JP4821040B2 - テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法 - Google Patents

テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4821040B2
JP4821040B2 JP2000330140A JP2000330140A JP4821040B2 JP 4821040 B2 JP4821040 B2 JP 4821040B2 JP 2000330140 A JP2000330140 A JP 2000330140A JP 2000330140 A JP2000330140 A JP 2000330140A JP 4821040 B2 JP4821040 B2 JP 4821040B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
borate
tetrakis
acyloxy
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2000330140A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002138091A (ja
Inventor
永田  寛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP2000330140A priority Critical patent/JP4821040B2/ja
Publication of JP2002138091A publication Critical patent/JP2002138091A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4821040B2 publication Critical patent/JP4821040B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Epoxy Resins (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Pyridine Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気・電子材料用エポキシ樹脂の硬化促進剤等に有用な置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及びその前駆体であるテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)を合成する方法は、以下の2種類の方法が知られている。
(1)無水酢酸存在下、トリアセテートボレートと酢酸カリウムとを反応させる方法(I.G.ルイス、V.N.プラホトニク Zhurnal Neorganicheskoi Khimii、 VOL.13,2050(1968))。
(2)テトラ置換ホスホニウムテトラ置換ボレートと分子外に放出しうるプロトンを少なくとも1個以上分子内に有するn(n≧1)価の有機酸とを反応させる方法(特開平8−196911号公報)。
【0003】
しかし、前記(1)の方法は、カチオンとしてアルカリ金属を使用しているため、合成プロセスにおける有機溶媒への低溶解性や、電気・電子材料において問題となるイオン性不純物の残存等が問題となる。一方、前記(2)の方法は、反応を200℃以上の高温で行うため、テトラ置換ホスホニウムテトラ置換ボレートのボレート置換基がアルキル基である場合、ボレート側が大気中で不安定であり、取り扱いが困難である。ボレート置換基が、フェニル基、その他のアリール基である場合、コスト面で問題がある。特に、テトラ置換ホスホニウムテトラフェニルボレートを用いた場合、反応時に副生成物として、人体に有害なベンゼンを生じるため望ましくない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、前記問題点を解決するためなされたもので、合成における有機溶媒への溶解性がよく、有害物質の発生もなく、イオン性不純物の残存もなく、安定性に優れた置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及びその前駆体であるテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は、
(1)酸化ホウ素、一般式(2)で表されるカルボン酸無水物、一般式(2)で表されるカルボン酸無水物の加水分解生成物である一般式(3)で表されるカルボン酸、及びアミンとしてテトラメチルエチレンジアミン又は2,4,6-トリメチルピリジンとを反応させて得られることを特徴とするテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法、
(2)一般式(1)で表されるテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)が、酸化ホウ素、一般式(2)で表されるカルボン酸無水物、一般式(2)で表されるカルボン酸無水物の加水分解生成物である一般式(3)で表されるカルボン酸、一般式(4)で表されるアミンとを反応させて得られることを特徴とするテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法、
【化9】
Figure 0004821040
(R1は、アルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基、R2〜R4はアルキル基又はアリール基)
【0006】
【化10】
Figure 0004821040
(R1は、アルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基)
【0007】
【化11】
Figure 0004821040
(R1は、アルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基)
【0008】
【化12】
Figure 0004821040
(R2〜R4はアルキル基又はアリール基)
(3)酸化ホウ素、一般式(2)で表されるカルボン酸無水物、一般式(2)で表されるカルボン酸無水物の加水分解生成物である一般式(3)で表されるカルボン酸、及びアミジンとして1−ベンジル2−メチルイミダゾール、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセン−7、又は1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノン−5−エンとを反応させて得られることを特徴とするテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法、
【0012】
(4)第(1)〜(3)項のいずれかに記載の合成方法により得られたテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)と、テトラ置換ホスホニウム塩、テトラ置換アンモニウム塩、トリ置換スルホニウム塩からなる群より選ばれるオニウム塩とを反応させて得られることを特徴とする置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法、である。
【0013】
【発明の実施の形態】
本発明において、テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)は、酸化ホウ素、無水カルボン酸、無水カルボン酸の加水分解生成物であるカルボン酸、アミン又はアミジンとの合成方法により得られる。テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)のカチオン種が有機化合物であるアミン又はアミジンの塩であるため、溶媒への溶解性が良好であり、極めて取り扱い性がよいことが特徴の一つである。
【0014】
本発明に用いる酸化ホウ素は、工業製品或いは試薬として入手することが可能であり、いずれの形態を用いてもよい。
本発明に用いる無水カルボン酸は、一般式(2)で表される無水カルボン酸が好ましく、式中のR1がアルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基を示し、具体的なR1としては、メチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基、トリル基、アニシル基、ニトロフェニル基、ナフチル基、ベンジル基等が挙げられる。又無水カルボン酸の例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水安息香酸、無水メチル安息香酸、無水メトキシ安息香酸、無水ニトロ安息香酸、1−ナフトエ酸無水物、トリフルオロ酢酸無水物、無水パラニトロ安息香酸、無水1−フェニル酢酸等が挙げられる。
無水カルボン酸の加水分解生成物であるカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、安息香酸、メチル安息香酸、メトキシ安息香酸、ニトロ安息香酸、1−ナフトエ酸、トリフルオロ酢酸、パラニトロ安息香酸、1−フェニル酢酸等が挙げられる。
アミン又はアミジンについては、特に限定されないが、窒素原子に水素が結合している場合、副反応としてアミドを形成するため、3級アミンが望ましい。これらは、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン等のアルキル基の置換した3級のアルキルアミン類、ジフェニルメチルアミン等のアリール基置換3級アミン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセン−7(双環式アミジン化合物)、1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノン−5−エン(双環式アミジン化合物)或いは非環状アミジン等が例示される。
【0015】
本発明のテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法としては、80〜180℃程度の200℃未満の比較的穏和な条件で、2〜5時間程度で反応を完結させることができる。
反応では、溶媒を用いても用いなくても、アミン又はアミジンを大過剰に用いる場合、これらのアミン又はアミジンを溶媒として使用することができ、更にアミン又はアミジンと、無水カルボン酸を過剰に用いることにより、これらを溶媒として使用することも可能である。又反応物質は溶解するが、不活性な溶媒、例えばジメトキシエタン、ジメチルジグリコール、ジメチルトリグリコール等を用いることができる。
【0016】
本発明に用いるテトラ置換ホスホニウム塩、テトラ置換アンモニウム塩、トリ置換スルホニウム塩は、これらのハライド塩を用いることができるが、塩としては、特に限定されるものではなく、前述のテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)のカチオン側のアンモニウムイオン又はアミジニウムイオンが対応するテトラ置換ホスホニウム、テトラ置換アンモニウム、トリ置換スルホニウムに置換する反応が生じるものであれば、対応するオニウム無機酸塩やオニウムカルボン酸塩、オニウムフェノレートであってもよく、いかなるものでも差し支えない。
本発明の置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法は、テトラ置換ホスホニウムハライド、テトラ置換アンモニウムハライド、トリ置換スルホニウムハライド等の汎用オニウムハライドと前述テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)とを接触させることにより行われるが、例えばテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)を不活性で溶解性が良好な非プロトン性溶媒に溶解し、汎用オニウムハライドをメタノールや水等に溶解し、両者を混合すれば、テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)のカチオン側のアンモニウムイオン又はアミジニウムイオンが対応するテトラ置換ホスホニウム、テトラ置換アンモニウム、トリ置換スルホニウムに置換し、対応する置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)が生成する。
本発明の合成方法で得られた置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)、及びその前駆体であるテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)は、電気・電子材料用のエポキシ樹脂等の硬化促進剤等として用いることができる。
【0017】
【実施例】
以下に、実施例を挙げて、更に本発明について説明するが、本発明は実施例になんら制限されるものではない。
[テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成]
(実施例1)
フラスコに酸化ホウ素0.87g(12.5mmol)、1−ナフトエ酸無水物65.2g(200mmol)、1−ナフトエ酸4.3g(25mmol)、トリブチルアミン12.1g(50mmol)を仕込み、160℃で4時間加熱攪拌した。これにより式(7)のトリブチルアミンテトラキス(1−ナフトイルオキシ)ボレート(1−)が得られた。これをアセトンに溶解させ、濾過を行い過剰のトリブチルアミン、1−ナフトエ酸無水物、1−ナフトエ酸を除去した後、濾液にヘキサンを添加し貧溶媒化して再結晶を行った。収量17.84g(酸化ホウ素に対して収率85%)
