JP5674143B2 - 誘電材料 - Google Patents
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- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 title claims description 53
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 80
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 79
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 claims description 72
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 claims description 72
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 35
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 28
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 22
- -1 halogenated methyl aromatic compound Chemical class 0.000 claims description 15
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims description 15
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 11
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 claims description 9
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 6
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 6
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 5
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 4
- 125000003262 carboxylic acid ester group Chemical class [H]C([H])([*:2])OC(=O)C([H])([H])[*:1] 0.000 claims 1
- 229920001490 poly(butyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 62
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 47
- 239000002048 multi walled nanotube Substances 0.000 description 34
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 27
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 20
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 6
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 5
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 5
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 4
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BJCBXEQGZMWAQO-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-bromo-2-methylpropanoate Chemical compound CC(C)(Br)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 BJCBXEQGZMWAQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 230000003100 immobilizing effect Effects 0.000 description 3
- OWFXIOWLTKNBAP-UHFFFAOYSA-N isoamyl nitrite Chemical compound CC(C)CCON=O OWFXIOWLTKNBAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 239000002114 nanocomposite Substances 0.000 description 3
- 238000001542 size-exclusion chromatography Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GJFNRSDCSTVPCJ-UHFFFAOYSA-N 1,8-bis(dimethylamino)naphthalene Chemical compound C1=CC(N(C)C)=C2C(N(C)C)=CC=CC2=C1 GJFNRSDCSTVPCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical group N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IYXMNTLBLQNMLM-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-diamine;hydron;dichloride Chemical compound Cl.Cl.NC1=CC=C(N)C=C1 IYXMNTLBLQNMLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M copper(i) bromide Chemical compound Br[Cu] NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 2
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 2
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000000527 sonication Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 2
- WGGLDBIZIQMEGH-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-4-ethenylbenzene Chemical compound BrC1=CC=C(C=C)C=C1 WGGLDBIZIQMEGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXSPGBOGLXKMDU-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-2-methylpropanoic acid Chemical group CC(C)(Br)C(O)=O XXSPGBOGLXKMDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXYAVSFOJVUIHT-UHFFFAOYSA-N 2-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C=C)=CC=C21 KXYAVSFOJVUIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYMOEINVGRTEX-ARJAWSKDSA-N Ethyl hydrogen fumarate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(O)=O XLYMOEINVGRTEX-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000001237 Raman spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- NRIMHVFWRMABGJ-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]hepta-2,5-diene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1C2C(C(=O)O)=C(C(O)=O)C1C=C2 NRIMHVFWRMABGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000002134 carbon nanofiber Substances 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N fumaric acid monoethyl ester Natural products CCOC(=O)C=CC(O)=O XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 229910003471 inorganic composite material Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- BLLFVUPNHCTMSV-UHFFFAOYSA-N methyl nitrite Chemical compound CON=O BLLFVUPNHCTMSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002071 nanotube Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004360 trifluorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
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Description
X 2 −CH 2 −Ar−(Y 1 ) i
(式中、X 2 はハロゲン原子を表し、Arはアリーレン基を表し、Y 1 は重合開始能を有する官能基を表し、iは1〜3の整数である)
で表されるハロゲン化メチル芳香族化合物誘導体の残基を介して前記連結基に結合していることが好ましい。前記高分子鎖の数平均分子量としては、1万以上が好ましい。
−Ar−N< (1)
−Ar−NH− (2)
−Ar−O− (3)
−Ar−S− (4)
−Ar−COO− (5)
−Ar−CONH− (6)
(式(1)〜(6)中のArは、アリーレン基を表す。)
のいずれかで表される、芳香環を含有する2価または3価の基が特に好ましい。このような連結基の少なくとも1つの末端はカーボンナノチューブの炭素原子と結合し、残りの末端の少なくとも1つは前記高分子鎖と結合している。
に従って、カーボンナノチューブの表面に反応性官能基を有する芳香族ジアゾニウム塩を付加させる。すなわち、カーボンナノチューブと前記反応性官能基を有する芳香族アミン塩とを混合し、この混合物に溶媒と水を添加し、さらにジアゾ化剤を添加して前記反応を進行させる。このとき、ジアゾ化剤の添加によって、反応性官能基を有する芳香族アミン塩から反応性官能基を有する芳香族ジアゾニウム塩が生成し、これがカーボンナノチューブの表面に付加する。
に従って、前記反応性官能基により前記ハロゲン化メチル芳香族化合物誘導体中のハロゲン原子を置換し、カーボンナノチューブの表面に重合開始剤を固定化する。この反応における反応温度としては20〜120℃が好ましく、反応時間としては1〜24時間が好ましい。なお、ハロゲン化メチル芳香族化合物誘導体は、特開2010−24263号公報に記載の方法により調製することができる。
に従って、カーボンナノチューブに固定化された重合開始剤の重合開始能を有する官能基を起点として、重合反応(好ましくは、ラジカル重合反応、より好ましくはリビングラジカル重合反応)を行い、カーボンナノチューブの表面に高分子鎖をグラフト結合せしめる。前記重合性モノマーとしては、上述したラジカル重合性モノマーなどが挙げられ、重合触媒としては、公知のものを使用することができる。重合反応温度および重合反応時間については、重合性モノマーの種類、目的とする高分子鎖の数平均分子量などに応じて適宜設定することができる。
<アミン修飾カーボンナノチューブの合成>
多層カーボンナノチューブ(Nanocyl社製「Nanocyl−7000」、平均直径9.5nm、平均長さ1.5μm、比表面積220m2/g、密度1.8g/cm3。以下「MWCNT」と略す。)2.4gとp−フェニレンジアミン二塩酸塩18.1g(100mmol)とを混合し、この混合物にジメチルアセトアミド(DMAc)300mlおよび水100mlを添加し、5℃に冷却した。得られた分散液に亜硝酸イソアミル14.1ml(105mmol)を添加した後、窒素気流中、超音波処理を施しながら、下記式(16):
MWCNT−PhNH22.8gに、2−ブロモイソ酪酸−p−(ブロモメチル)ベンジル3.5g(10mmol)、1,8−ビス(ジメチルアミノ)ナフタレン0.90g(4.2mmol)およびDMAc280mlを添加し、超音波処理を施しながら、下記式(17):
で表される反応を40℃で24時間行なった。反応生成物(MWCNT−Br)をろ過により精製した後、真空乾燥させた。
前記MWCNT−Br0.60gと臭化銅(I)28.6mg(200μmol)と2−ブロモイソ酪酸ベンジル1.9μl(10μmol)とを混合し、この混合物にDMAc80mlを添加し、超音波処理を施してMWCNT−Brを含む溶液を調製した。なお、前記2−ブロモイソ酪酸ベンジルは、遊離のPBMAを同時に合成するための重合開始剤である。この溶液に2,2’−ビピリジル62.4mg(400μmol)およびメタクリル酸n−ブチル(BMA)40ml(250mmol)を添加し、60℃で1時間攪拌して、下記式(18):
で表される重合反応を行なった。反応生成物をメタノールで再沈させた後、ベンゼンに溶解させて遠心分離(41000rpm)を施し、複合材料(MWCNT−PBMA)と遊離のPBMAとを分離した。
前記MWCNT−PBMAを合成する際の重合時間を4時間に変更し、且つ遊離の重合開始剤(2−ブロモイソ酪酸ベンジル)を添加しなかった以外は実施例1と同様にして複合材料(MWCNT−PBMA)を調製した。なお、この実施例においては、遊離の重合開始剤を添加していないため、遊離のPBMAは合成されない。得られたMWCNT−PBMAにおけるMWCNTの体積分率を実施例1と同様にして求めたところ、0.091であった。
前記MWCNT−PBMAを合成する際の重合時間を12時間に変更した以外は実施例2と同様にして複合材料(MWCNT−PBMA)を調製した。なお、この実施例においても、実施例2と同様に、遊離の重合開始剤を添加していないため、遊離のPBMAは合成されない。得られたMWCNT−PBMAにおけるMWCNTの体積分率を実施例1と同様にして求めたところ、0.037であった。
前記MWCNT−PBMAを合成する際の重合時間を2時間に変更した以外は実施例2と同様にして複合材料(MWCNT−PBMA)を調製した。なお、この実施例においても、実施例2と同様に、遊離の重合開始剤を添加していないため、遊離のPBMAは合成されない。得られたMWCNT−PBMAにおけるMWCNTの体積分率を実施例1と同様にして求めたところ、0.12であった。
ポリメタクリル酸n−ブチル(アルドリッチ社製、以下「PBMA」と略す。)と、実施例1と同様にして合成したMWCNT−Brとを、MWCNTの体積分率が約0.04、約0.07、約0.09となるように混合した。得られた混合物(MWCNT−Br/PBMA)中のMWCNTの正確な体積分率を、実施例1と同様に熱重量分析により測定したところ、それぞれ0.038、0.068、0.095であった。
PBMA(アルドリッチ社製)と、チタン酸バリウム(BaTiO3、(株)高純度化学研究所製、平均粒子径1μm)とを、BaTiO3の体積分率が約0.1、約0.3、約0.5となるように混合した。得られた混合物(BaTiO3/PBMA)中のBaTiO3の正確な体積分率を、実施例1と同様に熱重量分析により測定したところ、それぞれ0.12、0.30、0.50であった。
<アミン修飾カーボンブラックの合成>
MWCNTの代わりにカーボンブラック(三菱化学(株)製「MA600」、平均粒子径20nm、比表面積140m2/g。以下「CB」と略す。)10gを用い、p−フェニレンジアミン二塩酸塩の量を3.6g(20mmol)に、DMAcの量を60mlに、水の量を20mlに、亜硝酸イソアミルの量を2.8ml(21mmol)に、反応時間を7時間に変更した以外は、実施例1と同様にしてアミン修飾カーボンブラック(CB−PhNH2)を合成した。
MWCNT−PhNH2の代わりにCB−PhNH210gを用い、2−ブロモイソ酪酸−p−(ブロモメチル)ベンジルの量を2.1g(6.0mmol)に、1,8−ビス(ジメチルアミノ)ナフタレンの量を0.43g(2.0mmol)に、DMAcの量を80mlに、反応時間を12時間に変更した以外は、実施例1と同様にして重合開始剤修飾カーボンブラック(CB−Br)を合成した。
前記CB−Br0.90gと臭化銅(I)28.6mg(200μmol)とを混合し、この混合物にDMAc60mlを添加し、超音波処理を施して前記CB−Brを分散させた。この分散液にメタクリル酸n−ブチル(BMA)30ml(190mmol)および2,2’−ビピリジル62.4mg(400μmol)を添加し、60℃で1時間攪拌して重合反応を行なった。反応生成物をメタノールで再沈した後、乾燥してカーボンブラックの表面にポリメタクリル酸ブチルがグラフト結合した複合材料(CB−PBMA)を得た。このCB−PBMAにおけるCBの体積分率を実施例1と同様にして求めたところ、0.43であった。
実施例1〜4で得られたMWCNT−PBMA、比較例1〜3で得られたMWCNT−Br/PBMA、比較例4〜6得られたBaTiO3/PBMA、および比較例7で得られたCB−PBMAのそれぞれについて、体積抵抗率、比誘電率、誘電損失正接を以下の方法により測定した。
Claims (7)
- カーボンナノチューブと、ビニル系モノマーをラジカル重合せしめることにより形成された高分子鎖とを含有し、前記高分子鎖が前記カーボンナノチューブの表面に共有結合した連結基を介してグラフト結合し、前記連結基が官能基を有する芳香族化合物の2価以上の残基であり、前記高分子鎖の前記カーボンナノチューブへの表面結合密度が、0.01chains/nm2以上であることを特徴とする誘電材料。
- 前記官能基が、アミノ基、水酸基、チオール基、カルボキシル基およびアミド基からなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項1に記載の誘電材料。
- 前記ビニル系モノマーが、不飽和カルボン酸モノマー、不飽和カルボン酸エステルモノマー、不飽和カルボン酸アミドモノマー、芳香族ビニル系モノマーおよびオレフィン系モノマーからなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項1または2に記載の誘電材料。
- 前記高分子鎖が、下記式:
X 2 −CH 2 −Ar−(Y 1 ) i
(式中、X 2 はハロゲン原子を表し、Arはアリーレン基を表し、Y 1 は重合開始能を有する官能基を表し、iは1〜3の整数である)
で表されるハロゲン化メチル芳香族化合物誘導体の残基を介して前記連結基に結合していることを特徴とする請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載の誘電材料。 - 前記高分子鎖の数平均分子量が、1万以上であることを特徴とする請求項1〜4のうちのいずれか一項に記載の誘電材料。
- 請求項1〜5のうちのいずれか一項に記載の誘電材料を含有することを特徴とする誘電性高分子材料。
- 請求項1〜5のうちのいずれか一項に記載の誘電材料を含有することを特徴とする誘電体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011051081A JP5674143B2 (ja) | 2011-03-09 | 2011-03-09 | 誘電材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011051081A JP5674143B2 (ja) | 2011-03-09 | 2011-03-09 | 誘電材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012188476A JP2012188476A (ja) | 2012-10-04 |
JP5674143B2 true JP5674143B2 (ja) | 2015-02-25 |
Family
ID=47082006
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011051081A Expired - Fee Related JP5674143B2 (ja) | 2011-03-09 | 2011-03-09 | 誘電材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5674143B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10584227B2 (en) | 2015-09-17 | 2020-03-10 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Silicone rubber composition and power cable |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2973626A1 (en) * | 2013-03-14 | 2016-01-20 | Saudi Basic Industries Corporation | Fractional order capacitor based on dielectric polymer doped with conductive nano-fillers |
CN103194858B (zh) * | 2013-04-23 | 2015-08-05 | 北京化工大学 | 一种高介电常数低介电损耗的弹性体复合材料及其制备方法 |
JP2015083620A (ja) * | 2013-10-25 | 2015-04-30 | 株式会社日立製作所 | フィルムコンデンサ及び製造装置 |
KR102450747B1 (ko) | 2018-07-27 | 2022-10-06 | 주식회사 엘지화학 | 탄소나노튜브의 제조방법 |
JP7453938B2 (ja) | 2021-04-27 | 2024-03-21 | 株式会社豊田中央研究所 | 高分子アクチュエータ |
CN115073878B (zh) * | 2022-08-15 | 2022-11-01 | 广东盟信塑胶实业有限公司 | 一种碳纳米管接枝阻燃抗静电聚甲醛复合材料及其制备方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4425083B2 (ja) * | 2004-07-20 | 2010-03-03 | 大阪瓦斯株式会社 | ポリマー修飾ナノスケールカーボンチューブ及びその製造方法 |
WO2008104079A1 (en) * | 2007-02-28 | 2008-09-04 | National Research Council Of Canada | Nucleophilic substitution of carbon nanotubes |
JP5271922B2 (ja) * | 2007-02-28 | 2013-08-21 | ナショナル・リサーチ・カウンシル・オブ・カナダ | ブロック官能化方法 |
JP2008239747A (ja) * | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Tokai Rubber Ind Ltd | エラストマー複合材料 |
JP4895226B2 (ja) * | 2008-07-15 | 2012-03-14 | 株式会社豊田中央研究所 | 重合開始剤、それを用いた高分子修飾材料の製造方法、および高分子修飾材料を含む成型体 |
JP5328043B2 (ja) * | 2009-12-21 | 2013-10-30 | 日機装株式会社 | ポリマーグラフトカーボンナノチューブ、及びその製造方法 |
-
2011
- 2011-03-09 JP JP2011051081A patent/JP5674143B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10584227B2 (en) | 2015-09-17 | 2020-03-10 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Silicone rubber composition and power cable |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012188476A (ja) | 2012-10-04 |
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