JP4831967B2 - 光学系、光学装置、光学的に結像する方法、固有複屈折によって生じたリターダンスを低減する方法、フォトリソグラフィ・システム、および、半導体デバイスを形成する方法 - Google Patents
光学系、光学装置、光学的に結像する方法、固有複屈折によって生じたリターダンスを低減する方法、フォトリソグラフィ・システム、および、半導体デバイスを形成する方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4831967B2 JP4831967B2 JP2004529761A JP2004529761A JP4831967B2 JP 4831967 B2 JP4831967 B2 JP 4831967B2 JP 2004529761 A JP2004529761 A JP 2004529761A JP 2004529761 A JP2004529761 A JP 2004529761A JP 4831967 B2 JP4831967 B2 JP 4831967B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- retardance
- axis
- cubic
- elements
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
- G02B17/0892—Catadioptric systems specially adapted for the UV
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S359/00—Optical: systems and elements
- Y10S359/90—Methods
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lenses (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
光軸に沿って整列した複数の立方晶光学素子を含む第1の光学部分であって、前記複数の立方晶光学素子が複屈折性であり、前記光軸に沿って前記光学系を伝搬する光ビームにリターダンスを与える光学部分と、
1つまたは複数の光学素子を含む第2の光学部分であって、各々の光学素子が、前記光軸に沿って挿入された単一の複屈折軸を有する一軸複屈折媒質を含み、前記1つまたは複数の光学素子が、前記複数の立方晶光学素子によって導入された前記リターダンスを大幅に低減する複屈折量を有する光学部分とを具備し、
前記リターダンスを提供するために前記複数の立方晶光学素子の少なくとも1つが前記光軸の周りに回転され、
前記少なくとも1つの光学素子が応力部材を含み、該応力部材が前記一軸複屈折媒質へ応力を加えて前記一軸複屈折を誘導し、
前記一軸複屈折媒質は、[100]結晶軸が光軸に沿って整列した立方晶を含む。
前記光へリターダンスを導入する複屈折を有する複数の光学素子と、
前記複数の光学素子の前記リターダンスと正反対のリターダンスを生成し、前記複数の光学素子によって導入された前記リターダンスを相殺する複屈折媒質を有する1つまたは複数の構造複屈折光学素子とを具備し、
前記複数の光学素子は光軸に沿って整列し、前記リターダンスを提供するために前記複数の光学素子の少なくとも1つが前記光軸の周りに回転され、
前記少なくとも1つの構造複屈折光学素子が応力部材を含み、該応力部材が前記複屈折媒質へ応力を加えて前記複屈折を誘導し、
前記複屈折媒質は、[100]結晶軸が光軸に沿って整列した立方晶を含む。
第1のリターダンス収差を生成する固有複屈折を有する複数の立方晶素子を通して光を伝搬し、
一軸複屈折媒質を含む1つまたは複数の光学素子を通して前記光を伝搬することによって、前記第1のリターダンス収差と大きさが等しく形状が共役の第2のリターダンス収差を導入し、前記第1のリターダンス収差を相殺し、
前記複数の立方晶素子が光軸に沿って整列し、前記第1のリターダンスを提供するために前記複数の立方晶素子の少なくとも1つが前記光軸の周りに回転され、
前記少なくとも1つの光学素子が応力部材を含み、該応力部材が前記一軸複屈折媒質へ力を加えて前記一軸複屈折を誘導し、
前記一軸複屈折媒質は、[100]結晶軸が光軸に沿って整列した立方晶を含む、
ことを含む。
少なくとも1つの前記[111]立方晶光学素子を前記光軸の周りに回転して、少なくとも軸上の視野点からの光について前記光軸を中心とする瞳孔の上に、より円対称のリターダンス・パターンを提供し、
単一の複屈折軸を有する媒質を含む1つまたは複数の一軸複屈折素子を前記光学系へ導入し、該1つまたは複数の一軸複屈折素子が、円対称のリターダンス・パターンを提供し、該リターダンス・パターンが、少なくとも軸上の視野点からの光について、前記光軸を中心とする前記瞳孔の上に分布し、
前記複数の[111]立方晶光学素子に対応する前記リターダンス・パターンおよび前記1つまたは複数の一軸複屈折素子に対応する前記リターダンス・パターンが正反対であって、前記複数の[111]立方晶素子を通して透過された光ビームの中へ導入されたリターダンスが、前記1つまたは複数の一軸複屈折光学素子を通して前記ビームを透過したとき前記光ビームの中へ導入されるリターダンスによって相殺され、
前記少なくとも1つの一軸複屈折素子が応力部材を含み、該応力部材が前記媒質へ力を加えて前記一軸複屈折を誘導し、
前記媒質は、[100]結晶軸が光軸に沿って整列した立方晶を含む、
ことを含む。
レチクルを照射する光を出力する光源と、
前記光源から光を受け取るように配置されたコンデンサ・光学サブシステムであって、前記光から形成された光ビームを方向付けて前記レチクルを通すように配置されたコンデンサ・光学サブシステムと、
前記レチクルの像を基板の上に形成するように構成された投影光学サブシステムとを具備し、
前記投影光学サブシステムが、
前記レチクルを通って伝搬された、前記方向付けられた光ビームを受け取る1つまたは複数の立方晶レンズ素子であって、前記光ビームの中にリターダンス収差を導入する固有複屈折を有する1つまたは複数の立方晶レンズ素子と、
前記レチクルおよび前記1つまたは複数の立方晶レンズ素子の共通光路に沿って配置された少なくとも1つの一軸複屈折光学素子であって、単一の複屈折軸を有する一軸複屈折媒質を含み、前記1つまたは複数の立方晶レンズ素子によって導入された前記リターダンス収差に共役のリターダンス収差を前記光ビームの中に導入する複屈折を有する一軸複屈折光学素子とを具備し、
前記リターダンス収差を提供するために前記少なくとも1つの立方晶レンズ素子が前記光軸の周りに回転され、
前記少なくとも1つの一軸複屈折光学素子が応力部材を含み、該応力部材が前記一軸複屈折媒質へ力を加えて前記一軸複屈折を誘導し、
前記一軸複屈折媒質は、[100]結晶軸が光軸に沿って整列した立方晶を含む。
レチクルを通して光ビームを伝搬し、
複数の[111]立方晶光学素子を含み、該[111]立方晶光学素子のそれぞれの[111]立方晶軸が、前記[111]立方晶光学素子を通る共通光軸に整列した投影レンズ系の第1の部分へ前記光ビームを向け、該光ビームが、前記投影レンズ系の前記第1の部分によって導入された第1のリターダンス収差の結果として収差を生じ、前記第1のリターダンス収差が偏光の位相変動から生じ、前記[111]立方晶光学素子の少なくとも1つが前記共通光軸の周りに回転されて、軸上の視野点からの光に関連づけられた前記第1のリターダンス収差が、前記投影レンズ系の射出瞳で、前記光軸の周りで円対称にされ、
前記投影レンズ系の第2の部分を通して前記光ビームを伝搬し、前記投影レンズ系の前記第2の部分が1つまたは複数の光学素子を含み、前記投影レンズ系の前記第2の部分が偏光の位相変動から生じる第2のリターダンス収差を導入するように選択され、前記1つまたは複数の光学素子によって、前記投影レンズ系の前記射出瞳を通って伝搬する軸上の視野点からの光に関連づけられた前記第2のリターダンス収差が、前記光軸の周りで円対称にされて、前記軸上の視野点からの光に関連づけられた前記第1のリダーダンス収差を前記射出瞳で相殺することによって、
前記レチクルの光学像を形成し、
前記投影レンズ系によって出力された前記光ビームによって形成された前記光学像が前記基板の上に形成されるように前記基板を配置し、
前記少なくとも1つの光学素子が複屈折媒質を有し、前記少なくとも1つの光学素子が応力部材を含み、該応力部材が前記複屈折媒質へ力を加えて前記複屈折を誘導し、
前記複屈折媒質は、[100]結晶軸が光軸に沿って整列した立方晶を含む、
ことを含む。
ここで、ρは半径の寸法である。表IIにおいて、Kは錐体定数である。
Claims (15)
- 光学系であって、
光軸に沿って整列した複数の立方晶光学素子を含む第1の光学部分であって、前記複数の立方晶光学素子が複屈折性であり、前記光軸に沿って前記光学系を伝搬する光ビームにリターダンスを与える光学部分と、
1つまたは複数の光学素子を含む第2の光学部分であって、各々の光学素子が、前記光軸に沿って挿入された単一の複屈折軸を有する一軸複屈折媒質を含み、前記1つまたは複数の光学素子が、前記複数の立方晶光学素子によって導入された前記リターダンスを大幅に低減する複屈折量を有する光学部分とを具備し、
前記リターダンスを提供するために前記複数の立方晶光学素子の少なくとも1つが前記光軸の周りに回転され、
前記少なくとも1つの光学素子が応力部材を含み、該応力部材が前記一軸複屈折媒質へ応力を加えて前記一軸複屈折を誘導し、
前記一軸複屈折媒質は、[100]結晶軸が光軸に沿って整列した立方晶を含む、光学系。 - 前記単一の複屈折軸が前記光軸と平行に整列している、請求項1に記載の光学系。
- 前記一軸複屈折媒質が、1×10−6よりも大きい複屈折を有する、請求項1に記載の光学系。
- 前記一軸複屈折媒質が非立方晶材料を含む、請求項1に記載の光学系。
- 前記第2の光学部分の中の前記少なくとも1つの光学素子が、パワーを与えられた光学素子を含む、請求項1に記載の光学系。
- 前記一軸複屈折媒質がフッ化カルシウムを含む、請求項1に記載の光学系。
- 第1の光学部分の中の前記立方晶光学素子の少なくとも1つが、前記立方晶光学素子の他のものに関して光軸の周りで回転され、少なくとも軸上の視野点からの光について、より回転対称のリターダンス分布を取得する、請求項1に記載の光学系。
- 光を透過する光学装置であって、
前記光へリターダンスを導入する複屈折を有する複数の光学素子と、
前記複数の光学素子の前記リターダンスと正反対のリターダンスを生成し、前記複数の光学素子によって導入された前記リターダンスを相殺する複屈折媒質を有する1つまたは複数の構造複屈折光学素子とを具備し、
前記複数の光学素子は光軸に沿って整列し、前記リターダンスを提供するために前記複数の光学素子の少なくとも1つが前記光軸の周りに回転され、
前記少なくとも1つの構造複屈折光学素子が応力部材を含み、該応力部材が前記複屈折媒質へ応力を加えて前記複屈折を誘導し、
前記複屈折媒質は、[100]結晶軸が光軸に沿って整列した立方晶を含む、
光学装置。 - 前記構造複屈折光学素子が板を含む、請求項8に記載の光学装置。
- 前記構造複屈折光学素子が、パワーを与えられた光学素子を含む、請求項8に記載の光学装置。
- 光学的に結像する方法であって、
第1のリターダンス収差を生成する固有複屈折を有する複数の立方晶素子を通して光を伝搬し、
一軸複屈折媒質を含む1つまたは複数の光学素子を通して前記光を伝搬することによって、前記第1のリターダンス収差と大きさが等しく形状が共役の第2のリターダンス収差を導入し、前記第1のリターダンス収差を相殺し、
前記複数の立方晶素子が光軸に沿って整列し、前記第1のリターダンスを提供するために前記複数の立方晶素子の少なくとも1つが前記光軸の周りに回転され、
前記少なくとも1つの光学素子が応力部材を含み、該応力部材が前記一軸複屈折媒質へ力を加えて前記一軸複屈折を誘導し、
前記一軸複屈折媒質は、[100]結晶軸が光軸に沿って整列した立方晶を含む、
ことを含む方法。 - それぞれの[111]結晶軸が光軸に沿って整列した複数の[111]立方晶光学素子を含む光学系で、固有複屈折によって生じたリターダンスを低減する方法であって、
少なくとも1つの前記[111]立方晶光学素子を前記光軸の周りに回転して、少なくとも軸上の視野点からの光について前記光軸を中心とする瞳孔の上に、より円対称のリターダンス・パターンを提供し、
単一の複屈折軸を有する媒質を含む1つまたは複数の一軸複屈折素子を前記光学系へ導入し、該1つまたは複数の一軸複屈折素子が、円対称のリターダンス・パターンを提供し、該リターダンス・パターンが、少なくとも軸上の視野点からの光について、前記光軸を中心とする前記瞳孔の上に分布し、
前記複数の[111]立方晶光学素子に対応する前記リターダンス・パターンおよび前記1つまたは複数の一軸複屈折素子に対応する前記リターダンス・パターンが正反対であって、前記複数の[111]立方晶素子を通して透過された光ビームの中へ導入されたリターダンスが、前記1つまたは複数の一軸複屈折光学素子を通して前記ビームを透過したとき前記光ビームの中へ導入されるリターダンスによって相殺され、
前記少なくとも1つの一軸複屈折素子が応力部材を含み、該応力部材が前記媒質へ力を加えて前記一軸複屈折を誘導し、
前記媒質は、[100]結晶軸が光軸に沿って整列した立方晶を含む、
ことを含む方法。 - フォトリソグラフィ・システムであって、
レチクルを照射する光を出力する光源と、
前記光源から光を受け取るように配置されたコンデンサ・光学サブシステムであって、前記光から形成された光ビームを方向付けて前記レチクルを通すように配置されたコンデンサ・光学サブシステムと、
前記レチクルの像を基板の上に形成するように構成された投影光学サブシステムとを具備し、
前記投影光学サブシステムが、
前記レチクルを通って伝搬された、前記方向付けられた光ビームを受け取る1つまたは複数の立方晶レンズ素子であって、前記光ビームの中にリターダンス収差を導入する固有複屈折を有する1つまたは複数の立方晶レンズ素子と、
前記レチクルおよび前記1つまたは複数の立方晶レンズ素子の共通光路に沿って配置された少なくとも1つの一軸複屈折光学素子であって、単一の複屈折軸を有する一軸複屈折媒質を含み、前記1つまたは複数の立方晶レンズ素子によって導入された前記リターダンス収差に共役のリターダンス収差を前記光ビームの中に導入する複屈折を有する一軸複屈折光学素子とを具備し、
前記リターダンス収差を提供するために前記少なくとも1つの立方晶レンズ素子が前記光軸の周りに回転され、
前記少なくとも1つの一軸複屈折光学素子が応力部材を含み、該応力部材が前記一軸複屈折媒質へ力を加えて前記一軸複屈折を誘導し、
前記一軸複屈折媒質は、[100]結晶軸が光軸に沿って整列した立方晶を含む、
フォトリソグラフィ・システム。 - 前記一軸複屈折光学素子が、板の上に形成された多層薄膜を含む、請求項13に記載のフォトリソグラフィ・システム。
- 半導体デバイスを形成する方法であって、
レチクルを通して光ビームを伝搬し、
複数の[111]立方晶光学素子を含み、該[111]立方晶光学素子のそれぞれの[111]立方晶軸が、前記[111]立方晶光学素子を通る共通光軸に整列した投影レンズ系の第1の部分へ前記光ビームを向け、該光ビームが、前記投影レンズ系の前記第1の部分によって導入された第1のリターダンス収差の結果として収差を生じ、前記第1のリターダンス収差が偏光の位相変動から生じ、前記[111]立方晶光学素子の少なくとも1つが前記共通光軸の周りに回転されて、軸上の視野点からの光に関連づけられた前記第1のリターダンス収差が、前記投影レンズ系の射出瞳で、前記光軸の周りで円対称にされ、
前記投影レンズ系の第2の部分を通して前記光ビームを伝搬し、前記投影レンズ系の前記第2の部分が1つまたは複数の光学素子を含み、前記投影レンズ系の前記第2の部分が偏光の位相変動から生じる第2のリターダンス収差を導入するように選択され、前記1つまたは複数の光学素子によって、前記投影レンズ系の前記射出瞳を通って伝搬する軸上の視野点からの光に関連づけられた前記第2のリターダンス収差が、前記光軸の周りで円対称にされて、前記軸上の視野点からの光に関連づけられた前記第1のリダーダンス収差を前記射出瞳で相殺することによって、
前記レチクルの光学像を形成し、
前記投影レンズ系によって出力された前記光ビームによって形成された前記光学像が前記基板の上に形成されるように前記基板を配置し、
前記少なくとも1つの光学素子が複屈折媒質を有し、前記少なくとも1つの光学素子が応力部材を含み、該応力部材が前記複屈折媒質へ力を加えて前記複屈折を誘導し、
前記複屈折媒質は、[100]結晶軸が光軸に沿って整列した立方晶を含む、
ことを含む方法。
Applications Claiming Priority (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US40585302P | 2002-08-22 | 2002-08-22 | |
US60/405,853 | 2002-08-22 | ||
US43268802P | 2002-12-11 | 2002-12-11 | |
US60/432,688 | 2002-12-11 | ||
US10/331,101 US7072102B2 (en) | 2002-08-22 | 2002-12-26 | Methods for reducing polarization aberration in optical systems |
US10/331,101 | 2002-12-26 | ||
US10/331,103 | 2002-12-26 | ||
US10/331,159 | 2002-12-26 | ||
US10/331,159 US7075720B2 (en) | 2002-08-22 | 2002-12-26 | Structures and methods for reducing polarization aberration in optical systems |
US10/331,103 US6958864B2 (en) | 2002-08-22 | 2002-12-26 | Structures and methods for reducing polarization aberration in integrated circuit fabrication systems |
PCT/US2003/026164 WO2004019077A2 (en) | 2002-08-22 | 2003-08-21 | Structures and methods for reducing retardance |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005535939A JP2005535939A (ja) | 2005-11-24 |
JP4831967B2 true JP4831967B2 (ja) | 2011-12-07 |
Family
ID=31892049
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004529761A Expired - Fee Related JP4831967B2 (ja) | 2002-08-22 | 2003-08-21 | 光学系、光学装置、光学的に結像する方法、固有複屈折によって生じたリターダンスを低減する方法、フォトリソグラフィ・システム、および、半導体デバイスを形成する方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (5) | US7072102B2 (ja) |
JP (1) | JP4831967B2 (ja) |
AU (1) | AU2003258318A1 (ja) |
WO (1) | WO2004019077A2 (ja) |
Families Citing this family (65)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7239447B2 (en) * | 2001-05-15 | 2007-07-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Objective with crystal lenses |
EP1390783A2 (de) | 2001-05-15 | 2004-02-25 | Carl Zeiss | Objektiv mit fluorid-kristall-linsen |
DE10123725A1 (de) * | 2001-05-15 | 2002-11-21 | Zeiss Carl | Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie, Optisches System und Herstellverfahren |
US6683710B2 (en) * | 2001-06-01 | 2004-01-27 | Optical Research Associates | Correction of birefringence in cubic crystalline optical systems |
DE10133841A1 (de) * | 2001-07-18 | 2003-02-06 | Zeiss Carl | Objektiv mit Kristall-Linsen |
US6970232B2 (en) * | 2001-10-30 | 2005-11-29 | Asml Netherlands B.V. | Structures and methods for reducing aberration in integrated circuit fabrication systems |
US6995908B2 (en) * | 2001-10-30 | 2006-02-07 | Asml Netherlands B.V. | Methods for reducing aberration in optical systems |
US7453641B2 (en) * | 2001-10-30 | 2008-11-18 | Asml Netherlands B.V. | Structures and methods for reducing aberration in optical systems |
DE10162796B4 (de) * | 2001-12-20 | 2007-10-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zur Optimierung der Abbildungseigenschaften von mindestens zwei optischen Elementen sowie photolithographisches Fertigungsverfahren |
FR2838820B1 (fr) * | 2002-04-17 | 2006-03-17 | Sagem | Procede pour constituer un resonateur mecanique a structure vibrante monolithique plane usinee dans un materiau cristallin, et resonateur ainsi constitue |
US7292388B2 (en) * | 2002-05-08 | 2007-11-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Lens made of a crystalline material |
US7072102B2 (en) * | 2002-08-22 | 2006-07-04 | Asml Netherlands B.V. | Methods for reducing polarization aberration in optical systems |
EP1583988A1 (en) * | 2003-01-16 | 2005-10-12 | Carl Zeiss SMT AG | Retardation plate |
DE10302765A1 (de) * | 2003-01-24 | 2004-07-29 | Carl Zeiss Smt Ag | Optische Anordnung mit Linse aus einachsig doppelbrechendem Material |
US7375897B2 (en) * | 2003-12-19 | 2008-05-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Imaging systems |
JP2005258171A (ja) * | 2004-03-12 | 2005-09-22 | Alps Electric Co Ltd | 偏光分離素子及びその製造方法 |
US20050275944A1 (en) | 2004-06-11 | 2005-12-15 | Wang Jian J | Optical films and methods of making the same |
US7670758B2 (en) * | 2004-04-15 | 2010-03-02 | Api Nanofabrication And Research Corporation | Optical films and methods of making the same |
EP1598681A3 (de) * | 2004-05-17 | 2006-03-01 | Carl Zeiss SMT AG | Optische Komponente mit gekrümmter Oberfläche und Mehrlagenbeschichtung |
US20060001969A1 (en) * | 2004-07-02 | 2006-01-05 | Nanoopto Corporation | Gratings, related optical devices and systems, and methods of making such gratings |
KR20070046114A (ko) * | 2004-07-16 | 2007-05-02 | 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. | 반경 방향 및/또는 방위각으로 편광된 광 빔 생성을 위한방법 및 장치 |
US7619816B2 (en) * | 2004-12-15 | 2009-11-17 | Api Nanofabrication And Research Corp. | Structures for polarization and beam control |
US20060127830A1 (en) * | 2004-12-15 | 2006-06-15 | Xuegong Deng | Structures for polarization and beam control |
JP2008532273A (ja) * | 2005-02-25 | 2008-08-14 | カール ツァイス エスエムテー アクチエンゲゼルシャフト | マイクロ・リソグラフィー投影露光装置のための光学システム |
US20060198029A1 (en) * | 2005-03-01 | 2006-09-07 | Karl-Heinz Schuster | Microlithography projection objective and projection exposure apparatus |
DE102005021340A1 (de) * | 2005-05-04 | 2006-11-09 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches Element, insbesondere für ein Objektiv oder eine Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithograpischen Projektionsbelichtungsanlage |
KR101890082B1 (ko) | 2005-06-02 | 2018-08-20 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 마이크로리소그래피 투영 대물 렌즈 |
DE102006025044A1 (de) * | 2005-08-10 | 2007-02-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Abbildungssystem, insbesondere Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
US20070165308A1 (en) * | 2005-12-15 | 2007-07-19 | Jian Wang | Optical retarders and methods of making the same |
US20070139771A1 (en) * | 2005-12-15 | 2007-06-21 | Jian Wang | Optical retarders and methods of making the same |
US7764427B2 (en) * | 2006-02-21 | 2010-07-27 | Carl Zeiss Smt Ag | Microlithography optical system |
US20070217008A1 (en) * | 2006-03-17 | 2007-09-20 | Wang Jian J | Polarizer films and methods of making the same |
DE102006038398A1 (de) * | 2006-08-15 | 2008-02-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
EP1927890A1 (en) * | 2006-11-30 | 2008-06-04 | Carl Zeiss SMT AG | Method of manufacturing a projection objective and projection objective manufactured by that method |
US7929114B2 (en) | 2007-01-17 | 2011-04-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection optics for microlithography |
WO2008110501A1 (de) * | 2007-03-13 | 2008-09-18 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage |
DE102007058862A1 (de) | 2007-12-06 | 2009-06-10 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches System, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
CN101604036B (zh) * | 2008-06-10 | 2012-07-18 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 光圈及其制作方法 |
KR101147872B1 (ko) * | 2008-12-08 | 2012-05-25 | 한국전자통신연구원 | 선박 블록 배치 장치 및 방법 |
US8504328B2 (en) | 2010-05-21 | 2013-08-06 | Eastman Kodak Company | Designing lenses using stress birefringence performance criterion |
US8287129B2 (en) * | 2010-05-21 | 2012-10-16 | Eastman Kodak Company | Low thermal stress birefringence imaging system |
US8649094B2 (en) * | 2010-05-21 | 2014-02-11 | Eastman Kodak Company | Low thermal stress birefringence imaging lens |
US9409255B1 (en) | 2011-01-04 | 2016-08-09 | Nlight, Inc. | High power laser imaging systems |
US9429742B1 (en) | 2011-01-04 | 2016-08-30 | Nlight, Inc. | High power laser imaging systems |
US10095016B2 (en) | 2011-01-04 | 2018-10-09 | Nlight, Inc. | High power laser system |
US9720244B1 (en) | 2011-09-30 | 2017-08-01 | Nlight, Inc. | Intensity distribution management system and method in pixel imaging |
US8830580B2 (en) * | 2011-10-27 | 2014-09-09 | Eastman Kodak Company | Low thermal stress catadioptric imaging optics |
CN104136961B (zh) * | 2012-03-27 | 2017-06-20 | 恩耐有限公司 | 高功率激光系统 |
DE102012206287A1 (de) * | 2012-04-17 | 2013-10-17 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches System, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
JP6136357B2 (ja) * | 2013-02-25 | 2017-05-31 | セイコーエプソン株式会社 | 分光測定装置、通信システム及びカラーマネージメントシステム |
US9310248B2 (en) | 2013-03-14 | 2016-04-12 | Nlight, Inc. | Active monitoring of multi-laser systems |
CN103197512B (zh) * | 2013-04-22 | 2015-09-16 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 光刻机投影物镜偏振像差原位检测方法 |
CN105319857B (zh) * | 2014-07-11 | 2018-12-14 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 多载台光刻系统及曝光方法 |
CN105319859B (zh) * | 2014-07-29 | 2018-02-02 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 提高光刻机可用焦深的方法 |
JP6690217B2 (ja) * | 2015-03-09 | 2020-04-28 | セイコーエプソン株式会社 | 光源装置及びプロジェクター |
CN105319869B (zh) * | 2015-11-12 | 2017-05-24 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 光刻机投影物镜偏振像差原位检测方法 |
CN105352599B (zh) * | 2015-12-16 | 2018-01-12 | 中国地震局地壳应力研究所 | 一种光电池日射计数字传感器 |
US20210264437A1 (en) | 2016-05-12 | 2021-08-26 | State Farm Mutual Automobile Insurance Company | Heuristic identity authentication engine |
US11544783B1 (en) | 2016-05-12 | 2023-01-03 | State Farm Mutual Automobile Insurance Company | Heuristic credit risk assessment engine |
US10732336B2 (en) * | 2017-02-02 | 2020-08-04 | Corning Incorporated | Method of assembling optical systems and minimizing retardance distortions in optical assemblies |
DE102017202802A1 (de) * | 2017-02-21 | 2018-08-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Objektiv und optisches System mit einem solchen Objektiv |
WO2023173006A2 (en) * | 2022-03-09 | 2023-09-14 | Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona | Polarization aberration compensation for reflective surfaces |
WO2023196381A1 (en) * | 2022-04-05 | 2023-10-12 | Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona | Graded index structure for optical components with reduced polarization aberrations |
WO2024031047A2 (en) * | 2022-08-04 | 2024-02-08 | Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona | Polarization aberration compensator |
CN116399451B (zh) * | 2023-05-29 | 2023-08-11 | 长春理工大学 | 一种适用于平面对称光学系统的偏振像差简化获取方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1154411A (ja) * | 1997-07-29 | 1999-02-26 | Canon Inc | 投影光学系及びそれを用いた投影露光装置 |
JP2000331927A (ja) * | 1999-03-12 | 2000-11-30 | Canon Inc | 投影光学系及びそれを用いた投影露光装置 |
JP2001221950A (ja) * | 1999-12-29 | 2001-08-17 | Carl Zeiss Stiftung Trading As Carl Zeiss | 非球面要素を有する投射露光レンズ |
WO2001065296A1 (fr) * | 2000-03-03 | 2001-09-07 | Nikon Corporation | Systeme optique de reflexion/refraction et dispositif d'exposition par projection contenant celui-ci |
JP2003279854A (ja) * | 2002-03-26 | 2003-10-02 | Canon Inc | 投影光学系、露光装置、デバイス製造方法及びデバイス |
JP2004526331A (ja) * | 2001-05-15 | 2004-08-26 | カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー | フッ化物結晶レンズを含む対物レンズ |
Family Cites Families (82)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US410375A (en) * | 1889-09-03 | Scissors attachment | ||
US3758201A (en) * | 1971-07-15 | 1973-09-11 | American Optical Corp | Optical system for improved eye refraction |
US4239329A (en) * | 1978-08-04 | 1980-12-16 | Nippon Telegraph And Telephone Public Corporation | Optical nonreciprocal device |
US4534649A (en) * | 1981-10-30 | 1985-08-13 | Downs Michael J | Surface profile interferometer |
US4576479A (en) | 1982-05-17 | 1986-03-18 | Downs Michael J | Apparatus and method for investigation of a surface |
DE3248502A1 (de) | 1982-12-29 | 1984-07-05 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur temperierung einer in einem rohrreaktor in form eines festbettes angeordneten schuettung und eine anordnung zur durchfuehrung des verfahrens |
US5033830A (en) * | 1989-10-04 | 1991-07-23 | At&T Bell Laboratories | Polarization independent optical isolator |
US5243455A (en) | 1990-05-11 | 1993-09-07 | The University Of Colorado Foundation, Inc. | Chiral smectic liquid crystal polarization interference filters |
ATE117810T1 (de) * | 1990-03-15 | 1995-02-15 | Werner Fiala | Verwendung einer multifokalen doppelbrechenden linse mit angepasster doppelbrechung. |
US5196953A (en) | 1991-11-01 | 1993-03-23 | Rockwell International Corporation | Compensator for liquid crystal display, having two types of layers with different refractive indices alternating |
US5537260A (en) * | 1993-01-26 | 1996-07-16 | Svg Lithography Systems, Inc. | Catadioptric optical reduction system with high numerical aperture |
US5999240A (en) * | 1995-05-23 | 1999-12-07 | Colorlink, Inc. | Optical retarder stack pair for transforming input light into polarization states having saturated color spectra |
JPH1079345A (ja) | 1996-09-04 | 1998-03-24 | Nikon Corp | 投影光学系及び露光装置 |
DE19637563A1 (de) * | 1996-09-14 | 1998-03-19 | Zeiss Carl Fa | Doppelbrechende Planplattenanordnung und DUV-Viertelwellenplatte |
JP4014716B2 (ja) | 1997-06-24 | 2007-11-28 | オリンパス株式会社 | 偏光補償光学系を有する光学系 |
US6829041B2 (en) * | 1997-07-29 | 2004-12-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system and projection exposure apparatus having the same |
JPH11145056A (ja) * | 1997-11-07 | 1999-05-28 | Sony Corp | 半導体材料 |
JPH11214293A (ja) * | 1998-01-22 | 1999-08-06 | Nikon Corp | 投影光学系及び該光学系を備えた露光装置並びにデバイス製造方法 |
DE19807120A1 (de) * | 1998-02-20 | 1999-08-26 | Zeiss Carl Fa | Optisches System mit Polarisationskompensator |
US6201634B1 (en) | 1998-03-12 | 2001-03-13 | Nikon Corporation | Optical element made from fluoride single crystal, method for manufacturing optical element, method for calculating birefringence of optical element and method for determining direction of minimum birefringence of optical element |
JPH11326767A (ja) | 1998-05-07 | 1999-11-26 | Nikon Corp | 反射屈折縮小光学系 |
EP1293831A1 (en) | 1998-06-08 | 2003-03-19 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
DE19942281A1 (de) | 1999-05-14 | 2000-11-16 | Zeiss Carl Fa | Projektionsobjektiv |
WO2000033138A1 (de) * | 1998-11-30 | 2000-06-08 | Carl Zeiss | Hochaperturiges projektionsobjektiv mit minimalem blendenfehler |
KR20000034967A (ko) | 1998-11-30 | 2000-06-26 | 헨켈 카르스텐 | 수정-렌즈를 갖는 오브젝티브 및 투사 조명 장치 |
TW460755B (en) | 1998-12-16 | 2001-10-21 | Asm Lithography Bv | Lithographic projection apparatus |
KR20010088279A (ko) * | 1999-01-06 | 2001-09-26 | 시마무라 테루오 | 투영광학계, 그 제조방법, 및 이를 사용한 투영노광장치 |
JP4304409B2 (ja) | 1999-04-21 | 2009-07-29 | 株式会社ニコン | 石英ガラス部材の製造方法 |
EP1224497A4 (en) | 1999-06-25 | 2003-08-27 | Corning Inc | LENS ELEMENTS FOR VUV MICROLITHOGRAPHY OF DOUBLE BREAKAGE-MINIMIZING FLUORIDE CRYSTALS AND BLANKS THEREFOR |
DE19929403A1 (de) * | 1999-06-26 | 2000-12-28 | Zeiss Carl Fa | Objektiv, insbesondere Objektiv für eine Halbleiter-Lithographie-Projektionsbelichtungsanlage und Herstellungverfahren |
US6245615B1 (en) | 1999-08-31 | 2001-06-12 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus on (110) surfaces of silicon structures with conduction in the <110> direction |
WO2001023933A1 (fr) | 1999-09-29 | 2001-04-05 | Nikon Corporation | Systeme optique de projection |
EP1139138A4 (en) | 1999-09-29 | 2006-03-08 | Nikon Corp | PROJECTION EXPOSURE PROCESS, DEVICE AND OPTICAL PROJECTION SYSTEM |
US6324003B1 (en) | 1999-12-23 | 2001-11-27 | Silicon Valley Group, Inc. | Calcium fluoride (CaF2) stress plate and method of making the same |
US6480330B1 (en) * | 2000-02-24 | 2002-11-12 | Silicon Valley Group, Inc. | Ultraviolet polarization beam splitter for microlithography |
JP2002323653A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-11-08 | Nikon Corp | 投影光学系,投影露光装置および投影露光方法 |
JP2002323652A (ja) | 2001-02-23 | 2002-11-08 | Nikon Corp | 投影光学系,該投影光学系を備えた投影露光装置および投影露光方法 |
US6850371B2 (en) | 2001-03-15 | 2005-02-01 | Nikon Corporation | Optical member and method of producing the same, and projection aligner |
JP5047424B2 (ja) | 2001-04-06 | 2012-10-10 | 三菱鉛筆株式会社 | 光輝性水性インキ組成物 |
DE10123727A1 (de) | 2001-05-15 | 2002-11-21 | Zeiss Carl | Optisches Element, Projektionsobjektiv und Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit Fluoridkristall-Linsen |
DE10123725A1 (de) | 2001-05-15 | 2002-11-21 | Zeiss Carl | Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie, Optisches System und Herstellverfahren |
DE10127320A1 (de) | 2001-06-06 | 2002-12-12 | Zeiss Carl | Objektiv mit Fluorid-Kristall-Linsen |
DE10210782A1 (de) | 2002-03-12 | 2003-10-09 | Zeiss Carl Smt Ag | Objektiv mit Kristall-Linsen |
DE10125487A1 (de) | 2001-05-23 | 2003-01-02 | Zeiss Carl | Optisches Element, Projektionsobjektiv und Mikrolithographic-Projektionsbelichtungsanlage mit Fluoridkristall-Linsen |
AU2002257270A1 (en) | 2001-05-16 | 2002-11-25 | Corning Incorporated | Preferred crystal orientation optical elements from cubic materials |
DE10124474A1 (de) | 2001-05-19 | 2002-11-21 | Zeiss Carl | Mikrolithographisches Belichtungsverfahren sowie Projektionsobjektiv zur Durchführung des Verfahrens |
JP2003050349A (ja) | 2001-05-30 | 2003-02-21 | Nikon Corp | 光学系および該光学系を備えた露光装置 |
US6683710B2 (en) * | 2001-06-01 | 2004-01-27 | Optical Research Associates | Correction of birefringence in cubic crystalline optical systems |
EP1403663A1 (en) | 2001-06-15 | 2004-03-31 | Nikon Corporation | Optical member, process for producing the same, and projection aligner |
US20030011893A1 (en) * | 2001-06-20 | 2003-01-16 | Nikon Corporation | Optical system and exposure apparatus equipped with the optical system |
TW558749B (en) | 2001-06-20 | 2003-10-21 | Nikon Corp | Optical system and the exposure device comprising the same |
JP3639807B2 (ja) * | 2001-06-27 | 2005-04-20 | キヤノン株式会社 | 光学素子及び製造方法 |
US6828661B2 (en) * | 2001-06-27 | 2004-12-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Lead frame and a resin-sealed semiconductor device exhibiting improved resin balance, and a method for manufacturing the same |
JPWO2003003429A1 (ja) | 2001-06-28 | 2004-10-21 | 株式会社ニコン | 投影光学系、露光装置および方法 |
US6831731B2 (en) * | 2001-06-28 | 2004-12-14 | Nikon Corporation | Projection optical system and an exposure apparatus with the projection optical system |
US20030004757A1 (en) * | 2001-06-29 | 2003-01-02 | Haines Jack J. | Facility and a method of operating a facility for providing care |
US7163649B2 (en) | 2001-07-09 | 2007-01-16 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce | Minimizing spatial-dispersion-induced birefringence |
US6775063B2 (en) | 2001-07-10 | 2004-08-10 | Nikon Corporation | Optical system and exposure apparatus having the optical system |
TW584898B (en) | 2001-07-10 | 2004-04-21 | Nikon Corp | Optical system and exposure apparatus having the optical system |
US6788389B2 (en) * | 2001-07-10 | 2004-09-07 | Nikon Corporation | Production method of projection optical system |
DE10133841A1 (de) | 2001-07-18 | 2003-02-06 | Zeiss Carl | Objektiv mit Kristall-Linsen |
DE10133842A1 (de) | 2001-07-18 | 2003-02-06 | Zeiss Carl | Verzögerungsplatte aus kubischem Kristall |
US6785051B2 (en) * | 2001-07-18 | 2004-08-31 | Corning Incorporated | Intrinsic birefringence compensation for below 200 nanometer wavelength optical lithography components with cubic crystalline structures |
US6844915B2 (en) * | 2001-08-01 | 2005-01-18 | Nikon Corporation | Optical system and exposure apparatus provided with the optical system |
WO2003025636A1 (en) | 2001-09-14 | 2003-03-27 | Corning Incorporated | Photolithographic method and uv transmitting fluoride crystals with minimized spatial dispersion |
US6970232B2 (en) * | 2001-10-30 | 2005-11-29 | Asml Netherlands B.V. | Structures and methods for reducing aberration in integrated circuit fabrication systems |
US7453641B2 (en) | 2001-10-30 | 2008-11-18 | Asml Netherlands B.V. | Structures and methods for reducing aberration in optical systems |
US6844972B2 (en) * | 2001-10-30 | 2005-01-18 | Mcguire, Jr. James P. | Reducing aberration in optical systems comprising cubic crystalline optical elements |
US6995908B2 (en) * | 2001-10-30 | 2006-02-07 | Asml Netherlands B.V. | Methods for reducing aberration in optical systems |
JP3741208B2 (ja) * | 2001-11-29 | 2006-02-01 | 株式会社ニコン | 光リソグラフィー用光学部材及びその評価方法 |
JP2003161882A (ja) | 2001-11-29 | 2003-06-06 | Nikon Corp | 投影光学系、露光装置および露光方法 |
US6701056B2 (en) * | 2002-01-02 | 2004-03-02 | Wavesplitter Technologies, Inc. | Modular, variably configurable retainer assembly for optical components |
US7075721B2 (en) * | 2002-03-06 | 2006-07-11 | Corning Incorporated | Compensator for radially symmetric birefringence |
EP1483616A1 (en) | 2002-03-14 | 2004-12-08 | Carl Zeiss SMT AG | Optical system with birefringent optical elements |
JP2003297729A (ja) | 2002-04-03 | 2003-10-17 | Nikon Corp | 投影光学系、露光装置および露光方法 |
JP2003309059A (ja) | 2002-04-17 | 2003-10-31 | Nikon Corp | 投影光学系、その製造方法、露光装置および露光方法 |
JP4333078B2 (ja) | 2002-04-26 | 2009-09-16 | 株式会社ニコン | 投影光学系、該投影光学系を備えた露光装置および該投影光学系を用いた露光方法並びにデバイス製造方法 |
KR20040104691A (ko) | 2002-05-03 | 2004-12-10 | 칼 짜이스 에스엠테 아게 | 높은 개구를 갖는 투영 대물렌즈 |
JP2004045692A (ja) | 2002-07-11 | 2004-02-12 | Canon Inc | 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
US7154669B2 (en) * | 2002-08-05 | 2006-12-26 | Asml Holding N.V. | Method and system for correction of intrinsic birefringence in UV microlithography |
US7072102B2 (en) | 2002-08-22 | 2006-07-04 | Asml Netherlands B.V. | Methods for reducing polarization aberration in optical systems |
US7701682B2 (en) | 2008-01-31 | 2010-04-20 | Freescale Semiconductors, Inc. | Electrostatic discharge protection |
-
2002
