JP4905131B2 - 光学素子形成用成形型並びにその製造方法及び再生方法 - Google Patents
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- 光学面を形成するための下地用型面を有する基盤領域と前記基盤領域の周辺部分であるフランジ部とを含む基板部材と、
前記基板部材の前記基盤領域の前記下地用型面と前記フランジ部の平坦な上面とを覆うように形成されるとともに、所定の処理液によって溶解する第1層と、
前記第1層のうち前記フランジ部の上面に相当する平坦な領域の少なくとも一部を残して、前記第1層の前記基盤領域の前記下地用型面に相当する領域を覆う第2層とを備える光学素子形成用成形型。 - 前記基板部材は、炭化珪素、窒化珪素、酸化珪素、超硬ステンレス鋼、及びサーメットの少なくとも一種からなることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子形成用成形型。
- 前記第1層は、酸、若しくはアルカリに対して可溶性がある膜であることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子形成用成形型。
- 前記第2層は、Au、Ag、Ir、Re、Os、Pd、Rh、Ru、及びPtの一種類以上を主成分として含む貴金属膜であることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子形成用成形型。
- 前記第1層は、0.05μm〜20μmの厚さを有することを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子形成用成形型。
- 前記第2層は、0.05μm〜20μmの厚さを有することを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子形成用成形型。
- 前記第1層及び第2層の少なくとも一方は、スパッタ、CVD、蒸着、及びイオンプレーティング法のいずれかにより形成された膜であることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子形成用成形型。
- 前記第1層を構成する少なくとも一つの元素と前記第2層を構成する少なくとも一つの元素とをともに含む混合層が前記第1層と前記第2層との間に形成されていることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子形成用成形型。
- 前記第1層と前記下地用型面との間に、前記第1層のエッチング液に対して不溶な第3層をさらに備えることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子形成用成形型。
- 前記第3層は、金属の窒化物、炭化物、酸化物、及び、セラミックスの少なくとも一種以上を主成分とすることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子形成用成形型。
- 光学面を形成するための下地用型面を有する基盤領域と前記基盤領域の周辺部分であるフランジ部とを含む基板部材を準備する工程と、
前記基板部材の前記基盤領域の前記下地用型面と前記フランジ部の平坦な上面とを覆うように形成されるとともに、所定の処理液によって溶解する第1層を形成する工程と、
前記第1層のうち前記フランジ部の上面に相当する平坦な領域の少なくとも一部を残して、前記第1層の前記基盤領域の前記下地用型面に相当する領域を覆う第2層を形成する工程とを備える光学素子形成用成形型の製造方法。 - 前記第2層の形成に際して、前記第1領域の周辺部の一部をマスキングして前記第2層を形成することで、前記第1領域よりも狭い前記第2領域に前記第2層を形成することを特徴とする請求の範囲第11項に記載の光学素子形成用成形型の製造方法。
- 前記基板部材は、炭化珪素、窒化珪素、酸化珪素、超硬ステンレス鋼、及びサーメットの少なくとも一種からなることを特徴とする請求の範囲第12項に記載の光学素子形成用成形型の製造方法。
- 前記第1層は、酸、若しくはアルカリに対して可溶性がある膜であることを特徴とする請求の範囲第12項に記載の光学素子形成用成形型の製造方法。
- 前記第2層は、Au、Ag、Ir、Re、Os、Pd、Rh、Ru、及びPtの一種類以上を主成分として含む貴金属膜であることを特徴とする請求の範囲第12項に記載の光学素子形成用成形型の製造方法。
- 前記第1層は、0.05μm〜20μmの厚さを有することを特徴とする請求の範囲第12項に記載の光学素子形成用成形型の製造方法。
- 前記第2層は、0.05μm〜20μmの厚さを有することを特徴とする請求の範囲第12項に記載の光学素子形成用成形型の製造方法。
- 前記第1層及び第2層の少なくとも一方は、スパッタ、CVD、蒸着、及びイオンプレーティング法のいずれかにより形成された膜であることを特徴とする請求の範囲第12項に記載の光学素子形成用成形型の製造方法。
- 前記第1層を構成する少なくとも一つの元素と前記第2層を構成する少なくとも一つの元素とをともに含む混合層を前記第1層と前記第2層との間に形成することを特徴とする請求の範囲第12項に記載の光学素子形成用成形型の製造方法。
- 前記第1層のエッチング液に対して不溶な第3層を前記第1層の下部に形成することを特徴とする請求の範囲第12項に記載の光学素子形成用成形型の製造方法。
- 前記第3層は、金属の窒化物、炭化物、酸化物、及び、セラミックスの少なくとも一種以上を主成分とすることを特徴とする請求の範囲第12項に記載の光学素子形成用成形型の製造方法。
- 光学面を形成するための下地用型面を有する基盤領域と前記基盤領域の周辺部分であるフランジ部とを含む基板部材と、
前記基板部材の前記基盤領域の前記下地用型面と前記フランジ部の平坦な上面とを覆うように形成されるとともに、所定の処理液によって溶解する第1層と、
前記第1層のうち前記フランジ部の上面に相当する平坦な領域の少なくとも一部を残して、前記第1層の前記基盤領域の前記下地用型面に相当する領域を覆う第2層とを備える光学素子形成用成形型の再生方法であって、
前記第1層をエッチングにより溶かすことによって前記第2層を除去する工程と、
前記基板部材を洗浄後、露出した前記基盤領域の前記下地用型面と前記フランジ部の平坦な上面とを覆うように前記第1層を再度設ける工程と、
前記第1層のうち前記フランジ部の上面に相当する平坦な領域の少なくとも一部を残して、前記第1層の前記基盤領域の前記下地用型面に相当する領域を覆う第2層を形成する工程とを備えることを特徴とする光学素子形成用成形型の再生方法。 - 前記基板部材の洗浄後に下地用型面を含む型形状のチェックを行うことを特徴とする請求の範囲第22項に記載の光学素子形成用成形型の再生方法。
- 前記第1層のエッチングに用いる液は、酸、及びアルカリのいずれかであることを特徴とする請求の範囲第22項に記載の光学素子形成用成形型の再生方法。
- 前記第1層のエッチングに用いる液を、前記第1領域の範囲内であって、前記第2領域の範囲外に接触させることを特徴とする請求の範囲第22項に記載の光学素子形成用成形型の再生方法。
- 前記第2層を形成する第2領域は、前記第1層を形成する第1領域の内側に設けられ、かつ、下地用型面を完全に覆うことを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子形成用成形型。
- 前記第2層を形成する第2領域は、前記第1層を形成する第1領域の内側に設けられ、かつ、下地用型面を完全に覆うことを特徴とする請求の範囲第11項に記載の光学素子形成用成形型の製造方法。
- 前記第2層を形成する第2領域は、前記第1層を形成する第1領域の内側に設けられ、かつ、下地用型面を完全に覆うことを特徴とする請求の範囲第22項に記載の光学素子形成用成形型の再生方法。
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