【化17】
Figure 0004821040
【0018】
(実施例2)
フラスコに酸化ホウ素0.87g(12.5mmol)、過剰のトリフルオロ酢酸無水物42.0g(200mmol)、トリフルオロ酢酸2.85g(25mmol)、1−ベンジル2−メチルイミダゾール8.6g(50mmol)、ジメチルジグリコール200gを仕込み、160℃で4時間加熱攪拌した。これにより式(8)の1−ベンジル2−メチルイミダゾールのテトラキス(1−トリフルオロアセテート)ボレート塩が得られた。これをアセトンに溶解させ、濾過を行い、未反応の1−ベンジル2−メチルイミダゾール、フッ素化水素塩を除去した後、濾液にヘキサン添加し貧溶媒化して再結晶を行った。収量14.6g(酸化ホウ素に対し収率78%)
【化18】
Figure 0004821040
【0019】
(実施例3〜
表1に示した酸化ホウ素、カルボン酸無水物、カルボン酸、アミン又はアミジンを用いて、実施例1或いは実施例2と同様の操作により、テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)を合成した。
【0020】
【表1】
Figure 0004821040
【0021】
【化19】
Figure 0004821040
【0022】
【化20】
Figure 0004821040
【0023】
【化21】
Figure 0004821040
【0024】
【化22】
Figure 0004821040
【0025】
(比較例1)
フラスコに無水酢酸39g(200mmol)と酢酸カリウム塩8.88g(25mmol)と式(13)のトリアセテートボレート17.07g(25mmol)を仕込み、160℃で無水酢酸を1時間還流を行い、室温で冷却することにより、式(14)のカリウムテトラキスアセテートボレート(1−)塩の結晶を得た。収量は18.5g(酢酸カリウム塩に対する収率75%)(参考文献 無機化学ジャーナル VOL.13,2050(1968)ソ連)
【0026】
【化23】
Figure 0004821040
【0027】
【化24】
Figure 0004821040
【0028】
(比較例2)
フラスコに酸化ホウ素0.87g(12.5mmol)、過剰の1−ナフトエ酸無水物65.2g(200mmol)、1−ナフトエ酸カリウム塩 21.0g(100mmol)を仕込み160℃で5時間加熱攪拌を行ったが、反応が進まず、更に200℃で5時間加熱攪拌を行ったが、テトラキス(1−ナフトイルオキシ)ボレート(1−)カリウム塩は得られなかった。
【0029】
[置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成]
(実施例7)
実施例1のトリブチルアミンテトラキス(1−ナフトイルオキシ)ボレート(1−)塩(式(7))のテトラハイドロフラン10重量%溶液を作成した。この溶液を予め作成したテトラフェニルホスホニウムブロマイドを10重量%含むイソプロパノール溶液に室温で滴下した。滴下と同時に白色沈殿が生成した。これを濾過し、メタノールで数回洗浄し、真空加熱乾燥を行うことにより、式(15)のテトラフェニルホスホニウムテトラキス(1−ナフトイルオキシ)ボレート(1−)塩を得た。収量は22.0g(トリブチルアミンテトラキス(1−ナフトイルオキシ)ボレート(1−)塩に対して収率85%)であった。得られた置換オニウム塩であるテトラフェニルホスホニウムテトラキス(1−ナフトイルオキシ)ボレート(1−)塩を1.00g秤量し、純水50.0g中にてプレッシャークッカー処理を125℃で20時間行ったが、カリウムイオンは検出されなかった。
【0030】
【化25】
Figure 0004821040
【0031】
(実施例8〜12)
表2のテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)と置換オニウム塩を用い、実施例7と同様の操作を繰り返し、置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)を合成した。これらの反応は全て室温で可能であった。又カリウムイオンの定量も実施例7と同様に行った結果、カリウムイオンは検出されなかった。
【0032】
【表2】
Figure 0004821040
【0033】
【化26】
Figure 0004821040
【0034】
【化27】
Figure 0004821040
【0035】
【化28】
Figure 0004821040
【0036】
【化29】
Figure 0004821040
【0037】
【化30】
Figure 0004821040
【0038】
【化31】
Figure 0004821040
【0039】
【化32】
Figure 0004821040
【0040】
(比較例3)
比較例1のカリウムテトラキスアセテートボレート(1−)塩(式(14))を10重量%含むイソプロパノール溶液を作成した。この溶液を予め作成したテトラフェニルホスホニウムブロマイドを10重量%含むイソプロパノール溶液に室温で滴下した。滴下と同時に白色沈殿が生成した。これを濾過し、メタノールで数回洗浄し、真空加熱乾燥を行うことにより、式(23)のテトラフェニルホスホニウムテトラキスアセテートボレート(1−)塩を得た。このテトラフェニルホスホニウムテトラキスアセテートボレート(1−)塩を実施例7と同様な処理を行った結果、抽出されたカリウムイオンは1500ppmであり、電気・電子機器の用途に用いるには不適である。
【0041】
【化33】
Figure 0004821040
【0042】
(比較例4)
フラスコに安息香酸10.6g(100mmol)とテトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート塩16.45g(25mmol)を仕込み、230℃で4時間加熱攪拌し、式(24)のテトラフェニルホスホニウムテトラキス(ベンゾイルオキシ)ボレート(1−)塩(23mmol)(テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート塩に対して収率92%)を得た。この合成方法では有害なベンゼンが発生し、更に230℃という極めて高温で反応しなければならず好ましくない。
【0043】
【化34】
Figure 0004821040
【0044】
【発明の効果】
本発明の合成方法は、従来の合成方法に比べて汎用性が高く、低温反応が可能でベンゼン等の有害な物質を生成することがなく、更にフリーのアルカリ金属を含まず、かつ反応操作も簡便で高収率で目的物を得ることができる。又本発明のテトラ置換ホスホニウムテトラ置換ボレート、テトラ置換アンモニウムテトラ置換ボレート、トリ置換スルホニウムテトラ置換ボレートは、エポキシ樹脂等のアニオン重合の硬化触媒として有用である。

Claims (4)

  1. 酸化ホウ素、一般式(2)で表されるカルボン酸無水物、一般式(2)で表されるカルボン酸無水物の加水分解生成物である一般式(3)で表されるカルボン酸、及びアミンとしてテトラメチルエチレンジアミン又は2,4,6-トリメチルピリジンとを反応させて得られることを特徴とするテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法。
    Figure 0004821040
    (R 1 は、アルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基)
    Figure 0004821040
    (R 1 は、アルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基)
  2. 一般式(1)で表されるテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)が、酸化ホウ素、一般式(2)で表されるカルボン酸無水物、一般式(2)で表されるカルボン酸無水物の加水分解生成物である一般式(3)で表されるカルボン酸、一般式(4)で表されるアミンとを反応させて得られることを特徴とするテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法。
    Figure 0004821040
    (R1は、アルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基、R2〜R4はアルキル基又はアリール基)
    Figure 0004821040
    (R1は、アルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基)
    Figure 0004821040
    (R1は、アルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基)
    Figure 0004821040
    (R2〜R4はアルキル基又はアリール基)
  3. 酸化ホウ素、一般式(2)で表されるカルボン酸無水物、一般式(2)で表されるカルボン酸無水物の加水分解生成物である一般式(3)で表されるカルボン酸、及びアミジンとして1−ベンジル2−メチルイミダゾール、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセン−7、又は1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノン−5−エンとを反応させて得られることを特徴とするテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法。
    Figure 0004821040
    (R 1 は、アルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基)
    Figure 0004821040
    (R 1 は、アルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基)
  4. 請求項1〜3のいずれかに記載の合成方法により得られたテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)と、テトラ置換ホスホニウム塩、テトラ置換アンモニウム塩、トリ置換スルホニウム塩からなる群より選ばれるオニウム塩とを反応させて得られることを特徴とする置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法。
JP2000330140A 2000-10-30 2000-10-30 テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法 Expired - Fee Related JP4821040B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000330140A JP4821040B2 (ja) 2000-10-30 2000-10-30 テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000330140A JP4821040B2 (ja) 2000-10-30 2000-10-30 テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002138091A JP2002138091A (ja) 2002-05-14
JP4821040B2 true JP4821040B2 (ja) 2011-11-24

Family

ID=18806711

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000330140A Expired - Fee Related JP4821040B2 (ja) 2000-10-30 2000-10-30 テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4821040B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5361030B2 (ja) * 2006-09-28 2013-12-04 株式会社Adeka オニウム塩化合物、光酸発生剤、カチオン重合開始剤、レジスト組成物およびカチオン重合性組成物

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2502198B2 (ja) * 1991-01-21 1996-05-29 宇部興産株式会社 トリ低級アルカノイルオキシホウ素の製造方法
JP3254619B2 (ja) * 1995-01-30 2002-02-12 住友ベークライト株式会社 リン系潜伏性触媒の合成法
JP3690710B2 (ja) * 1997-12-10 2005-08-31 住友ベークライト株式会社 樹脂組成物

Also Published As

Publication number Publication date
JP2002138091A (ja) 2002-05-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5219812B2 (ja) 有機酸若しくはシアン酸と、ハロアルコキシシランを用いたオルガノアルコキシシランの調製方法
JP2003137890A (ja) イオン性金属錯体の合成法
JP4821040B2 (ja) テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法
JP4821041B2 (ja) テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法
JPS6191193A (ja) 脱離性保護基剤およびその製造方法
JP4876308B2 (ja) テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法
JP3254619B2 (ja) リン系潜伏性触媒の合成法
JP4423730B2 (ja) テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法
JPH06321962A (ja) ヘキサキス(トリメチルシリルエチルカルバミル)ヘキサアザイソウルチタン
KR100371312B1 (ko) 알킬(아미노)디알콕시실란의 제조 방법
JP4576653B2 (ja) テトラアシルボレートおよび置換オニウムテトラアシルボレートの合成法
JPH07330787A (ja) テトラ置換ホスホニウム有機酸塩の合成法
JP2551096B2 (ja) 無水金属ハロゲン化物の製造法
JP4526275B2 (ja) テトラ置換ホスホニウムテトラキスアロイルオキシボレート及びその前駆体の製造方法
JP7015451B2 (ja) ペルオキシカーバメート化合物の製造方法
JP3484561B2 (ja) 4−トリメチルシロキシ−3−ペンテン−2−オンの製造方法
JP3128192B2 (ja) アリルトリアルコキシシラン化合物の製造方法
KR820001182B1 (ko) 3급포스핀 옥사이드류를 환원하여 3급포스핀을 제조하는 방법
JP2819991B2 (ja) ジ−tert−ブチルシランの製造方法
JP5926797B2 (ja) ビス(パーフルオロアルキル)ホスフィン酸無水物の調製方法
JP4026049B2 (ja) トリシクロフォスファゼン派生体の合成方法
JPS6130580A (ja) チアゾリジン−2−オン類の製造法
KR101808093B1 (ko) 4차 암모늄 염의 할라이드 음이온의 나이트레이트 음이온으로의 전환 방법
JPS6277393A (ja) α−シリルアクリル酸エステルの製造法
JP2002145888A (ja) テキシル基を有するクロロシラン化合物及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070521

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100525

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100722

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110524

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110707

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110809

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110822

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4821040

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140916

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees