JP4918181B2 - 半導体ウェハ表面保護用シート、およびそれを用いた半導体ウェハの保護方法と半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
[1] 25℃における引張弾性率E(25)が1GPa以上である基材層と、25℃における引張弾性率EA(25)および60℃における引張弾性率EA(60)が、EA(60)/EA(25)<0.1の関係を満たし、かつ前記60℃における引張弾性率EA(60)が0.005〜1MPaである樹脂層(A)と、60℃における引張弾性率EB(60)が、1MPa以上であって前記樹脂層(A)の60℃における引張弾性率EA(60)よりも高く、かつ厚さが0.1μm以上100μm未満である樹脂層(B)と、を有し、前記樹脂層(A)が、前記基材層と前記樹脂層(B)との間に1層以上配置されている、半導体ウェハ表面保護用シート。
[2] 前記樹脂層(B)は、前記半導体ウェハ表面保護用シートの最表面に配置されている、[1]に記載の半導体ウェハ表面保護用シート。
[3] 前記樹脂層(A)が、オレフィン系共重合体を含む、[1]または[2]のいずれかに記載の半導体ウェハ表面保護用シート。
[4] 樹脂層(A)の密度が800〜890kg/m3である、[1]〜[3]のいずれか一項に記載の半導体ウェハ表面保護用シート。
[5] 前記樹脂層(B)が、ポリエチレン系エラストマーおよびポリスチレン系エラストマーからなる群より選ばれる少なくとも1種類の樹脂を含む、[1]〜[4]のいずれか一項に記載の半導体表面保護用シート。
[6] 前記基材フィルムが、ポリオレフィン層と、ポリエステル層と、ポリオレフィン層とポリエステル層の積層とからなる群より選ばれる少なくとも1種類の層である、[1]〜[5]のいずれか一項に記載の半導体ウェハ表面保護用シート。
[7] 前記樹脂層(A)の厚みtAが、半導体ウェハの回路形成面に設けられた段差よりも大きい、[1]〜[6]のいずれかに一項に記載の半導体ウェハ表面保護用シート。
[8] 半導体ウェハの回路形成面に、請求項1に記載の半導体ウェハ表面保護用シートを40〜80℃の温度で、0.3〜0.5MPaの圧力で貼り付ける第一工程と、前記半導体ウェハ表面保護用シートが貼り付けられた半導体ウェハの回路非形成面を研削する第二工程と、研削後の半導体ウェハの回路非形成面を加工する第三工程と、前記半導体ウェハ表面保護用シートを剥離する第四工程と、を含む、半導体ウェハの保護方法。
[9] 前記半導体ウェハの回路形成面には、200μm以上の段差が設けられている、[8]に記載の半導体ウェハの保護方法。
[10] 前記半導体ウェハの回路形成面には、多孔質構造を有する回路保護層がさらに設けられている、[8]または[9]に記載の半導体ウェハの保護方法。
[11] 前記第三工程が、メタルスパッタリング工程、メッキ処理工程および加熱処理工程からなる群より選ばれる少なくとも1種類の工程を含む、[8]〜[10]のいずれか一項に記載の半導体ウェハの保護方法。
[12]半導体ウェハの回路形成面に、請求項1に記載の半導体ウェハ表面保護用シートを40〜80℃の温度で、0.3〜0.5MPaの圧力で貼り付ける第一工程と、
前記半導体ウェハ表面保護用シートが貼り付けられた半導体ウェハの回路非形成面を研削する第二工程と、
研削後の半導体ウェハの回路非形成面を加工する第三工程と、
前記半導体ウェハ表面保護用シートを剥離する第四工程と、を含む、半導体装置の製造方法。
[13]前記半導体ウェハの回路形成面には、200μm以上の段差が設けられている、[12]に記載の半導体装置の製造方法。
[14]前記半導体ウェハの回路形成面には、多孔質構造を有する回路保護層がさらに設けられている、[12]または[13]に記載の半導体装置の製造方法。
[15]前記第三工程が、メタルスパッタリング工程、メッキ処理工程および加熱処理工程からなる群より選ばれる少なくとも1種類の工程を含む、[12]〜[14]のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
本発明の半導体ウェハ表面保護用シートは、基材層と、樹脂層(A)と、樹脂層(B)とを含み、基材層と樹脂層(B)との間に、樹脂層(A)が一層以上配置される。
本発明の半導体ウェハ表面保護用シートを用いた半導体ウェハの保護方法の一例は、1)半導体ウェハの回路形成面に、半導体ウェハ表面保護用シートを加温下で貼り付ける第一工程と、2)半導体ウェハ表面保護用シートが貼り付けられた半導体ウェハの回路非形成面を研削する第二工程と、3)研削後の半導体ウェハの回路非形成面を加工する第三工程と、4)半導体ウェハ表面保護用シートを剥離する第四工程と、を含む。これらの工程を行った後、半導体ウェハをダイシングしてチップ化する工程、チップを樹脂で封止する工程等を行ってもよい。
1.各層の引張弾性率の測定
基材フィルムとして、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み75μm)を準備した。樹脂層(A)のフィルムとして、密度が861kg/m3の三井化学(株)製TAFMER P0275(登録商標)を押出成形して得られたフィルム(厚み100μm)を準備した。樹脂層(B)のフィルムとして、三井化学(株)製Notio PN 3560を押出成形して得られたフィルム(厚み100μm)を準備した。これらのフィルムについて、以下の方法で引張弾性率を測定した。
基材フィルムとして、厚み75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)を準備した。このポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、密度が861kg/m3の三井化学(株)製TAFMER P0275(登録商標)と三井化学(株)製Notio PN 3560とを共押出しして、樹脂層(A)/樹脂層(B)からなる2層の共押出樹脂を積層し、半導体ウェハ表面保護用シートを得た。半導体ウェハ表面保護用シートの、ポリエチレンテレフタレートフィルム/樹脂層(A)/樹脂層(B)の厚みは、75μm/480μm/3μmであった。
回路形成面に直径250μmの半田ボールを設けてバンプを形成した半導体ウェハ(厚み700μm)を準備した。バンプ間の間隔が250μmの半導体ウェハ(実施例1)と、バンプ間の距離が150μmの半導体ウェハ(実施例2)との、2つの半導体ウェハを準備した。
半導体ウェハ表面保護用シートを貼り付けた半導体ウェハの回路形成面を、マイクロスコープ(キーエンス社製)を用いて、倍率50〜100倍で半導体ウェハの回路形成面における凸凹との間の空隙の有無を観察した。
空隙の有るものを×、空隙の無いものを○とした。
研削後の半導体ウェハ厚みの面内のばらつき(TTV:Total Thickness Variation)を、JIS B7502に準拠して、マイクロメーター(Mitutoyo 227−101)により、23℃、50%RHの条件で測定した。具体的には、ウェハ面内の厚みを11点測定し、厚みの最大値と最小値の差分をTTVとした。
面内の厚みばらつき(TTV)が15μm以下であるものを○、15μmを超えるものを×とした。
テープ剥がし機(リンテック RAD3010)を用いて、180°ピール法により、半導体ウェハの回路形成面から半導体ウェハ表面保護用シートを剥離できるか否かを評価した。測定は、23℃、50%RH下にて、剥離速度300mm/secの条件で行った。
良好に剥離できたものを○、剥離できなかったものを×とした。
テープ剥がし機で、半導体ウェハ表面保護用シートを剥離した後の、半導体ウェハの回路形成面を、倍率50〜100倍でマイクロスコープで観察した。
糊残りが確認されなかったものを○、糊残りが確認されたものを×とした。
実施例1の半導体ウェハの代わりに、回路形成面に、多孔質構造を有する回路保護層が形成された半導体ウェハを準備した。多孔質構造を有する回路保護層は、以下のようにして形成した。
1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(黒金化成(株)製、HBT)27.0g(0.2モル)をN,N−ジメチルアセチルアセトアミド(和光純薬(株)製、DMAc)150mLに溶解させ、−10℃に冷却した。ここにトリエチルアミン20.2g(和光純薬(株)製 0.2モル)を加えた。
4,4’−[1−[4−[1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール(本州化学(株)製、Tris−PPA)42.4g(0.1モル)を1,4−ジオキサン(和光純薬(株)製)600mLに溶解させた。この溶液を40℃に暖め、5−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリド(東洋合成(株)製、NAC−5)67.1g(0.25モル)を加えた。この溶液にトリエチルアミン25.3g(0.25モル)を1,4−ジオキサン100mLに希釈した溶液を内温が45℃を越えないように滴下した。滴下終了後、40℃で2時間攪拌をした。その後、溶液の温度を室温に戻し、ろ過でトリエチルアミンの塩酸塩を除き、ろ液を水3Lに投入して、黄色の沈殿を得た。この沈殿をろ過で集め、1%の塩酸水溶液1Lで洗浄し、さらに水3Lで洗浄した。この黄色沈殿を50℃の真空乾燥機で48時間乾燥して、感光剤Aを得た。
前記ポリヒドロキシアミド粉末20g、前記感光剤A4.6g、および4,4’−(1−(2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−プロピル)フェニルエチリデン)ビスフェノール(本州化学工業社製 商品名Tris−PA)2.0gをガンマブチロラクトン(三菱化学(株)製)60mLに溶解させた。この溶液を、100mLの注射器に入れ、0.45μm径のポリテトラフルオロエチレン製フィルター(アドバンテック(株)製)にてろ過を行い、感光性ポリベンゾオキサゾール前駆体溶液を得た。
得られた感光性ポリベンゾオキサゾール前駆体溶液を、東京エレクトロン(株)製塗布・現像装置(クリーントラックMark−7)を用いて、6インチウェハに、ホットプレートベーク後の膜厚が7.8μmになるように塗布した。ホットプレートベーク後に、GCA社製i線ステッパーDSW−8750を用いて、ウェハ全面に3000J/m2の露光量で100μm×100μmの抜きパターンを有したマスクパターンを介して露光した。露光後、Mark−7の現像装置を用いて、2.38%のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(三菱ガス化学(株)製ELM−D)にて90秒間、パドル現像した。現像後のポリベンゾオキサゾール前駆体膜の膜厚は7.1μmであった。
樹脂層(B)の厚みを20μmに変更した以外は、実施例1と同様にして半導体ウェハ表面保護用シートを得た。そして、実施例3と同様にして、半導体ウェハ表面保護用シートの評価および研削後のウェハの評価を行った。
樹脂層(B)の樹脂として、三井化学(株)製Notio PN3560を、三井化学(株)製Notio PN0040に変更した以外は、実施例3と同様にして半導体ウェハ表面保護用シートを得た。そして、実施例3と同様にして、半導体ウェハ表面保護用シートの評価および研削後のウェハの評価を行った。
樹脂層(B)の樹脂として、三井化学(株)製Notio PN3560を、三井化学(株)製Notio PN2060に変更した以外は、実施例3と同様にして半導体ウェハ表面保護用シートを得た。そして、実施例3と同様にして、半導体ウェハ表面保護用シートの評価および研削後のウェハの評価を行った。
樹脂層(B)の樹脂として、三井化学(株)製Notio PN3560を、水添スチレン・ブタジエンゴム(HSBR)に変更した以外は、実施例3と同様にして半導体ウェハ表面保護用シートを得た。そして、実施例3と同様にして、半導体ウェハ表面保護用シートの評価および研削後のウェハの評価を行った。
樹脂層(B)の樹脂として、三井化学(株)製Notio PN3560に5重量%のポリプロピレン(PP)を添加した樹脂を用いた以外は、実施例3と同様にして半導体ウェハ表面保護用シートを得た。そして、実施例3と同様にして、半導体ウェハ表面保護用シートの評価および研削後のウェハの評価を行った。
基材層として、厚み75μmのポリエチレンテレフタレート層上に、厚み20μmのポリオレフィン層(三井化学(株)製 Admer)を積層した以外は、実施例3と同様にして半導体ウェハ表面保護用シートを得た。そして、実施例3と同様にして、半導体ウェハ表面保護用シートの評価および研削後のウェハの評価を行った。
基材層として、厚み75μmのポリエチレンテレフタレート層上に、厚み20μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)層を積層した以外は、実施例3と同様にして半導体ウェハ表面保護用シートを得た。そして、実施例3と同様にして、半導体ウェハ表面保護用シートの評価および研削後のウェハの評価を行った。
基材層として、厚み75μmのポリエチレンテレフタレート層上に、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)層を積層し、かつ樹脂層(B)を形成しなかった以外は実施例3と同様にして半導体ウェハ表面保護用シートを得た。そして、実施例3と同様にして、半導体ウェハ表面保護用シートの評価および研削後のウェハの評価を行った。
樹脂層(B)の厚みを100μmに変更した以外は実施例3と同様にして半導体ウェハ表面保護用シートを得た。そして、実施例3と同様にして、半導体ウェハ表面保護用シートの評価および研削後のウェハの評価を行った。
樹脂層(A)を、エチレン−酢酸ビニル共重合体(エバフレックスEV420、三井デュポンポリケミカル社製)に変更し、厚みを480μmとしたこと以外は、比較例2と同様にして半導体ウェハ表面保護用シートを得た。そして、実施例3と同様にして、半導体ウェハ表面保護用シートの評価および研削後のウェハの評価を行った。
樹脂層(B)の樹脂として、三井化学(株)製Notio PN3560を、以下のようにして調製したUV粘着剤に変更した以外は実施例3と同様にして半導体ウェハ表面保護用シートを得た。そして、比較例4では実施例3と同様にして、比較例5では実施例2と同様にして、半導体ウェハ表面保護用シートの評価および研削後のウェハの評価を行った。
アクリル酸エチル30重量部、アクリル酸2−エチルヘキシル40重量部、アクリル酸メチル10重量部、およびメタクリル酸グリシジル20重量部のモノマー混合物を、ベンゾイルパーオキサイド系重合開始剤〔日本油脂(株)製、ナイパーBMT−K40〕0.8重量部(開始剤として0.32重量部)を用いて、トルエン65重量部、酢酸エチル50重量部中にて80℃で10時間反応させた。反応終了後、得られた溶液を冷却し、さらにキシレン100重量部と、アクリル酸10重量部と、テトラデシルジメチルベンジルアンモニウムクロライド〔日本油脂(株)製、カチオンM2−100〕0.3重量部とを加えて、空気を吹き込みながら85℃で50時間反応させた。これにより、アクリル系粘着剤ポリマーの溶液(粘着剤主剤)を得た。
得られたアクリル系粘着剤ポリマーの溶液(粘着剤主剤)に、アクリル系粘着剤ポリマー固形分100重量部に対して、分子内結合開裂型光重合開始剤としてベンジルジメチルケタール〔日本チバガイギー(株)、イルガキュアー651〕を2重量部、分子内に重合性炭素−炭素二重結合を有するモノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレートとの混合物〔東亜合成化学工業(株)製、アロニックスM−400〕を0.3重量部添加し、さらに熱架橋剤としてイソシアナート系架橋剤〔三井東圧化学(株)製、オレスターP49−75−S〕を1.35重量部(熱架橋剤として1重量部)添加して、UV粘着剤を得た。
12 基材フィルム
14 樹脂層(A)
16 樹脂層(B)
20 半導体ウェハ
20A 回路形成面
22 回路保護層
24 半田バンプ
Claims (15)
- 25℃における引張弾性率E(25)が1GPa以上である基材層と、
25℃における引張弾性率EA(25)および60℃における引張弾性率EA(60)が、EA(60)/EA(25)<0.1の関係を満たし、かつ前記60℃における引張弾性率EA(60)が0.005〜1MPaである樹脂層(A)と、
60℃における引張弾性率EB(60)が、1MPa以上であって前記樹脂層(A)の60℃における引張弾性率EA(60)よりも高く、かつ厚さが0.1μm以上100μm未満である樹脂層(B)と、を有し、
前記樹脂層(A)が、前記基材層と前記樹脂層(B)との間に1層以上配置されている、半導体ウェハ表面保護用シート。 - 前記樹脂層(B)は、前記半導体ウェハ表面保護用シートの最表面に配置されている、請求項1に記載の半導体ウェハ表面保護用シート。
- 前記樹脂層(A)が、オレフィン系共重合体を含む、請求項1に記載の半導体ウェハ表面保護用シート。
- 樹脂層(A)の密度が800〜890kg/m3である、請求項1に記載の半導体ウェハ表面保護用シート。
- 前記樹脂層(B)が、ポリエチレン系エラストマーおよびポリスチレン系エラストマーからなる群より選ばれる少なくとも1種類の樹脂を含む、請求項1に記載の半導体表面保護用シート。
- 前記基材フィルムが、ポリオレフィン層と、ポリエステル層と、ポリオレフィン層とポリエステル層の積層体とからなる群より選ばれる少なくとも1種類の層である、請求項1に記載の半導体ウェハ表面保護用シート。
- 前記樹脂層(A)の厚みtAが、半導体ウェハの回路形成面に設けられた段差よりも大きい、請求項1に記載の半導体ウェハ表面保護用シート。
- 半導体ウェハの回路形成面に、請求項1に記載の半導体ウェハ表面保護用シートを40〜80℃の温度で、0.3〜0.5MPaの圧力で貼り付ける第一工程と、
前記半導体ウェハ表面保護用シートが貼り付けられた半導体ウェハの回路非形成面を研削する第二工程と、
研削後の半導体ウェハの回路非形成面を加工する第三工程と、
前記半導体ウェハ表面保護用シートを剥離する第四工程と、を含む、半導体ウェハの保護方法。 - 前記半導体ウェハの回路形成面には、200μm以上の段差が設けられている、請求項8に記載の半導体ウェハの保護方法。
- 前記半導体ウェハの回路形成面には、多孔質構造を有する回路保護層がさらに設けられている、請求項8に記載の半導体ウェハの保護方法。
- 前記第三工程が、メタルスパッタリング工程、メッキ処理工程および加熱処理工程からなる群より選ばれる少なくとも1種類の工程を含む、請求項8に記載の半導体ウェハの保護方法。
- 半導体ウェハの回路形成面に、請求項1に記載の半導体ウェハ表面保護用シートを40〜80℃の温度で、0.3〜0.5MPaの圧力で貼り付ける第一工程と、
前記半導体ウェハ表面保護用シートが貼り付けられた半導体ウェハの回路非形成面を研削する第二工程と、
研削後の半導体ウェハの回路非形成面を加工する第三工程と、
前記半導体ウェハ表面保護用シートを剥離する第四工程と、を含む、半導体装置の製造方法。 - 前記半導体ウェハの回路形成面には、200μm以上の段差が設けられている、請求項12に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体ウェハの回路形成面には、多孔質構造を有する回路保護層がさらに設けられている、請求項12に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第三工程が、メタルスパッタリング工程、メッキ処理工程および加熱処理工程からなる群より選ばれる少なくとも1種類の工程を含む、請求項12に記載の半導体装置の製造方法。
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