JP4895226B2 - 重合開始剤、それを用いた高分子修飾材料の製造方法、および高分子修飾材料を含む成型体 - Google Patents
重合開始剤、それを用いた高分子修飾材料の製造方法、および高分子修飾材料を含む成型体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4895226B2 JP4895226B2 JP2008183595A JP2008183595A JP4895226B2 JP 4895226 B2 JP4895226 B2 JP 4895226B2 JP 2008183595 A JP2008183595 A JP 2008183595A JP 2008183595 A JP2008183595 A JP 2008183595A JP 4895226 B2 JP4895226 B2 JP 4895226B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymerization initiator
- substrate
- polymer
- group
- polymerization
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Polymerization Catalysts (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
Description
Chem.、2005年、第43巻、4695〜4709頁(非特許文献3))。さらに、カーボンブラックの表面のカルボキシル基を水酸基に変換し、この水酸基に2−ブロモ−2−メチルプロピオニルブロミドを反応させ、カーボンブラックの表面に重合開始剤を固定化する方法も知られている(Yang Q. et al.、J. Polym. Sci. Part A: Polym.
Chem.、2007年、第45巻、3451〜3459頁(非特許文献4))。
X1−CH2−Ar−(Y1)n (1)
[式(1)中、X1はハロゲン原子を表し、Arは芳香族環を表し、Y1は重合開始能を備える官能基を含有する基を表し、後述する式(2)〜(6)で表される基のいずれかであり、nは1〜3の整数である。]
で表されるハロゲン化メチル芳香族化合物誘導体を含むことを特徴とするものである。
表面に前記原子移動ラジカル重合開始剤が結合した前記基材とラジカル重合性モノマーとを反応させて前記基材の表面に前記ラジカル重合性モノマーをグラフト重合せしめる工程と、
を含むことを特徴とする方法である。
先ず、本発明の重合開始剤について説明する。本発明の重合開始剤は、下記式(1):
X1−CH2−Ar−(Y1)n (1)
で表されるハロゲン化メチル芳香族化合物誘導体を含むことを特徴とするものである。この重合開始剤は原子移動ラジカル重合開始剤であり、例えば、バルク重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合などにおけるラジカル重合開始剤として使用することができる。
が挙げられる。
次に、本発明の高分子修飾材料の製造方法について説明する。本発明の高分子修飾材料の製造方法においては、先ず、表面に求核性官能基を有する基材と本発明の重合開始剤とを反応させる。これにより、基材表面の求核性官能基と前記重合開始剤中のハロゲン化メチル基とが反応して基材表面に前記重合開始剤が結合される。
(i)シリカまたはチタニアなどの金属酸化物にアミノ基またはメルカプト基を導入する場合には、それぞれ(3−アミノプロピル)トリエトキシシランまたは(3−メルカプトプロピル)トリエトキシシランなどにより表面を化学修飾する。
(ii)炭素材料にカルボキシル基またはフェノール性水酸基を導入する場合には、酸化剤を用いて表面を酸化させる。
(iii)高分子架橋微粒子にアミノ基、カルボキシル基またはフェノール性水酸基を導入する場合には、それぞれ当該官能基を有するモノマーを架橋剤とともに乳化重合する。
<重合開始剤の合成>
先ず、トルエン1.2Lにp−キシレン−α,α’−ジオール83g(0.60mol)を懸濁させ、この懸濁液に濃塩酸300mlを添加し、室温で9時間攪拌して反応させた。得られた油層を水洗した後、エバポレータを用いて溶媒を除去して濃縮乾固させた。得られた固形物を、クロロホルムを用いて再結晶させ、p−(クロロメチル)ベンジルアルコールを得た。
<ポリメタクリル酸ブチル修飾カーボンブラックの製造>
先ず、カーボンブラック(三菱化学(株)製「MA285」、比表面積60m2/g)1.0g、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)10mlおよび1,8−ビス(ジメチルアミノ)ナフタレン10mg(47μmol)を混合し、この混合物に超音波処理を施して前記カーボンブラックを前記DMAcに分散させた。この分散液に、実施例1で得た2−ブロモイソ酪酸−p−(ブロモメチル)ベンジル0.10g(0.29mmol)を添加し、40℃で12時間反応させ、カーボンブラックに重合開始剤である2−ブロモイソ酪酸−p−(ブロモメチル)ベンジルを導入した。この重合開始剤を導入したカーボンブラック(以下、「重合開始剤修飾カーボンブラック」という。)にメタノールを添加した後、遠心分離を施し、この操作を繰り返して前記重合開始剤修飾カーボンブラックを精製した。
<ポリメタクリル酸メチル修飾シリカ微粒子の製造>
先ず、平均粒径200nmのシリカ微粒子((株)日本触媒製「KE−P20」、半径100nm、密度1.9×10−21g/nm3)5gを30mlのアセトニトリル(AcCN)中に分散させた後、(3−アミノプロピル)トリエトキシシラン1ml(4.3mmol)を添加した。この分散液に超音波処理を施しながら50℃で6時間反応させ、前記シリカ微粒子にアミノ基を導入した。このアミノ基を備えるシリカ微粒子(以下、「アミン修飾シリカ微粒子」という。)にアセトニトリル(AcCN)とジメチルアセトアミド(DMAc)との混合溶媒(AcCN/DMAc(体積比)=2/1)を加えて再分散させた後、遠心分離を施し、この操作を繰り返し施してアミン修飾シリカ微粒子を洗浄した。
Claims (3)
- 表面に求核性官能基を有する基材と請求項1に記載の原子移動ラジカル重合開始剤とを反応させて前記基材の表面に前記原子移動ラジカル重合開始剤を結合せしめる工程と、
表面に前記原子移動ラジカル重合開始剤が結合した前記基材とラジカル重合性モノマーとを反応させて前記基材の表面に前記ラジカル重合性モノマーをグラフト重合せしめる工程と、
を含むことを特徴とする高分子修飾材料の製造方法。 - 請求項2に記載の製造方法により得られた高分子修飾材料を含有することを特徴とする成型体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008183595A JP4895226B2 (ja) | 2008-07-15 | 2008-07-15 | 重合開始剤、それを用いた高分子修飾材料の製造方法、および高分子修飾材料を含む成型体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008183595A JP4895226B2 (ja) | 2008-07-15 | 2008-07-15 | 重合開始剤、それを用いた高分子修飾材料の製造方法、および高分子修飾材料を含む成型体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010024263A JP2010024263A (ja) | 2010-02-04 |
JP4895226B2 true JP4895226B2 (ja) | 2012-03-14 |
Family
ID=41730386
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008183595A Expired - Fee Related JP4895226B2 (ja) | 2008-07-15 | 2008-07-15 | 重合開始剤、それを用いた高分子修飾材料の製造方法、および高分子修飾材料を含む成型体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4895226B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5473340B2 (ja) * | 2009-01-22 | 2014-04-16 | 日揮触媒化成株式会社 | 重合開始基付き無機酸化物粒子並びにその製造方法、および該無機酸化物粒子を用いて得られる高分子修飾無機酸化物粒子並びにその製造方法 |
JP5674143B2 (ja) * | 2011-03-09 | 2015-02-25 | 株式会社豊田中央研究所 | 誘電材料 |
JP5741486B2 (ja) | 2011-03-30 | 2015-07-01 | 株式会社豊田中央研究所 | 表面改質材、表面改質用スルホンイミド化合物、及び燃料電池 |
JP6091232B2 (ja) * | 2013-02-06 | 2017-03-08 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 開始剤修飾ナノロッド及びその製造方法、グラフト化ナノロッド及びその製造方法、グラフト化ナノロッド分散液晶、グラフト化ナノロッド分散液晶配向膜、偏光光学素子、並びに、キャップ剤修飾ナノロッド |
JP6528260B2 (ja) * | 2014-09-02 | 2019-06-12 | 国立大学法人京都大学 | 重合体の製造方法、及びリビングラジカル重合開始剤 |
EP3792267A4 (en) * | 2018-05-07 | 2022-03-16 | Ochanomizu University | IODINE COMPOUND |
CN109400827B (zh) * | 2018-11-05 | 2020-10-30 | 浙江理工大学上虞工业技术研究院有限公司 | 一种超高接枝密度聚合物分子刷的制备方法 |
CN115386148A (zh) * | 2022-08-11 | 2022-11-25 | 上海科邦医用乳胶器材有限公司 | 一种天然医用橡胶手套及其制备方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4244327B2 (ja) * | 2004-03-19 | 2009-03-25 | 富士フイルム株式会社 | 表面グラフト材料およびそれを用いたグラフトパターン形成方法 |
JP4502855B2 (ja) * | 2004-03-23 | 2010-07-14 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法 |
JP4982748B2 (ja) * | 2004-05-07 | 2012-07-25 | 国立大学法人京都大学 | 高分子グラフト微粒子によるコロイド結晶の製造方法 |
JP4708736B2 (ja) * | 2004-05-31 | 2011-06-22 | キヤノン株式会社 | 電気泳動粒子及びその製造方法 |
JP2009503806A (ja) * | 2005-07-29 | 2009-01-29 | 富士フイルム株式会社 | グラフトポリマーパターン形成方法及び導電性パターン形成方法 |
-
2008
- 2008-07-15 JP JP2008183595A patent/JP4895226B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010024263A (ja) | 2010-02-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4895226B2 (ja) | 重合開始剤、それを用いた高分子修飾材料の製造方法、および高分子修飾材料を含む成型体 | |
JP5171248B2 (ja) | 原子移動ラジカル重合法 | |
JP6403679B2 (ja) | 付加開裂剤 | |
JP5645165B2 (ja) | リビングラジカル重合の重合開始剤 | |
JP2008530306A (ja) | 改質された炭素粒子 | |
JP2009515005A (ja) | 水酸化マグネシウムポリマーハイブリッド粒子の製造方法 | |
TW200829625A (en) | 1,3-dipolar cycloaddition of azides to alkynes | |
JP5460592B2 (ja) | 嫌気性硬化性組成物のための硬化成分として有用な新規付加物 | |
WO2009139450A1 (ja) | アルミナ複合材 | |
KR20130139233A (ko) | 사슬 말단 부근에 수분-경화성 관능기 클러스터를 갖는 경화성 조성물 | |
JP2012188476A (ja) | 誘電材料 | |
CN109970932B (zh) | 一种微米级固载氮氧自由基和磺酸基的双功能聚合物刷的制备方法及应用 | |
JP4692752B2 (ja) | 重合反応用溶媒および重合体製造方法 | |
US20020103320A1 (en) | Process for the production of telechelic substances, telechelic substances produced in this manner and use thereof | |
JPH01268709A (ja) | カルボキシル基含有マクロモノマー | |
WO2000078709A1 (fr) | Alcoxyamine vinyle, son utilisation et son procede de preparation | |
JP2005029683A (ja) | マレイミド基含有ポリマー粒子およびその製造方法 | |
CN1675289A (zh) | 表面活性剂类聚合物凝胶和使用该凝胶分离材料的方法 | |
JP4645103B2 (ja) | ケイ素化合物 | |
JPH10130347A (ja) | ポリマーの製造法 | |
JPH05295052A (ja) | グラフト化ビニルポリマーの製造方法 | |
JP3275714B2 (ja) | ペルオキシド、ビニル系単量体の重合開始剤及びそれを用いる重合方法 | |
JP2006176587A (ja) | 連鎖移動剤およびそれを用いた重合方法 | |
JP6394785B2 (ja) | 水溶性重合体の製造方法 | |
JPH06298861A (ja) | カルボキシ含有モノマー並びにそれから製造されるポリマー及びラテックス |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110830 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110912 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111025 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20111025 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111202 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111215 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150106 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150106 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313532 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150106 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |