JPS6277393A - α−シリルアクリル酸エステルの製造法 - Google Patents
α−シリルアクリル酸エステルの製造法Info
- Publication number
- JPS6277393A JPS6277393A JP60217376A JP21737685A JPS6277393A JP S6277393 A JPS6277393 A JP S6277393A JP 60217376 A JP60217376 A JP 60217376A JP 21737685 A JP21737685 A JP 21737685A JP S6277393 A JPS6277393 A JP S6277393A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- acid ester
- butyl
- alpha
- tris
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- -1 alpha-silylacrylic acid ester Chemical class 0.000 title abstract description 40
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 12
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 9
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 abstract description 6
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 abstract description 5
- HMENQNSSJFLQOP-UHFFFAOYSA-N 2-bromoprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(Br)=C HMENQNSSJFLQOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 abstract description 3
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 abstract description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 22
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 21
- ZBGXCNSKAFBJPP-UHFFFAOYSA-N 2-trimethylsilylprop-2-enoic acid Chemical compound C[Si](C)(C)C(=C)C(O)=O ZBGXCNSKAFBJPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 6
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 6
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 6
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 4
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 4
- GRJISGHXMUQUMC-UHFFFAOYSA-N silyl prop-2-enoate Chemical compound [SiH3]OC(=O)C=C GRJISGHXMUQUMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CUNUWSCODOHKGO-UHFFFAOYSA-N 2-silylprop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C([SiH3])=C CUNUWSCODOHKGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- UGKLJUIMKCCNGS-UHFFFAOYSA-N triethylsilyl prop-2-enoate Chemical compound CC[Si](CC)(CC)OC(=O)C=C UGKLJUIMKCCNGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- WRURXXGRTHXSIY-UHFFFAOYSA-N 2-iodoprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(I)=C WRURXXGRTHXSIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-(2,4,6-trimethylphenyl)pent-4-en-2-one Chemical group CC(=C)CC(=O)Cc1c(C)cc(C)cc1C UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUZNQXYFCSOZIU-UHFFFAOYSA-N C(C([SiH3])Br)Br Chemical compound C(C([SiH3])Br)Br IUZNQXYFCSOZIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003747 Grignard reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- VQPFDLRNOCQMSN-UHFFFAOYSA-N bromosilane Chemical class Br[SiH3] VQPFDLRNOCQMSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001793 charged compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000007269 dehydrobromination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- DPRKFVKMXQSTKI-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-trimethylsilylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(=C)[Si](C)(C)C DPRKFVKMXQSTKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTIKAHQFRQTTAY-UHFFFAOYSA-N fluoro(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)F CTIKAHQFRQTTAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- IDIOJRGTRFRIJL-UHFFFAOYSA-N iodosilane Chemical class I[SiH3] IDIOJRGTRFRIJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 125000001979 organolithium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、グラフト重合体を製造するのに好適なα−シ
リルアクリル酸エステルの新規な製造法に関する。
リルアクリル酸エステルの新規な製造法に関する。
(従来の技術)
α−位にシリル基を有するα−シリルアクリル酸エステ
ルは、例えば、A、0tto lenghi、F、Ma
ti、A、Zi Ika、”Can。
ルは、例えば、A、0tto lenghi、F、Ma
ti、A、Zi Ika、”Can。
J、Chem、” 、4ユ、2970 (196B)に
記載されている方法により製造することができる。この
方法によれば、出発原料として工業的に入手が容易なり
ロルシラン類を用いて、例えば次ぎのような6段階を経
て製造されている。く1)クロルシラン類にビニル系有
機金二1と金物を反応させてビニルシランを生成させ、
(2)これに臭素を付加させて1.2−ジブロモエチル
シランを合成し、く3)アミンを用いて脱臭化水素によ
りα−ブロモビニルシラン分得、(4)金属マグネシウ
ムとα−ブロモビニルシランとを反応させてグリニヤー
ル試薬を生成し、或は金属リチウムと反応させて有機リ
チウム試薬を生成し、(5)これと炭酸ガスとの反応に
よりα−シリルアクリル酸を合成し、次いで(6)触媒
の存在下にアルコールと反応させて目的とするα−シリ
ルアクリル酸エステルを合成する。
記載されている方法により製造することができる。この
方法によれば、出発原料として工業的に入手が容易なり
ロルシラン類を用いて、例えば次ぎのような6段階を経
て製造されている。く1)クロルシラン類にビニル系有
機金二1と金物を反応させてビニルシランを生成させ、
(2)これに臭素を付加させて1.2−ジブロモエチル
シランを合成し、く3)アミンを用いて脱臭化水素によ
りα−ブロモビニルシラン分得、(4)金属マグネシウ
ムとα−ブロモビニルシランとを反応させてグリニヤー
ル試薬を生成し、或は金属リチウムと反応させて有機リ
チウム試薬を生成し、(5)これと炭酸ガスとの反応に
よりα−シリルアクリル酸を合成し、次いで(6)触媒
の存在下にアルコールと反応させて目的とするα−シリ
ルアクリル酸エステルを合成する。
(発明が解決しようとする問題点)
前記の従来法では、出発原料として入手が容易なりコル
シラン類を用いるものの6段階という長い反応工程を必
要とし、更に、発火性で不安定な有機金属試薬と使用す
る工程が2段階も含まれているため、その実施に際して
は特別の装置を必要とし、またその取り扱いには熟練を
必要とするなどの欠点があった。
シラン類を用いるものの6段階という長い反応工程を必
要とし、更に、発火性で不安定な有機金属試薬と使用す
る工程が2段階も含まれているため、その実施に際して
は特別の装置を必要とし、またその取り扱いには熟練を
必要とするなどの欠点があった。
(問題点を解決するための手段)
本発明はα−ハロゲノアクリル酸エステルとハロゲノシ
ランとを触媒の存在下で反応させることを特徴とする一
般式(1) (式中 p、+、R2およびR3は炭素数1−8のアル
キル基あるいは炭素数6−10のアリール基であり、同
一または異なっていてもよく、R4は炭素数1−16の
アルキル基または炭素数6−10のアリール基である)
で表されるα−シリルアクリル酸エステルの製造法を提
供するものである。
ランとを触媒の存在下で反応させることを特徴とする一
般式(1) (式中 p、+、R2およびR3は炭素数1−8のアル
キル基あるいは炭素数6−10のアリール基であり、同
一または異なっていてもよく、R4は炭素数1−16の
アルキル基または炭素数6−10のアリール基である)
で表されるα−シリルアクリル酸エステルの製造法を提
供するものである。
以下本発明について詳細に説明する。
前記−最大(1)に於て R1,R2およびR3によっ
て示される炭素数1−8のアルキル基には直鎖状、分岐
鎖状および環状のアルキル基が含まれ、例えば、メチル
基、エチル基、n−プロピル基。
て示される炭素数1−8のアルキル基には直鎖状、分岐
鎖状および環状のアルキル基が含まれ、例えば、メチル
基、エチル基、n−プロピル基。
1sO−プロピル基、n−ブチル基、5ec−ブチル基
r t e r t−ブチル基、アミル基、n−ペンチ
ル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル
基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、ベンジル基などを挙げること
ができる。また、R1,R2およびR3によって示され
る炭素数6−10のアリール基の具体例としては、フェ
ニル基、トリル基、ナフチル基、キシリル基、メシチル
基などを挙げることができる。
r t e r t−ブチル基、アミル基、n−ペンチ
ル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル
基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、ベンジル基などを挙げること
ができる。また、R1,R2およびR3によって示され
る炭素数6−10のアリール基の具体例としては、フェ
ニル基、トリル基、ナフチル基、キシリル基、メシチル
基などを挙げることができる。
−i式(1)に於て、R4によって示される炭素数1−
16のアルキル基には、直鎖状、分岐鎖状および環状の
アルキル基が含まれ、例えば、メチル基、エチル基、n
−プロピル基、1so−プロピル基、n−ブチル基、5
ec−ブチル基、tert−ブチル基、アミル基、n−
ペンチル基、n−ヘキシル基、n−へブチル基、n−オ
クチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロ
ヘンチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、デシル基
、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデ
シル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシ
ル基、オクタデシル基などを挙げることができる。また
、R4によって表される炭素数6−10のアリール基の
具体例としては、R1゜R2およびR3について例示し
たと同様の基を挙げことができる。
16のアルキル基には、直鎖状、分岐鎖状および環状の
アルキル基が含まれ、例えば、メチル基、エチル基、n
−プロピル基、1so−プロピル基、n−ブチル基、5
ec−ブチル基、tert−ブチル基、アミル基、n−
ペンチル基、n−ヘキシル基、n−へブチル基、n−オ
クチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロ
ヘンチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、デシル基
、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデ
シル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシ
ル基、オクタデシル基などを挙げることができる。また
、R4によって表される炭素数6−10のアリール基の
具体例としては、R1゜R2およびR3について例示し
たと同様の基を挙げことができる。
本発明の方法において用いるα−ハロゲノアクリル酸エ
ステルとしては、 α−ハロゲノアクリル酸メチル α−ハロゲノアクリル酸n−オクタデシルα−ハロゲノ
アクリル酸フェニル α−ハロゲノアクリル酸トリル α−ハロゲノアクリル酸ナフチル α−ハロゲノアクリル酸キシリル α−ハロゲノアクリル酸メシチル などを挙げることができ、一般的には、α−ブロモアク
リル酸エステルまたはα−ヨードアクリル酸エステルの
使用が好ましい。
ステルとしては、 α−ハロゲノアクリル酸メチル α−ハロゲノアクリル酸n−オクタデシルα−ハロゲノ
アクリル酸フェニル α−ハロゲノアクリル酸トリル α−ハロゲノアクリル酸ナフチル α−ハロゲノアクリル酸キシリル α−ハロゲノアクリル酸メシチル などを挙げることができ、一般的には、α−ブロモアク
リル酸エステルまたはα−ヨードアクリル酸エステルの
使用が好ましい。
本発明の方法において用いることができるハロゲノシラ
ンとしては、 トリメチルハロゲノシラン トリエチルハロゲノシラン トリス(n−ブチル)ハロゲノシラン トリス(n−オクチル)ハロゲノシランジメチルフェニ
ルハロゲノシラン ジフェニルメチルハロゲノシラン トリフェニルハロゲノシラン tert−ブチルジメチルハロゲノシランなどのクロル
シラン類、ブロモシラン類、ヨードシラン類などを挙げ
ることができる。これらのうち、タロルシラン類を使用
するのが好ましい。
ンとしては、 トリメチルハロゲノシラン トリエチルハロゲノシラン トリス(n−ブチル)ハロゲノシラン トリス(n−オクチル)ハロゲノシランジメチルフェニ
ルハロゲノシラン ジフェニルメチルハロゲノシラン トリフェニルハロゲノシラン tert−ブチルジメチルハロゲノシランなどのクロル
シラン類、ブロモシラン類、ヨードシラン類などを挙げ
ることができる。これらのうち、タロルシラン類を使用
するのが好ましい。
本発明の方法に於て触媒としては、金属亜鉛、金属マグ
ネシウム、銅、金属リチウム等が挙げられるが、通常、
金属亜鉛が用いられる。また、これらの触媒の形状とし
ては塊状、リボン状、粉末状のいずれをも用いることが
できるが反応の速度を高める為には、表面績の大きい粉
末状が好ましい、なお、必要に応じて、これらの触媒を
その使用に先立ちIN塩酸、水、メタノール、エーテル
の順で洗浄した後真空乾燥することなどにより活性化し
てもよい、 本発明の方法においては、不活性溶媒を
用いることができ、不活性溶媒としては、例えば、ヘキ
サメチルホスホルアミド、1.3−ジメチルイミダゾリ
ジノン、N−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド
、ジメチルホルムアミドなどの非プロトン性極性溶媒を
挙げることができる。このうち、ヘキサメチルホスホル
アミド、1.3−ジメチルイミダゾリジノンが好ましい
。これらの溶媒は市販品3直接使用することが可能であ
るが、使用直前に適当な乾燥剤、例えば、酸化バリウム
、水素化力ルシュウム、または活性アルミナで処理した
後、奪留して用いるのが好ましい。
ネシウム、銅、金属リチウム等が挙げられるが、通常、
金属亜鉛が用いられる。また、これらの触媒の形状とし
ては塊状、リボン状、粉末状のいずれをも用いることが
できるが反応の速度を高める為には、表面績の大きい粉
末状が好ましい、なお、必要に応じて、これらの触媒を
その使用に先立ちIN塩酸、水、メタノール、エーテル
の順で洗浄した後真空乾燥することなどにより活性化し
てもよい、 本発明の方法においては、不活性溶媒を
用いることができ、不活性溶媒としては、例えば、ヘキ
サメチルホスホルアミド、1.3−ジメチルイミダゾリ
ジノン、N−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド
、ジメチルホルムアミドなどの非プロトン性極性溶媒を
挙げることができる。このうち、ヘキサメチルホスホル
アミド、1.3−ジメチルイミダゾリジノンが好ましい
。これらの溶媒は市販品3直接使用することが可能であ
るが、使用直前に適当な乾燥剤、例えば、酸化バリウム
、水素化力ルシュウム、または活性アルミナで処理した
後、奪留して用いるのが好ましい。
本発明の反応は、反応を円滑に進行させる為に、通常、
不活性ガス、例えば、窒素或はアルゴン中でおこなうが
、乾燥した空気中においても笑施できる。
不活性ガス、例えば、窒素或はアルゴン中でおこなうが
、乾燥した空気中においても笑施できる。
ハロゲノシランの使用量は、通常、α−ハロゲノアクリ
ル酸エステルの1モル当たり1−10モルであり、好ま
しくは4−10モルである。触媒の使用量は、通常、α
−ハロゲノアクリル酸エステルの1モル当たり1−1.
5モル程度でよい。
ル酸エステルの1モル当たり1−10モルであり、好ま
しくは4−10モルである。触媒の使用量は、通常、α
−ハロゲノアクリル酸エステルの1モル当たり1−1.
5モル程度でよい。
溶媒は、触媒を活性化し、反応により生成する塩を溶解
するものが好ましく、反応溶液の撹はん含十分円滑にお
こなうため必要な旦を適当旦加えるが、撹はんを溶媒を
用いずとも十分円滑にすることができれば添加しなくて
もよい。
するものが好ましく、反応溶液の撹はん含十分円滑にお
こなうため必要な旦を適当旦加えるが、撹はんを溶媒を
用いずとも十分円滑にすることができれば添加しなくて
もよい。
本発明の方法に於て、使用するα−ハロゲンアクリル酸
エステル、ハロゲノシラン、触媒、溶媒などの添加順序
には特に制限はないが、収率の向上、反応熱の制御およ
び操作の容易さ等の理由により、例えば、触媒、ハロゲ
ノシランおよび不活性溶媒の懸濁液へα−ハロゲノアク
リル酸エステルを滴下するのがよい、使用するα−ハロ
ゲノアクリル酸エステルが常温で固体の場合、溶解に必
要な量の溶媒を添加して溶液とした後添加する。
エステル、ハロゲノシラン、触媒、溶媒などの添加順序
には特に制限はないが、収率の向上、反応熱の制御およ
び操作の容易さ等の理由により、例えば、触媒、ハロゲ
ノシランおよび不活性溶媒の懸濁液へα−ハロゲノアク
リル酸エステルを滴下するのがよい、使用するα−ハロ
ゲノアクリル酸エステルが常温で固体の場合、溶解に必
要な量の溶媒を添加して溶液とした後添加する。
本発明の方法に於ける反応は、通常、10−100°C
1常圧下に行うが、この反応は発熱反応であり、この際
あまり激しい発熱を起こさないようにα−ハロゲノアク
リル酸エステルの滴下を調整するのがよい0反応におけ
る発熱が終了したら、一応、反応は完了したと考えられ
るが、反応を完結させる為、さらに2時間程度以上撹は
んするのがよく、このときに反応系を加熱することは特
に必要としない0反応終了後、未反応のハロゲノシラン
含蒸留などで除去し、さらに残余の有機物などを水洗し
、その時発生する発熱を抑えるため氷水中に注ぎ、目的
とする生成物をヘキサンなどの不活性溶媒で抽出する。
1常圧下に行うが、この反応は発熱反応であり、この際
あまり激しい発熱を起こさないようにα−ハロゲノアク
リル酸エステルの滴下を調整するのがよい0反応におけ
る発熱が終了したら、一応、反応は完了したと考えられ
るが、反応を完結させる為、さらに2時間程度以上撹は
んするのがよく、このときに反応系を加熱することは特
に必要としない0反応終了後、未反応のハロゲノシラン
含蒸留などで除去し、さらに残余の有機物などを水洗し
、その時発生する発熱を抑えるため氷水中に注ぎ、目的
とする生成物をヘキサンなどの不活性溶媒で抽出する。
抽出物を水洗することにより反応で用いたベキサメチル
ポルホルアミド等の溶媒を除き、無水硫酸ナトリウムな
どで乾燥し、ろ過後、減圧下で蒸留することなどにより
、目的とするα−シソルアクリル れる。
ポルホルアミド等の溶媒を除き、無水硫酸ナトリウムな
どで乾燥し、ろ過後、減圧下で蒸留することなどにより
、目的とするα−シソルアクリル れる。
本発明によって製造される、αーシーリルアクリル酸エ
ステルの具体例を次ぎに挙げる。
ステルの具体例を次ぎに挙げる。
αートリメチルシリルアクリル酸メチルα−トリメチル
シリルアクリル酸エチルα−トリメチルシリルアフリル
ミn−プロピルα−トリメチルシリルアフリルミn−ブ
チルα−トリメチルシリルアクリル酸sec−ブチル αートリメチルシリルアクリル酸tert−ブチル α−トリメチルシリルアクリル酸n−ヘキシルα−トリ
メチルシリルアクリル酸n−オクチルル α−トリメチルシリルアクリル酸シクロヘキシル α−トリメチルシリルアクリル酸ベンジルα−トリメチ
ルシリルアクリル酸n−ドデシルα−トリメチルシリル
アクリルan−オクタデシル α−トリメチルシリルアクリル酸フェニルα−トリメチ
ルシリルアクリル酸ナフチルα−トリエチルシリルアク
リル酸メチルα−トリエチルシリルアクリル酸エチルα
−トリエチルシリルアクリル[n−ブチルα−トリエチ
ルシリルアクリル酸5ec−ブチα−トリエチルシリル
アクリル酸tert−ブチル α−トリエチルシリルアクリル酸n−オクチルル α−トリエチルシリルアクリル酸シクロヘキシル α−トリエチルシリルアクリル酸ベンジルα−トリエチ
ルシリルアクリル酸フェニルα−トリエチルシリルアク
リル酸ナフチルα−トリス(n−ブチル)シリルアクリ
ル酸メチル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸エチル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸n−ブチル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸5ec−ブ
チル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸tert−
ブチル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸n−オクチ
ル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸シクロヘキ
シル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸ベンジル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸n−ドデシ
ル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸n−オクタ
デシル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸フェニル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸ナフチル α−(ジメチルフェニル)シリルアクリル酸メチル α−(ジメチルフェニル)シリルアクリル酸エチル α−(ジメチルフェニル)シリルアクリル酸n−ブチル α−(ジメチルフェニル)シリルアクリル酸5ec−ブ
チル α−(ジメチルフェニル)シリルアクリル酸tert−
ブチル α−(ジメチルフェニル)シリルアクリル酸n−オクチ
ル α−(ジメチルフェニル)シリルアクリル酸シクロヘキ
シル α−(ジメチルフェニル)シリルアクリル酸ベンジル α−(ジメチルフェニル)シリルアクリル酸フェ ニル α−(ジメチルフェニル)シリルアクリル酸ナフチル α−トリス(n−オクチル)シリルアクリル酸メチル α−トリス(n−オクチル)シリルアクリル酸エチル α−トリス(n−オクチル〉シリルアクリル酸n−ブチ
ル α−トリス(n−オクチル)シリルアクリル酸n−オク
チル α−トリス(n−オクチル)シリルアクリル酸シクロヘ
キシル α−トリス(n−オクチル)シリルアクリル酸ベンジル α−トリス(n−オクチル)シリルアクリル酸フェニル α−トリス(n−オクチル)シリルアクリル酸ナフチル α−(ジフェニルメチル)シリルアクリル酸メチル α−(ジフェニルメチル)シリルアクリル酸エチル α−(ジフェニルメチル)シリルアクリル酸n−オクチ
ル α−(ジフェニルメチル)シリルアクリル酸シクロヘキ
シル α−(ジフェニルメチル)シリルアクリル酸フェニlし α−トリフェニルシリルアクリル酸メチルα−トリフェ
ニルシリルアクリル酸n−オクチル α−トリフェニルシリルアクリル酸シクロヘキシル α−トリフェニルシリルアクリル酸フェニル(実施例) 以下、実施例により、本発明を更に具体的に説明するが
、本発明は、その要旨を超えないかぎりこれらの実施例
に制約されるものではない。
シリルアクリル酸エチルα−トリメチルシリルアフリル
ミn−プロピルα−トリメチルシリルアフリルミn−ブ
チルα−トリメチルシリルアクリル酸sec−ブチル αートリメチルシリルアクリル酸tert−ブチル α−トリメチルシリルアクリル酸n−ヘキシルα−トリ
メチルシリルアクリル酸n−オクチルル α−トリメチルシリルアクリル酸シクロヘキシル α−トリメチルシリルアクリル酸ベンジルα−トリメチ
ルシリルアクリル酸n−ドデシルα−トリメチルシリル
アクリルan−オクタデシル α−トリメチルシリルアクリル酸フェニルα−トリメチ
ルシリルアクリル酸ナフチルα−トリエチルシリルアク
リル酸メチルα−トリエチルシリルアクリル酸エチルα
−トリエチルシリルアクリル[n−ブチルα−トリエチ
ルシリルアクリル酸5ec−ブチα−トリエチルシリル
アクリル酸tert−ブチル α−トリエチルシリルアクリル酸n−オクチルル α−トリエチルシリルアクリル酸シクロヘキシル α−トリエチルシリルアクリル酸ベンジルα−トリエチ
ルシリルアクリル酸フェニルα−トリエチルシリルアク
リル酸ナフチルα−トリス(n−ブチル)シリルアクリ
ル酸メチル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸エチル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸n−ブチル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸5ec−ブ
チル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸tert−
ブチル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸n−オクチ
ル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸シクロヘキ
シル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸ベンジル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸n−ドデシ
ル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸n−オクタ
デシル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸フェニル α−トリス(n−ブチル)シリルアクリル酸ナフチル α−(ジメチルフェニル)シリルアクリル酸メチル α−(ジメチルフェニル)シリルアクリル酸エチル α−(ジメチルフェニル)シリルアクリル酸n−ブチル α−(ジメチルフェニル)シリルアクリル酸5ec−ブ
チル α−(ジメチルフェニル)シリルアクリル酸tert−
ブチル α−(ジメチルフェニル)シリルアクリル酸n−オクチ
ル α−(ジメチルフェニル)シリルアクリル酸シクロヘキ
シル α−(ジメチルフェニル)シリルアクリル酸ベンジル α−(ジメチルフェニル)シリルアクリル酸フェ ニル α−(ジメチルフェニル)シリルアクリル酸ナフチル α−トリス(n−オクチル)シリルアクリル酸メチル α−トリス(n−オクチル)シリルアクリル酸エチル α−トリス(n−オクチル〉シリルアクリル酸n−ブチ
ル α−トリス(n−オクチル)シリルアクリル酸n−オク
チル α−トリス(n−オクチル)シリルアクリル酸シクロヘ
キシル α−トリス(n−オクチル)シリルアクリル酸ベンジル α−トリス(n−オクチル)シリルアクリル酸フェニル α−トリス(n−オクチル)シリルアクリル酸ナフチル α−(ジフェニルメチル)シリルアクリル酸メチル α−(ジフェニルメチル)シリルアクリル酸エチル α−(ジフェニルメチル)シリルアクリル酸n−オクチ
ル α−(ジフェニルメチル)シリルアクリル酸シクロヘキ
シル α−(ジフェニルメチル)シリルアクリル酸フェニlし α−トリフェニルシリルアクリル酸メチルα−トリフェ
ニルシリルアクリル酸n−オクチル α−トリフェニルシリルアクリル酸シクロヘキシル α−トリフェニルシリルアクリル酸フェニル(実施例) 以下、実施例により、本発明を更に具体的に説明するが
、本発明は、その要旨を超えないかぎりこれらの実施例
に制約されるものではない。
実施例1
粉末状の亜鉛(60,OOg、0.918グラ原子)、
トリメチルクロロシラン(281,2g、2.589m
mo+)、およびヘキサメチルホスホルアミド(200
m l )からなる懸濁液を撹はんしながら、窒素気流
下、25°Cでα−ブロモアクリル酸メチル(101,
4g、0.615mo1)を2時間かけて滴下した0滴
下開始後約5分で発熱が開始し、反応溶液の温度が70
″Cになったときにトリメチルクロロシランの還流が観
察された。その後も撹はんを続は反応溶液の温度が室温
まで低下した後、未反応のトリメチルクロロシランを留
去し、残りの反応溶液を約500gの砕いた氷に注ぎ、
ヘキサンで抽出した。抽出液を水洗することによりヘキ
サメチルホスホルアミドを除き、無水硫酸ナトリウムで
乾煤し、ろ過した後、減圧下で蒸留することによりα−
トリメチルシリルアクリル酸メチル(43,8g)を得
た。
トリメチルクロロシラン(281,2g、2.589m
mo+)、およびヘキサメチルホスホルアミド(200
m l )からなる懸濁液を撹はんしながら、窒素気流
下、25°Cでα−ブロモアクリル酸メチル(101,
4g、0.615mo1)を2時間かけて滴下した0滴
下開始後約5分で発熱が開始し、反応溶液の温度が70
″Cになったときにトリメチルクロロシランの還流が観
察された。その後も撹はんを続は反応溶液の温度が室温
まで低下した後、未反応のトリメチルクロロシランを留
去し、残りの反応溶液を約500gの砕いた氷に注ぎ、
ヘキサンで抽出した。抽出液を水洗することによりヘキ
サメチルホスホルアミドを除き、無水硫酸ナトリウムで
乾煤し、ろ過した後、減圧下で蒸留することによりα−
トリメチルシリルアクリル酸メチル(43,8g)を得
た。
得られたα−トリメチルシリルアクリル酸メチルの特性
値を以下にしめす。
値を以下にしめす。
沸点
73−77°C150mmHC
15O赤外線吸収スペクトル) (液膜、波数/cm
−’) 1725.1710 (カルボニル基の吸収) ’H−NMR(プロトンNMR法)(CDC1z、δ/
ppm) 0.88 (単重線、9H,Si ( CH3)3)、4.46 (単重線、3H1○(CHs
))、6.73 (二重線、IH1結合定数=3Hz、
ビニル)、7゜56(単重線、IH2結合定数−3H 2、ビニル) 実施例2 粉末状の亜鉛(40,OOg、0.612グラム原子)
、トリメチルクロロシラン(300,8g、2.770
mol)およびヘキサメチルホスホルアミド(200m
l )からなる懸濁液を撹はんしながら、窒素気流下
、25°Cでα−ブロモアクリルan−ブチル(81,
20g、0.392mo l )を、2時間かけて滴下
した0滴下開始後約10分で発熱が開始し、反応溶液の
温度が75−80°Cになったときにトリメチルクロロ
シランの還流が観察された。その後ら撹はんテ続は反応
溶液の温度が室温まで低下した後、未反応のトリメチル
フルロシランを留去し残りの反応溶液を約500gの砕
いた氷に注ぎ、目的とする生成物をヘキサンで抽出した
。抽出液を水洗、乾燥後、濃縮し、さらに減圧下蒸留す
ることにより、α−トリメチルシリルアクリル酸n−ブ
チルを33゜00g得た。得られたα−トリメチルシリ
ルアクリル酸n−ブチルの特性値を以下に示す。
−’) 1725.1710 (カルボニル基の吸収) ’H−NMR(プロトンNMR法)(CDC1z、δ/
ppm) 0.88 (単重線、9H,Si ( CH3)3)、4.46 (単重線、3H1○(CHs
))、6.73 (二重線、IH1結合定数=3Hz、
ビニル)、7゜56(単重線、IH2結合定数−3H 2、ビニル) 実施例2 粉末状の亜鉛(40,OOg、0.612グラム原子)
、トリメチルクロロシラン(300,8g、2.770
mol)およびヘキサメチルホスホルアミド(200m
l )からなる懸濁液を撹はんしながら、窒素気流下
、25°Cでα−ブロモアクリルan−ブチル(81,
20g、0.392mo l )を、2時間かけて滴下
した0滴下開始後約10分で発熱が開始し、反応溶液の
温度が75−80°Cになったときにトリメチルクロロ
シランの還流が観察された。その後ら撹はんテ続は反応
溶液の温度が室温まで低下した後、未反応のトリメチル
フルロシランを留去し残りの反応溶液を約500gの砕
いた氷に注ぎ、目的とする生成物をヘキサンで抽出した
。抽出液を水洗、乾燥後、濃縮し、さらに減圧下蒸留す
ることにより、α−トリメチルシリルアクリル酸n−ブ
チルを33゜00g得た。得られたα−トリメチルシリ
ルアクリル酸n−ブチルの特性値を以下に示す。
沸点
96−97°C/ 17 m m HgIR(液膜、波
数/cm−’) 1730.1710 (カルボニル基の吸収) ’HNMR(CDCI3、δ/ p p m )0.1
0(単重線、9H,Si (CH3)3) 、 0.8
9 (三重線3 H、結合定数=5.6Hz、 CH
3)、1.09−1.89 (ブロード、多重線、4H
,−CH2CH2)、4.08 ( ヨ重線、2H1結合定数=4.8Hz。
数/cm−’) 1730.1710 (カルボニル基の吸収) ’HNMR(CDCI3、δ/ p p m )0.1
0(単重線、9H,Si (CH3)3) 、 0.8
9 (三重線3 H、結合定数=5.6Hz、 CH
3)、1.09−1.89 (ブロード、多重線、4H
,−CH2CH2)、4.08 ( ヨ重線、2H1結合定数=4.8Hz。
−〇−CH2−)1,5.90 (二重線。
LH,結合定数=2.○Hz、ビニル)、6.69 (
二重線、IH1結合定数=2.0Hz、ビニル)、6.
69< 二重線、IH1結合定数=2.0Hz、ビニル) MS(質量分析法: 70eV、m/e (%))分子
イオンピーク検出されず2M−1 5として185 (52,9) 元素分析(%) : C+eH2eS i 02分析値
C(59,89)、H(1 0,1,2) 計算値 C(59,95)、H(1 0、06) (発明の効果) 本発明は、以下の効果を有するしのである。
二重線、IH1結合定数=2.0Hz、ビニル)、6.
69< 二重線、IH1結合定数=2.0Hz、ビニル) MS(質量分析法: 70eV、m/e (%))分子
イオンピーク検出されず2M−1 5として185 (52,9) 元素分析(%) : C+eH2eS i 02分析値
C(59,89)、H(1 0,1,2) 計算値 C(59,95)、H(1 0、06) (発明の効果) 本発明は、以下の効果を有するしのである。
イ、従来法によれば、グリニヤール反応を利用して、6
段階3経て製造されるにたいして、1段階で目的のα−
シリルアクリル することができる。
段階3経て製造されるにたいして、1段階で目的のα−
シリルアクリル することができる。
ロ,発火等の危険性のある有機金属試薬を使用しる必要
がない。
がない。
ハ.ケイ素上の置換基およびエステル残基を必要により
容易に選択できる。
容易に選択できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 α−ハロゲノアクリル酸エステルとハロゲノシランとを
触媒の存在下で反応させることを特徴とする一般式(1
) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1、R^2およびR^3は炭素数1−8のア
ルキル基または炭素数6−10のアリール基であり、同
一または異なっていてもよく、R^4は炭素数1−16
のアルキル基または炭素数6−10のアリール基である
) で表されるα−シリルアクリル酸エステルの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60217376A JPH0680066B2 (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | α−シリルアクリル酸エステルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60217376A JPH0680066B2 (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | α−シリルアクリル酸エステルの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6277393A true JPS6277393A (ja) | 1987-04-09 |
JPH0680066B2 JPH0680066B2 (ja) | 1994-10-12 |
Family
ID=16703200
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60217376A Expired - Lifetime JPH0680066B2 (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | α−シリルアクリル酸エステルの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0680066B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1991007446A1 (en) * | 1989-11-21 | 1991-05-30 | Loctite Corporation | Anionically polymerizable monomers, polymers thereof, and use of such polymers in photoresists |
US5386047A (en) * | 1994-03-11 | 1995-01-31 | Loctite Corporation | Di-α-cyanopentadienoate disiloxane compounds for use in adhesives |
-
1985
- 1985-09-30 JP JP60217376A patent/JPH0680066B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1991007446A1 (en) * | 1989-11-21 | 1991-05-30 | Loctite Corporation | Anionically polymerizable monomers, polymers thereof, and use of such polymers in photoresists |
US5359101A (en) * | 1989-11-21 | 1994-10-25 | Loctite Ireland, Ltd. | Anionically polymerizable monomers, polymers thereof and use of such polymers in photoresists |
US5386047A (en) * | 1994-03-11 | 1995-01-31 | Loctite Corporation | Di-α-cyanopentadienoate disiloxane compounds for use in adhesives |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0680066B2 (ja) | 1994-10-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20150299231A1 (en) | A process for the preparation of acylphosphanes | |
JPH0296583A (ja) | アミノアルキルアルコキシシランの製造方法 | |
JPH0786115B2 (ja) | 第3級炭化水素基含有ハロゲン化シランの製造方法 | |
JPS6277393A (ja) | α−シリルアクリル酸エステルの製造法 | |
US5047526A (en) | Dehydrogenative silylation process of organic compounds having active hydrogen | |
JPH01305094A (ja) | ω−シリルアルキニルシラン化合物およびその製造方法 | |
JPH0637503B2 (ja) | t−アルキルジメチルハロゲノシランの製造方法 | |
US4625043A (en) | Ethylidenenorbornyl dimethylmethacryloxysilane | |
JP4178369B2 (ja) | シリル(メタ)アクリレート化合物の製造方法 | |
DE4431643C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Silizium-verbrückten unsymmetrischen Cyclopentadienyl-, Indenyl- und Fluorenyl-Ligandsystemen | |
JP2787343B2 (ja) | アゾ化合物 | |
JP2815548B2 (ja) | ビス(シリルプロピル)アレーン及びその製造方法 | |
JPS63253090A (ja) | トリメチルシロキシ基含有シリル(メタ)アクリレ−ト | |
US5049688A (en) | Allyl cyclosilalactams | |
JPH0710885A (ja) | ポリシランおよびその製造方法 | |
JPH04124191A (ja) | 有機ケイ素化合物 | |
CN109096325B (zh) | 一锅法制备二烷基二酰基锗化合物的方法与应用 | |
JP2819991B2 (ja) | ジ−tert−ブチルシランの製造方法 | |
JP3089983B2 (ja) | 有機シラン化合物及び反応用試剤 | |
JP2002265477A (ja) | カチオン性ケイ素化合物とその製造方法、及び重合開始剤としての用途 | |
JPS61183305A (ja) | アクリル酸誘導体類の準‐イオン重合方法 | |
JPS634548B2 (ja) | ||
JPS6228797B2 (ja) | ||
JPH0474190A (ja) | メルカプト基を有するシラン | |
JP3592534B2 (ja) | 有機けい素化合物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |