチル）−２−ヒドロキシルエチル］プロピオンアミド｝等のアゾアミド化合物、２，２’アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）等のアルキル化合物等を使用することができる。熱重合開始剤の使用量は重合性液晶化合物に対して１０質量％以下が好ましく、０．５〜５質量％が特に好ましい。
本発明の光配向膜は、親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を添加して硬化させているので、既存のシール剤に粘度調製等の目的で使用される、例えば、ソルベントナフタ、デカリン、トルエン、キシレン、ｐ−シメン、α−ピネン、ｐ−メンタン、テレビン油等の炭化水素系溶剤、ジクロロペンタンのようなハロゲン化炭化水素系溶剤、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｎ−ヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール等のアルコール系溶剤、エチレングリコール、プロピレングリコール等のジオール系溶剤、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール、２−（エトキシエトキシ）エタノール、２−（ブトキシエトキシ）エタノール、ジエチレングリコールジエチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶剤、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、等のエーテルエステル系溶剤、エトキシプロピオン酸エチル、マロン酸ジメチルのようなエステル系溶剤、メチルイソブチルケトン、メシチルオキシド、ホロン、シクロヘキサノンのようなケトン系溶剤；ジエチルアセタール、ジアセトンアルコール、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、等の溶剤に対しても耐性を示す。
（光学異方体）
本発明の光配向膜用組成物を使用して光学異方体を得るには、前記記載の光配向膜上に重合性液晶を塗布し、配向させた状態で重合させる。
重合性液晶組成物の重合操作は、光重合の場合は、前記光配向膜を作成する場合の重合操作と同様におこなえば良い。加熱による重合は、重合性液晶組成物が液晶相を示す温度又はそれより低温で行うことが好ましく、特に加熱によりラジカルを放出する熱重合開始剤を使用する場合にはその開裂温度が上記の温度域内にあるものを使用することが好ましい。また、該熱重合開始剤と光重合開始剤とを併用する場合には上記の温度域の制限と共に光配向膜と重合性液晶膜の両層の重合速度が大きく異なることの無い様に重合温度と各々の開始剤を選択することが好ましい。加熱温度は、重合性液晶組成物の液晶相から等方相への転移温度にもよるが、熱による不均質な重合が誘起されてしまう温度よりも低い温度で行うことが好ましく、２０℃〜３００℃が好ましく、３０℃〜２００℃がさらに好ましく、３０℃〜１２０℃が特に好ましい。また例えば、重合性基が（メタ）アクリロイルオキシ基である場合は、９０℃よりも低い温度で行うことが好ましい。
本発明の光配向膜用組成物を使用して光学異方体を得るには、前記記載の光配向膜上に重合性液晶を塗布し、配向させた状態で重合させる。
重合性液晶組成物の重合操作は、光重合の場合は、前記光配向膜を作成する場合の重合操作と同様におこなえば良い。加熱による重合は、重合性液晶組成物が液晶相を示す温度又はそれより低温で行うことが好ましく、特に加熱によりラジカルを放出する熱重合開始剤を使用する場合にはその開裂温度が上記の温度域内にあるものを使用することが好ましい。また、該熱重合開始剤と光重合開始剤とを併用する場合には上記の温度域の制限と共に光配向膜と重合性液晶膜の両層の重合速度が大きく異なることの無い様に重合温度と各々の開始剤を選択することが好ましい。加熱温度は、重合性液晶組成物の液晶相から等方相への転移温度にもよるが、熱による不均質な重合が誘起されてしまう温度よりも低い温度で行うことが好ましく、２０℃〜３００℃が好ましく、３０℃〜２００℃がさらに好ましく、３０℃〜１２０℃が特に好ましい。また例えば、重合性基が（メタ）アクリロイルオキシ基である場合は、９０℃よりも低い温度で行うことが好ましい。
具体的な方法としては、例えば、下記（方法１）〜（方法４）の方法が挙げられる。
（方法１）
基板上に、前記光配向膜用組成物の膜を作成する工程１と、前記光配向膜用組成物の膜上に重合性液晶組成物膜を作成する工程２と、異方性を有する光を照射して、一般式（１）で表される化合物及び液晶分子を配向させながら親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物と重合性液晶組成物を重合させる工程３を、この順に行う製造方法。
該方法においては、配向膜中に共存する親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物と重合性液晶を重合させるので、光配向膜層と液晶重合体層との両層間に結合関係を導入でき、特に界面の密着性及び耐久性に優れた光学異方体が得られる。また、異方性を有する光を１度照射するだけで、光異性化反応と重合とを同時に行うことができるので、効率的である。
（方法１）
基板上に、前記光配向膜用組成物の膜を作成する工程１と、前記光配向膜用組成物の膜上に重合性液晶組成物膜を作成する工程２と、異方性を有する光を照射して、一般式（１）で表される化合物及び液晶分子を配向させながら親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物と重合性液晶組成物を重合させる工程３を、この順に行う製造方法。
該方法においては、配向膜中に共存する親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物と重合性液晶を重合させるので、光配向膜層と液晶重合体層との両層間に結合関係を導入でき、特に界面の密着性及び耐久性に優れた光学異方体が得られる。また、異方性を有する光を１度照射するだけで、光異性化反応と重合とを同時に行うことができるので、効率的である。
（方法２）
基板上に、前記光配向膜用組成物の膜を作成する工程１と、前記光配向膜用組成物の膜に異方性を有する光を照射して一般式（１）で表される化合物を配向させる工程２と、前記光配向膜用組成物の膜上に重合性液晶組成物膜を作成する工程３と、熱又は光により親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物と重合性液晶組成物を重合させる工程４を、この順に行う製造方法。
該方法においては、前記光配向膜用組成物の膜に直接光を照射するので、より液晶配向能の高い光配向膜を得ることができ、さらに、配向膜中に共存する親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物と重合性液晶を重合させるので、光配向膜層と液晶重合体層との両層間に結合関係を導入でき、特に界面の密着性及び耐久性に優れた光学異方体が得られる。
基板上に、前記光配向膜用組成物の膜を作成する工程１と、前記光配向膜用組成物の膜に異方性を有する光を照射して一般式（１）で表される化合物を配向させる工程２と、前記光配向膜用組成物の膜上に重合性液晶組成物膜を作成する工程３と、熱又は光により親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物と重合性液晶組成物を重合させる工程４を、この順に行う製造方法。
該方法においては、前記光配向膜用組成物の膜に直接光を照射するので、より液晶配向能の高い光配向膜を得ることができ、さらに、配向膜中に共存する親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物と重合性液晶を重合させるので、光配向膜層と液晶重合体層との両層間に結合関係を導入でき、特に界面の密着性及び耐久性に優れた光学異方体が得られる。
（方法３）
基板上に、前記光配向膜用組成物の膜を作成する工程１と、前記光配向膜用組成物の膜に異方性を有する光を照射して一般式（１）で表される化合物を配向させる工程２と、親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を熱又は光により重合させる工程３と、前記光配向膜用組成物の膜上に重合性液晶組成物膜を作成する工程４と、熱又は光により重合性液晶組成物を重合させる工程５を、この順に行う製造方法。
該方法においては、重合性液晶組成物層を形成する前に親水性を有する（メタ）アクリレートを重合させるので、機械的、あるいは化学的強度に優れた光配向膜が得られ、光配向膜を形成した基板を積み重ねたり巻き取ったりするプロセスが含まれる場合には好適である。また、光配向の工程を光重合の工程とは分けて行うので配向規制力の制御が容易である。
基板上に、前記光配向膜用組成物の膜を作成する工程１と、前記光配向膜用組成物の膜に異方性を有する光を照射して一般式（１）で表される化合物を配向させる工程２と、親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を熱又は光により重合させる工程３と、前記光配向膜用組成物の膜上に重合性液晶組成物膜を作成する工程４と、熱又は光により重合性液晶組成物を重合させる工程５を、この順に行う製造方法。
該方法においては、重合性液晶組成物層を形成する前に親水性を有する（メタ）アクリレートを重合させるので、機械的、あるいは化学的強度に優れた光配向膜が得られ、光配向膜を形成した基板を積み重ねたり巻き取ったりするプロセスが含まれる場合には好適である。また、光配向の工程を光重合の工程とは分けて行うので配向規制力の制御が容易である。
（方法４）
基板上に、前記光配向膜用組成物の膜を作成する工程１と、前記光配向膜用組成物の膜に異方性を有する光を照射して一般式（１）で表される化合物を配向させながら親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を重合させる工程２と、前記光配向膜用組成物の膜上に重合性液晶組成物を塗布し配向させる工程３と、熱又は光により重合性液晶組成物を重合させる工程４を、この順に行う製造方法。
該方法においては、重合性液晶組成物層を形成する前に親水性を有する（メタ）アクリレートを重合させるので、機械的、あるいは化学的強度に優れた光配向膜が得られ、光配向膜を形成した基板を積み重ねたり巻き取ったりするプロセスが含まれる場合には好適である。また、異方性を有する光を１度照射するだけで、光異性化反応と重合とを同時に行うことができるので、効率的である。
基板上に、前記光配向膜用組成物の膜を作成する工程１と、前記光配向膜用組成物の膜に異方性を有する光を照射して一般式（１）で表される化合物を配向させながら親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を重合させる工程２と、前記光配向膜用組成物の膜上に重合性液晶組成物を塗布し配向させる工程３と、熱又は光により重合性液晶組成物を重合させる工程４を、この順に行う製造方法。
該方法においては、重合性液晶組成物層を形成する前に親水性を有する（メタ）アクリレートを重合させるので、機械的、あるいは化学的強度に優れた光配向膜が得られ、光配向膜を形成した基板を積み重ねたり巻き取ったりするプロセスが含まれる場合には好適である。また、異方性を有する光を１度照射するだけで、光異性化反応と重合とを同時に行うことができるので、効率的である。
場合によっては、光学異方体を数層にわたり積層することもできる。その場合は前記工程を複数繰り返せばよく、光学異方体の積層体を形成することができる。
これら方法は光学異方体の製造プロセスに応じて適宜選択すればよい。重合性液晶を塗布する工程の前に光配向膜が他の基板等や装置などの物体に接することがないようなプロセスでは、（方法１）又は（方法２）が、重合操作が一度で済み簡便であり好ましく、（方法２）が、配向に優れた光学異方体が簡便に得られるのでさらに好ましい。一方、重合性液晶を塗布する工程の前に、基板の堆積あるいは巻き取りにより光配向膜が他の基板等や装置などの物体に接する可能性がある場合には光配向膜の構造を固定化するために（方法３）又は（方法４）を選択することが好ましい。
前記（方法１）又は（方法２）のように、前記親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物と重合性液晶層とを同時に重合させる場合は、光配向膜用組成物には重合開始剤を添加せず、重合性液晶組成物層に重合開始剤を添加しておくだけで、親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物も十分硬化させることができる。特に重合操作として光照射、重合開始剤として光重合開始剤を使用する方法が、操作が簡便で好ましい。重合開始剤としては、前述の光重合開始剤あるいは熱重合開始剤を使用することができる。
前記（方法１）又は（方法２）の方法で光学異方体を得る場合は、親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物が液体であると、重合性液晶層との界面で混和する懸念が生じるが、一般式（１）で表される化合物と親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物は共に重合性液晶とは混和し難いのでそのような問題は生じにくいことも１つの特徴である。更に前記（方法１）又は（方法２）の方法は、親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物と重合性液晶組成物との界面で架橋が生じるため、光配向膜用組成物層と重合性液晶組成物層との界面剥離が生じることもなく、機械的に強固で、耐薬品性、耐溶剤性など化学的な安定性にも優れた光学異方体を得ることができる。
（重合性液晶組成物）
本発明で使用する重合性液晶組成物は、単独又は他の液晶化合物との組成物において液晶性を示す、重合性基を有する化合物を含む液晶組成物である。例えば、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ （Ｄ． Ｄｅｍｕｓ， Ｊ． Ｗ． Ｇｏｏｄｂｙ， Ｇ． Ｗ． Ｇｒａｙ， Ｈ． Ｗ． Ｓｐｉｅｓｓ， Ｖ． Ｖｉｌｌ編集、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ 社発行、１９９８年）、季刊化学総説Ｎｏ．２２、液晶の化学（日本化学会編、１９９４年）、あるいは、特開平７−２９４７３５号公報、特開平８−３１１１号公報、特開平８−２９６１８号公報、特開平１１−８００９０号公報、特開平１１−１４８０７９号公報、特開２０００−１７８２３３号公報、特開２００２−３０８８３１号公報、特開２００２−１４５８３０号公報に記載されているような、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基等の構造が複数繋がったメソゲンと呼ばれる剛直な部位と、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、エポキシ基といった重合性官能基とを有する棒状重合性液晶化合物、 あるいは特開２００４−２３７３号公報、特開２００４−９９４４６号公報に記載されているようなマレイミド基を有する棒状重合性液晶化合物、 あるいは特開２００４−１４９５２２号公報に記載されているようなアリルエーテル基を有する棒状重号性液晶化合物、あるいは、例えば、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ （Ｄ． Ｄｅｍｕｓ， Ｊ． Ｗ． Ｇｏｏｄｂｙ， Ｇ． Ｗ． Ｇｒａｙ， Ｈ． Ｗ． Ｓｐｉｅｓｓ， Ｖ． Ｖｉｌｌ編集、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ 社発行、１９９８年）、季刊化学総説Ｎｏ．２２、液晶の化学（日本化学会編、１９９４年）や、特開平０７−１４６４０９号公報に記載されているディスコティック重合性化合物があげられる。中でも、重合性基を有する棒状液晶化合物が、液晶温度範囲として室温前後の低温を含むものを作りやすく好ましい。
本発明で使用する重合性液晶組成物は、単独又は他の液晶化合物との組成物において液晶性を示す、重合性基を有する化合物を含む液晶組成物である。例えば、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ （Ｄ． Ｄｅｍｕｓ， Ｊ． Ｗ． Ｇｏｏｄｂｙ， Ｇ． Ｗ． Ｇｒａｙ， Ｈ． Ｗ． Ｓｐｉｅｓｓ， Ｖ． Ｖｉｌｌ編集、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ 社発行、１９９８年）、季刊化学総説Ｎｏ．２２、液晶の化学（日本化学会編、１９９４年）、あるいは、特開平７−２９４７３５号公報、特開平８−３１１１号公報、特開平８−２９６１８号公報、特開平１１−８００９０号公報、特開平１１−１４８０７９号公報、特開２０００−１７８２３３号公報、特開２００２−３０８８３１号公報、特開２００２−１４５８３０号公報に記載されているような、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基等の構造が複数繋がったメソゲンと呼ばれる剛直な部位と、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、エポキシ基といった重合性官能基とを有する棒状重合性液晶化合物、 あるいは特開２００４−２３７３号公報、特開２００４−９９４４６号公報に記載されているようなマレイミド基を有する棒状重合性液晶化合物、 あるいは特開２００４−１４９５２２号公報に記載されているようなアリルエーテル基を有する棒状重号性液晶化合物、あるいは、例えば、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ （Ｄ． Ｄｅｍｕｓ， Ｊ． Ｗ． Ｇｏｏｄｂｙ， Ｇ． Ｗ． Ｇｒａｙ， Ｈ． Ｗ． Ｓｐｉｅｓｓ， Ｖ． Ｖｉｌｌ編集、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ 社発行、１９９８年）、季刊化学総説Ｎｏ．２２、液晶の化学（日本化学会編、１９９４年）や、特開平０７−１４６４０９号公報に記載されているディスコティック重合性化合物があげられる。中でも、重合性基を有する棒状液晶化合物が、液晶温度範囲として室温前後の低温を含むものを作りやすく好ましい。
（溶剤）
前記重合性液晶組成物に使用する溶剤としては、特に限定はないが、前記化合物が良好な溶解性を示す溶媒が使用できる。例えば、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系炭化水素、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、アニソール等のエーテル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、等のアミド系溶剤、γ−ブチロラクトン、クロロベンゼン等が挙げられる。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。また、添加剤を添加することもできる。
前記重合性液晶組成物に使用する溶剤としては、特に限定はないが、前記化合物が良好な溶解性を示す溶媒が使用できる。例えば、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系炭化水素、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、アニソール等のエーテル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、等のアミド系溶剤、γ−ブチロラクトン、クロロベンゼン等が挙げられる。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。また、添加剤を添加することもできる。
本発明の重合性液晶組成物は、重合性基を有していない液晶化合物を必要に応じて添加してもよい。しかし、添加量が多すぎると、得られた光学異方体から液晶化合物が溶出して積層部材を汚染する恐れがあり、加えて光学異方体の耐熱性が下がるおそれがあるので、添加する場合は、重合性液晶化合物全量に対して３０質量％以下とすることが好ましく、１５質量％以下がさらに好ましく、５質量％以下が特に好ましい。
本発明で使用する重合性液晶組成物は、重合性基を有するが重合性液晶化合物ではない化合物を添加することもできる。このような化合物としては、通常、この技術分野で重合性モノマーあるいは重合性オリゴマーとして認識されるものであれば特に制限なく使用することができる。添加する場合は、本発明の重合性液晶組成物に対して、５質量％以下であることが好ましく、３質量％以下が更に好ましい。
本発明で使用する重合性液晶組成物は、光学活性を有する化合物、すなわちキラル化合物を添加してもよい。該キラル化合物は、それ自体が液晶相を示す必要は無く、また、重合性基を有していても、有していなくても良い。また、キラル化合物の螺旋の向きは、重合体の使用用途によって適宜選択することができる。
具体的には、例えば、キラル基としてコレステリル基を有するペラルゴン酸コレステロール、ステアリン酸コレステロール、キラル基として２−メチルブチル基を有するビーディーエイチ社製の「ＣＢ−１５」、「Ｃ−１５」、メルク社製の「Ｓ−１０８２」、チッソ社製の「ＣＭ−１９」、「ＣＭ−２０」、「ＣＭ」、キラル基として１−メチルヘプチル基を有するメルク社製の「Ｓ−８１１」、チッソ社製の「ＣＭ−２１」、「ＣＭ−２２」などを挙げることができる。
キラル化合物を添加する場合は、本発明の重合性液晶組成物の重合体の用途によるが、得られる重合体の厚み（ｄ）を重合体中での螺旋ピッチ（Ｐ）で除した値（ｄ／Ｐ）が０．１〜１００の範囲となる量を添加することが好ましく、０．１〜２０の範囲となる量がさらに好ましい。
具体的には、例えば、キラル基としてコレステリル基を有するペラルゴン酸コレステロール、ステアリン酸コレステロール、キラル基として２−メチルブチル基を有するビーディーエイチ社製の「ＣＢ−１５」、「Ｃ−１５」、メルク社製の「Ｓ−１０８２」、チッソ社製の「ＣＭ−１９」、「ＣＭ−２０」、「ＣＭ」、キラル基として１−メチルヘプチル基を有するメルク社製の「Ｓ−８１１」、チッソ社製の「ＣＭ−２１」、「ＣＭ−２２」などを挙げることができる。
キラル化合物を添加する場合は、本発明の重合性液晶組成物の重合体の用途によるが、得られる重合体の厚み（ｄ）を重合体中での螺旋ピッチ（Ｐ）で除した値（ｄ／Ｐ）が０．１〜１００の範囲となる量を添加することが好ましく、０．１〜２０の範囲となる量がさらに好ましい。
本発明で使用する重合性液晶組成物には、保存安定性を向上させるために安定剤を添加することもできる。安定剤として例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β−ナフチルアミン類、β−ナフトール類等が挙げられる。添加する場合は、本発明の重合性液晶組成物に対して１質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下が特に好ましい。
本発明の光学異方体を、例えば、偏光フィルムや配向膜の原料、又は印刷インキ及び塗料、保護膜等の用途に利用する場合には、本発明で使用する重合性液晶組成物にはその目的に応じて、金属、金属錯体、染料、顔料、蛍光材料、燐光材料、界面活性剤、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物、などを添加してもよい。
得られた光学異方体の耐溶剤特性や耐熱性の安定化のために、光学異方体を加熱エージング処理することもできる。この場合、前期重合性液晶膜のガラス転移点以上で加熱することが好ましい。通常は、５０〜３００℃が好ましく、８０〜２４０℃がさらに好ましく、１００〜２２０℃が特に好ましい。
本発明の光学異方体は、基板から剥離して単体で光学異方体として使用することも、基板から剥離せずにそのまま光学異方体として使用することもできる。特に、他の部材を汚染し難いので、被積層基板として使用したり、他の基板に貼り合わせて使用したりするときに有用である。場合によっては、光学異方体を数層にわたり積層することもできる。その場合は前記工程を複数繰り返せばよく、光学異方体の積層体を形成することができる。
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
（光配向膜用組成物（１）の調製）
一般式（１）で表される化合物として式（ａ）で示される化合物１部をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）４９部に溶解させた後、式（ｂ）で示される親水性基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物「ＨＯＡ−ＭＰＬ」１部、２−ブトキシエタノール（ＢＣ）４９部を加え溶液を作成した。得られた溶液を０．４５μｍのメンブランフィルターでろ過し、光配向膜用組成物（１）を得た。
一般式（１）で表される化合物として式（ａ）で示される化合物１部をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）４９部に溶解させた後、式（ｂ）で示される親水性基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物「ＨＯＡ−ＭＰＬ」１部、２−ブトキシエタノール（ＢＣ）４９部を加え溶液を作成した。得られた溶液を０．４５μｍのメンブランフィルターでろ過し、光配向膜用組成物（１）を得た。
（光配向膜用組成物（２）〜（１６）の調製）
一般式（１）で表される化合物、親水性基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物の種類、配合（部）を変更した以外は、光配向膜用組成物（１）と同様にして光配向膜用組成物（２）〜（１２）及び（１６）を調整した。なお、光配向膜用組成物（１３）及び（１４）は親水性基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を含まず、光配向膜用組成物（１５）は一般式（１）で表される化合物と親水性基を有さないアクリレートからなる。該組成は表１に示すとおりである。
一般式（１）で表される化合物、親水性基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物の種類、配合（部）を変更した以外は、光配向膜用組成物（１）と同様にして光配向膜用組成物（２）〜（１２）及び（１６）を調整した。なお、光配向膜用組成物（１３）及び（１４）は親水性基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を含まず、光配向膜用組成物（１５）は一般式（１）で表される化合物と親水性基を有さないアクリレートからなる。該組成は表１に示すとおりである。
溶剤は全てＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）と２−ブトキシエタノール（ＢＣ）の１対１混合物である。
光配向膜用組成物（１）〜（１２）及び（１６）に使用したアクリレートは全て親水性基を有するアクリレートである（共栄社化学（株）製のライトアクリレートＨＯＡ−ＭＰＬ（ｂ）、共栄社化学（株）社製のライトアクリレートＨＯＡ−ＨＨ（ｃ）、ナガセケムテックス（株）社製のデコナールアクリレートＤＡ−２１２（ｄ）、ナガセケムテックス（株）社製のデコナールアクリレートＤＡ−１１１（ｅ）、ナガセケムテックス（株）社製のデコナールアクリレートＤＡ−９１１Ｍ（ｆ）、ナガセケムテックス（株）社製のデコナールアクリレートＤＡ−９３１（ｇ）、３,４−ジ（３−アクリロイルオキシプロポキシ）安息香酸（ｈ）、大日本インキ化学工業（株）社製ディックライトＵＥ−８２００（ｉ））。
光配向膜用組成物（５）、（７）では２種類の親水性基を有するアクリレートが含まれている。また光配向膜用組成物（１３）〜（１５）は比較例用組成物、また光配向膜用組成物（１６）は参考例用組成物である。
化合物（ｃ）〜（ｋ）の構造は以下のとおりである。
光配向膜用組成物（１）〜（１２）及び（１６）に使用したアクリレートは全て親水性基を有するアクリレートである（共栄社化学（株）製のライトアクリレートＨＯＡ−ＭＰＬ（ｂ）、共栄社化学（株）社製のライトアクリレートＨＯＡ−ＨＨ（ｃ）、ナガセケムテックス（株）社製のデコナールアクリレートＤＡ−２１２（ｄ）、ナガセケムテックス（株）社製のデコナールアクリレートＤＡ−１１１（ｅ）、ナガセケムテックス（株）社製のデコナールアクリレートＤＡ−９１１Ｍ（ｆ）、ナガセケムテックス（株）社製のデコナールアクリレートＤＡ−９３１（ｇ）、３,４−ジ（３−アクリロイルオキシプロポキシ）安息香酸（ｈ）、大日本インキ化学工業（株）社製ディックライトＵＥ−８２００（ｉ））。
光配向膜用組成物（５）、（７）では２種類の親水性基を有するアクリレートが含まれている。また光配向膜用組成物（１３）〜（１５）は比較例用組成物、また光配向膜用組成物（１６）は参考例用組成物である。
化合物（ｃ）〜（ｋ）の構造は以下のとおりである。
（ｉ）
（重合性液晶組成物（ＬＣ−１）の調整）
式（ｍ）で示される化合物１５部、式（ｎ）で示される化合物１５部をキシレン７０部に溶解させた後、イルガキュア９０７（チバスペシャリティケミカルズ（株）社製）１．２部、式（ｐ）で示されるアクリル共重合体０．３部を加え、溶液を得た。得られた溶液を０．４５μｍのメンブランフィルターでろ過し、重合性液晶組成物（ＬＣ−１）を得た。
式（ｍ）で示される化合物１５部、式（ｎ）で示される化合物１５部をキシレン７０部に溶解させた後、イルガキュア９０７（チバスペシャリティケミカルズ（株）社製）１．２部、式（ｐ）で示されるアクリル共重合体０．３部を加え、溶液を得た。得られた溶液を０．４５μｍのメンブランフィルターでろ過し、重合性液晶組成物（ＬＣ−１）を得た。
（配向性の評価方法）
光学異方体の配向性は、外観目視、及び、偏光顕微鏡観察することにより、５段階で評価した。
Ａ：目視で均一な配向が得られており、偏光顕微鏡観察でも欠陥が全くない
Ｂ：目視では均一な配向が得られているが、偏光顕微鏡観察での配向面積は９０〜１００％
Ｃ：目視ではＡ、Ｂ程の配向は得られていないが、偏光顕微鏡観察での配向面積は６０〜９０％
Ｄ：目視では無配向に近いが、偏光顕微鏡観察での配向面積は４０〜６０％
Ｅ：目視では無配向で、偏光顕微鏡観察での配向面積も４０％以下
光学異方体の配向性は、外観目視、及び、偏光顕微鏡観察することにより、５段階で評価した。
Ａ：目視で均一な配向が得られており、偏光顕微鏡観察でも欠陥が全くない
Ｂ：目視では均一な配向が得られているが、偏光顕微鏡観察での配向面積は９０〜１００％
Ｃ：目視ではＡ、Ｂ程の配向は得られていないが、偏光顕微鏡観察での配向面積は６０〜９０％
Ｄ：目視では無配向に近いが、偏光顕微鏡観察での配向面積は４０〜６０％
Ｅ：目視では無配向で、偏光顕微鏡観察での配向面積も４０％以下
光学異方体の耐溶剤・耐薬品性は、試験用溶剤としてＮＭＰ／２−ブトキシエタノール（ＢＣ）をスピンコーターで得られた光学異方体上に塗布し、８０℃で１分間乾燥したときの膜状態を観察した結果を、外観目視、及び、偏光顕微鏡観察することにより５段階で評価した。
尚、ここで使用した試験用溶剤は、配向膜用組成物の希釈目的に汎用に使用される溶剤の組み合わせである。
Ａ：目視で膜の変化が全くなく、偏光顕微鏡観察でも欠陥が全くない
Ｂ：目視では膜の変化が全くないが、偏光顕微鏡観察ではクラックが発生している
Ｃ：目視では一部膜が剥がれているが、偏光顕微鏡観察でのクラック発生はＢと同レベル
Ｄ：目視では膜の大半が剥がれている
Ｅ：目視で膜全体が剥がれている
尚、ここで使用した試験用溶剤は、配向膜用組成物の希釈目的に汎用に使用される溶剤の組み合わせである。
Ａ：目視で膜の変化が全くなく、偏光顕微鏡観察でも欠陥が全くない
Ｂ：目視では膜の変化が全くないが、偏光顕微鏡観察ではクラックが発生している
Ｃ：目視では一部膜が剥がれているが、偏光顕微鏡観察でのクラック発生はＢと同レベル
Ｄ：目視では膜の大半が剥がれている
Ｅ：目視で膜全体が剥がれている
（光学異方体としての評価）
（実施例１）
光配向膜用組成物（１）をスピンコーターでガラス基板上に塗布し、１００℃で１分間乾燥した。このときの乾燥膜厚は２０ｎｍであった。
次に超高圧水銀ランプに波長カットフィルター、バンドパスフィルター、及び、偏光フィルターを介して、波長３６５ｎｍ付近の可視紫外光（照射強度：１０ｍＷ／ｃｍ２）の直線偏光でかつ平行光を、ガラス基板に対して垂直方向から照射し、配向させた。照射量は５００ｍＪ／ｃｍ２であった。
得られた光配向膜上にスピンコーターで重合性液晶組成物（ＬＣ−１）を塗布し、８０℃で１分乾燥後、窒素雰囲気下で紫外線を１Ｊ／ｃｍ２照射して、（ＬＣ−１）及び（ＬＣ−１）と化合物（ｂ）を重合させ、光学異方体を得た。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
（実施例１）
光配向膜用組成物（１）をスピンコーターでガラス基板上に塗布し、１００℃で１分間乾燥した。このときの乾燥膜厚は２０ｎｍであった。
次に超高圧水銀ランプに波長カットフィルター、バンドパスフィルター、及び、偏光フィルターを介して、波長３６５ｎｍ付近の可視紫外光（照射強度：１０ｍＷ／ｃｍ２）の直線偏光でかつ平行光を、ガラス基板に対して垂直方向から照射し、配向させた。照射量は５００ｍＪ／ｃｍ２であった。
得られた光配向膜上にスピンコーターで重合性液晶組成物（ＬＣ−１）を塗布し、８０℃で１分乾燥後、窒素雰囲気下で紫外線を１Ｊ／ｃｍ２照射して、（ＬＣ−１）及び（ＬＣ−１）と化合物（ｂ）を重合させ、光学異方体を得た。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
（実施例２）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
（実施例３）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（３）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（３）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
（実施例４）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（４）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（４）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
（実施例５）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（５）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（５）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
（実施例６）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（６）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＢであった。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（６）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＢであった。
（実施例７）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（７）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（７）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
（実施例８）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（８）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（８）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
（実施例９）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（９）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（９）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
（実施例１０）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（１０）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（１０）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
（実施例１１）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（１１）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＢであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（１１）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＢであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
（実施例１２）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（１２）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（１２）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
（比較例１）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに、光配向膜用組成物（１３）を使用した以外は、実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることがわかったが、この光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＥであり、親水性アクリレートを含まない組成の場合は耐薬品性・耐溶剤性に劣ることがわかった。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに、光配向膜用組成物（１３）を使用した以外は、実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることがわかったが、この光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＥであり、親水性アクリレートを含まない組成の場合は耐薬品性・耐溶剤性に劣ることがわかった。
（比較例２）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに、光配向膜用組成物（１４）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＥであった。アクリレート化した化合物を使用した場合は、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で均一で良配向な光学異方体が得られないことがわかった。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに、光配向膜用組成物（１４）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＥであった。アクリレート化した化合物を使用した場合は、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で均一で良配向な光学異方体が得られないことがわかった。
（比較例３）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに、光配向膜用組成物（１５）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。光配向膜用組成物（１５）には親水性ではないアクリレートであるラウリルアクリレートが含まれているが、光配向膜作製時に相分離を起こし、不均一な白濁模様を呈していた。その結果、配向性はＤであり、良配向が得られなかった。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに、光配向膜用組成物（１５）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。光配向膜用組成物（１５）には親水性ではないアクリレートであるラウリルアクリレートが含まれているが、光配向膜作製時に相分離を起こし、不均一な白濁模様を呈していた。その結果、配向性はＤであり、良配向が得られなかった。
（参考例１）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに、光配向膜用組成物（１６）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＥであった。アクリレート化した化合物を使用した場合は、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で均一で良配向な光学異方体が得られないことがわかった。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに、光配向膜用組成物（１６）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＥであった。アクリレート化した化合物を使用した場合は、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で均一で良配向な光学異方体が得られないことがわかった。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。
（光配向膜用組成物（１７）の調製）
一般式（１）で表される化合物として式（ａ）で示される化合物０．５部、化合物（２）として式（ｑ）で表される化合物０．５部をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）４９部に溶解させた後、式（ｄ）で示される親水性基を有するアクリレート（ＤＡ−２１２）１部、２−ブトキシエタノール（ＢＣ）４９部を加え、溶液を作成した。得られた溶液を０．４５μｍのメンブランフィルターでろ過し、光配向膜用組成物（１７）を得た。
一般式（１）で表される化合物として式（ａ）で示される化合物０．５部、化合物（２）として式（ｑ）で表される化合物０．５部をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）４９部に溶解させた後、式（ｄ）で示される親水性基を有するアクリレート（ＤＡ−２１２）１部、２−ブトキシエタノール（ＢＣ）４９部を加え、溶液を作成した。得られた溶液を０．４５μｍのメンブランフィルターでろ過し、光配向膜用組成物（１７）を得た。
（光配向膜用組成物（１８）〜（２９）の調製）
配合する化合物、及び配合量を変更した以外は、光配向膜用組成物（１７）と同様にして光配向膜用組成物（１８）〜（２９）を得た。該組成は表２に示すとおりである。
配合する化合物、及び配合量を変更した以外は、光配向膜用組成物（１７）と同様にして光配向膜用組成物（１８）〜（２９）を得た。該組成は表２に示すとおりである。
溶剤は全てＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）と２−ブトキシエタノール（ＢＣ）の１対１混合物である。
光配向膜用組成物（１７）〜（２９）に使用したアクリレートは全て親水性基を有するアクリレートである（ナガセケムテックス（株）社製のデコナールアクリレートＤＡ−２１２（ｄ）、ナガセケムテックス（株）社製のデコナールアクリレートＤＡ−１１１（ｅ）、ナガセケムテックス（株）社製のデコナールアクリレートＤＡ−９１１Ｍ（ｆ））。
光配向膜用組成物（１７）〜（２９）に使用したアクリレートは全て親水性基を有するアクリレートである（ナガセケムテックス（株）社製のデコナールアクリレートＤＡ−２１２（ｄ）、ナガセケムテックス（株）社製のデコナールアクリレートＤＡ−１１１（ｅ）、ナガセケムテックス（株）社製のデコナールアクリレートＤＡ−９１１Ｍ（ｆ））。
光配向膜用組成物（２８）では２種類の親水性基を有するアクリレートが含まれている。光配向膜用組成物（１７）〜（２３）には一般式（２−１）で表される化合物（（ｑ）、（ｒ）、（ｓ）、（ｔ））が含まれている。光配向膜用組成物（２４）〜（２８）には一般式（２−２）で表される化合物（ｕ）が含まれている。光配向膜用組成物（２９）にはヒドロキシル基を有するトリフェニレン化合物（ｗ）が含まれている。
化合物（ｒ）〜（ｗ）の構造は以下のとおりである。
化合物（ｒ）〜（ｗ）の構造は以下のとおりである。
（ｓ）
（ｔ）
（耐熱性の評価方法）
耐熱性は２３０℃、４時間加熱前後の光学異方体のリタデーションを測定（中央精機 ＤＩ４ＲＤ）し比較することにより評価した。加熱前のリタデーションをＲｅ１（nm）、加熱後のリタデーションをＲｅ２（nm）とし、加熱前のリタデーションに対する加熱後のリタデーションの比の百分率Ｒｅ％（％）（Ｒｅ％＝Ｒｅ２／Ｒｅ１×１００）を耐熱性の指標とした。耐熱性が良いほうがリタデーションの変化が少ないのでＲｅ％の値が大きいほうが耐熱性に優れるということになる。
耐熱性は２３０℃、４時間加熱前後の光学異方体のリタデーションを測定（中央精機 ＤＩ４ＲＤ）し比較することにより評価した。加熱前のリタデーションをＲｅ１（nm）、加熱後のリタデーションをＲｅ２（nm）とし、加熱前のリタデーションに対する加熱後のリタデーションの比の百分率Ｒｅ％（％）（Ｒｅ％＝Ｒｅ２／Ｒｅ１×１００）を耐熱性の指標とした。耐熱性が良いほうがリタデーションの変化が少ないのでＲｅ％の値が大きいほうが耐熱性に優れるということになる。
（光学異方体としての評価）
（実施例１３）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（１７）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６８％と耐熱性に優れていた。
（実施例１３）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（１７）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６８％と耐熱性に優れていた。
（実施例１４）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（１８）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７１％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（１８）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７１％と耐熱性に優れていた。
（実施例１５）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（１９）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７４％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（１９）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７４％と耐熱性に優れていた。
（実施例１６）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２０）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６７％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２０）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６７％と耐熱性に優れていた。
（実施例１７）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２１）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７３％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２１）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７３％と耐熱性に優れていた。
（実施例１８）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２２）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６８％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２２）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６８％と耐熱性に優れていた。
（実施例１９）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２３）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６９％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２３）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６９％と耐熱性に優れていた。
（実施例２０）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２４）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６７％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２４）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６７％と耐熱性に優れていた。
（実施例２１）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２５）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６９％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２５）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６９％と耐熱性に優れていた。
（実施例２２）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２６）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７６％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２６）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７６％と耐熱性に優れていた。
（実施例２３）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２７）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７０％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２７）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７０％と耐熱性に優れていた。
（実施例２４）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２８）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６７％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２８）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６７％と耐熱性に優れていた。
（実施例２５）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２９）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７０％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２９）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果、配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。光学異方体の耐溶剤・耐薬品性の評価結果はＡであった。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７０％と耐熱性に優れていた。
（比較例４）
比較例１で得た光学異方体の耐熱性を評価した結果Ｒｅ％＝５９％と小さかった。
比較例１で得た光学異方体の耐熱性を評価した結果Ｒｅ％＝５９％と小さかった。
本発明の光配向膜用組成物を使用することで、感度の高い光配向膜を提供することが可能である。該光配向膜は、セル製造過程で使用するような接着部材、あるいは、接着部材、重合性液晶組成物溶液、配向膜溶液等に使用する有機溶剤に侵されることがない。更に、本発明は、該光配向膜を使用した光学異方体を提供することが可能である。該光学異方体は、有機溶剤等に侵されることがない。
Claims (9)
- 一般式（１）で表される化合物、及び、親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を含有することを特徴とする光配向膜用組成物。
（式中、Ｒ１およびＲ２は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ５（ただしＲ５は、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数３〜６のシクロアルキル基又は炭素原子数１〜６のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）、炭素原子数１〜４のヒドロキシルアルキル基、−ＣＯＮＲ６Ｒ７（ただしＲ６及びＲ７は、各々独立して水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）、又はメトキシカルボニル基を表し、Ｒ３およびＲ４は各々独立して、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、スルホ基若しくはそのアルカリ金属塩、ニトロ基、アミノ基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、又はヒドロキシル基を表す。） - 前記親水性基がヒドロキシル基又はカルボキシル基である、請求項１に記載の光配向膜用組成物。
- 前記親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を、組成物中の全不揮発成分に対して１０〜９０質量％含む、請求項１に記載の光配向膜用組成物。
- 前記一般式（１）で表される化合物が、
前記一般式（１）におけるＲ３およびＲ４がスルホ基またはそのアルカリ金属塩である化合物（１−１）であり、
更に、一般式（２−１）で表される化合物、一般式（２−２）で表される化合物、及び、置換基としてヒドロキシル基を有するトリフェニレン（２−３）からなる群から選ばれる少なくとも１つの化合物（２）を含み、
前記化合物（１−１）と、前記化合物（２）との比率が、１：０．１〜１：１０の範囲である、請求項１に記載の光配向膜用組成物。
（一般式（２−１）中、Ｒ11、Ｒ12は、各々独立して、ヒドロキシル基、又は（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、ビニルオキシ基、及びマレイミド基からなる群から選ばれる重合性官能基を表し、Ｘ11は、Ｒ11がヒドロキシル基の場合、単結合を表し、Ｒ11が重合性官能基の場合、−（Ａ１−Ｂ１）ｍ−で表される連結基を表し、Ｘ12は、Ｒ12がヒドロキシル基の場合、単結合を表し、Ｒ12が重合性官能基の場合、−（Ａ２−Ｂ２）ｎ−で表される連結基を表す。ここで、Ａ１はＲ11に結合するものとし、Ａ２はＲ1２に結合するものとする。Ａ１及びＡ２は各々独立して単結合、又は二価の炭化水素基を表し、Ｂ１及びＢ２は各々独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−、又は−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−を表す。ｍ及びｎは各々独立して１〜４の整数を表す。但し、ｍ又はｎが２以上のとき、複数あるＡ１、Ｂ１、Ａ２及びＢ２は同じであっても異なっていても良い。但し、二つのＢ１又はＢ２の間に挟まれたＡ１又はＡ２は、単結合ではないものとする。
Ｒ13およびＲ14は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ17（ただしＲ17は、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数３〜６のシクロアルキル基又は炭素原子数１〜６のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）、炭素原子数１〜４のヒドロキシルアルキル基、又は−ＣＯＮＲ18Ｒ19（Ｒ18及びＲ19は、各々独立して水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）、またはメトキシカルボニル基を表す。
Ｒ15およびＲ16は各々独立して、カルバモイル基、又はスルファモイル基を表す。）
（一般式（２−２）中、Ｒ21およびＲ22は各々独立して、水素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基あるいは炭素原子数１〜６のアルコキシ基を表し、Ａ11及びＡ12は各々独立して、置換基としてアミノ基及びスルホ基若しくはそのアルカリ金属塩を有するナフタレン環、又は、置換基としてアミノ基及びスルホ基若しくはそのアルカリ金属塩を有するベンゼン環を表す。） - 液晶配向膜上に作成した重合性液晶組成物の膜を配向させた状態で重合させて得られる光学異方体であって、該液晶配向膜が、請求項１に記載の光配向膜用組成物の膜を配向させて得られたものであることを特徴とする光学異方体。
- 基板上に、請求項１に記載の光配向膜用組成物の膜を作成する工程１と、前記光配向膜用組成物の膜上に重合性液晶組成物膜を作成する工程２と、異方性を有する光を照射して、一般式（１）で表される化合物及び液晶分子を配向させながら親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物と重合性液晶組成物を重合させる工程３を、この順に行うことを特徴とする、光学異方体の製造方法。
- 基板上に、請求項１に記載の光配向膜用組成物の膜を作成する工程１と、前記光配向膜用組成物の膜に異方性を有する光を照射して一般式（１）で表される化合物を配向させる工程２と、前記光配向膜用組成物の膜上に重合性液晶組成物膜を作成する工程３と、熱又は光により親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物と重合性液晶組成物を重合させる工程４を、この順に行うことを特徴とする、光学異方体の製造方法。
- 基板上に、請求項１に記載の光配向膜用組成物の膜を作成する工程１と、前記光配向膜用組成物の膜に異方性を有する光を照射して一般式（１）で表される化合物を配向させる工程２と、親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を熱又は光により重合させる工程３と、前記光配向膜用組成物の膜上に重合性液晶組成物膜を作成する工程４と、熱又は光により重合性液晶組成物を重合させる工程５を、この順に行うことを特徴とする、光学異方体の製造方法。
- 基板上に、請求項１に記載の光配向膜用組成物の膜を作成する工程１と、前記光配向膜用組成物の膜に異方性を有する光を照射して一般式（１）で表される化合物を配向させながら親水性基と（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を重合させる工程２と、前記光配向膜用組成物の膜上に重合性液晶組成物を塗布し配向させる工程３と、熱又は光により重合性液晶組成物を重合させる工程４を、この順に行うことを特徴とする、光学異方体の製造方法。
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