- 2002-12-26 US US10/331,101 patent/US7072102B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-12-26 US US10/331,103 patent/US6958864B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-12-26 US US10/331,159 patent/US7075720B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-08-21 AU AU2003258318A patent/AU2003258318A1/en not_active Abandoned
- 2003-08-21 WO PCT/US2003/026164 patent/WO2004019077A2/en active Application Filing
- 2003-08-21 JP JP2004529761A patent/JP4831967B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-04-12 US US11/402,025 patent/US7511885B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-02-17 US US12/372,462 patent/US7656582B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1154411A (ja) * | 1997-07-29 | 1999-02-26 | Canon Inc | 投影光学系及びそれを用いた投影露光装置 |
JP2000331927A (ja) * | 1999-03-12 | 2000-11-30 | Canon Inc | 投影光学系及びそれを用いた投影露光装置 |
JP2001221950A (ja) * | 1999-12-29 | 2001-08-17 | Carl Zeiss Stiftung Trading As Carl Zeiss | 非球面要素を有する投射露光レンズ |
WO2001065296A1 (fr) * | 2000-03-03 | 2001-09-07 | Nikon Corporation | Systeme optique de reflexion/refraction et dispositif d'exposition par projection contenant celui-ci |
JP2004526331A (ja) * | 2001-05-15 | 2004-08-26 | カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー | フッ化物結晶レンズを含む対物レンズ |
JP2003279854A (ja) * | 2002-03-26 | 2003-10-02 | Canon Inc | 投影光学系、露光装置、デバイス製造方法及びデバイス |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7511885B2 (en) | 2009-03-31 |
US6958864B2 (en) | 2005-10-25 |
WO2004019077A3 (en) | 2005-05-06 |
US7075720B2 (en) | 2006-07-11 |
WO2004019077A2 (en) | 2004-03-04 |
JP2005535939A (ja) | 2005-11-24 |
AU2003258318A1 (en) | 2004-03-11 |
AU2003258318A8 (en) | 2004-03-11 |
US20040036971A1 (en) | 2004-02-26 |
US7656582B2 (en) | 2010-02-02 |
US20040036985A1 (en) | 2004-02-26 |
US20040036961A1 (en) | 2004-02-26 |
US7072102B2 (en) | 2006-07-04 |
US20090153964A1 (en) | 2009-06-18 |
WO2004019077A9 (en) | 2004-04-08 |
US20060187549A1 (en) | 2006-08-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4831967B2 (ja) | 光学系、光学装置、光学的に結像する方法、固有複屈折によって生じたリターダンスを低減する方法、フォトリソグラフィ・システム、および、半導体デバイスを形成する方法 | |
JP4347686B2 (ja) | 立方晶系光学系における複屈折の補正 | |
US7453641B2 (en) | Structures and methods for reducing aberration in optical systems | |
US6844972B2 (en) | Reducing aberration in optical systems comprising cubic crystalline optical elements | |
US6970232B2 (en) | Structures and methods for reducing aberration in integrated circuit fabrication systems | |
EP2212729B1 (en) | Polarizer enabling the compensation of time-dependent distribution changes in the illumination | |
US6995908B2 (en) | Methods for reducing aberration in optical systems | |
US20070242250A1 (en) | Objective with crystal lenses | |
JP2005520187A (ja) | 結晶レンズを有する対物レンズ | |
JP2005508018A (ja) | 光学系における収差を軽減する構造及び方法 | |
EP1780570A2 (en) | Correction of birefringence in cubic crystalline optical systems |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20060713 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20060713 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061012 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20061012 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20070322 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080710 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080722 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20081021 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20081028 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090108 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100127 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100421 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110209 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110603 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20110613 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110822 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110920 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4831967 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140930 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |