JP2815548B2 - ビス(シリルプロピル)アレーン及びその製造方法 - Google Patents
ビス(シリルプロピル)アレーン及びその製造方法Info
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- -1 silylpropyl Chemical group 0.000 title claims description 32
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 title claims description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical group Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 58
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 31
- DNAJDTIOMGISDS-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylsilane Chemical compound [SiH3]CC=C DNAJDTIOMGISDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 22
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 15
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 12
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 claims description 10
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 9
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000005727 Friedel-Crafts reaction Methods 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims description 2
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 30
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 28
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 18
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 17
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 15
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 13
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- MJVFSDBAXDCTOC-UHFFFAOYSA-N dichloro(prop-2-enyl)silicon Chemical compound Cl[Si](Cl)CC=C MJVFSDBAXDCTOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000005047 Allyltrichlorosilane Substances 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- HKFSBKQQYCMCKO-UHFFFAOYSA-N trichloro(prop-2-enyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC=C HKFSBKQQYCMCKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- RMJJYQZAMCYOFF-UHFFFAOYSA-N CCC1=C(CCC[SiH](Cl)Cl)C=CC=C1 Chemical compound CCC1=C(CCC[SiH](Cl)Cl)C=CC=C1 RMJJYQZAMCYOFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 7
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NPDACUSDTOMAMK-UHFFFAOYSA-N 4-Chlorotoluene Chemical compound CC1=CC=C(Cl)C=C1 NPDACUSDTOMAMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NEOYJEJPABKFQO-UHFFFAOYSA-N dichloro-hexyl-prop-2-enylsilane Chemical compound CCCCCC[Si](Cl)(Cl)CC=C NEOYJEJPABKFQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 4
- PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N trichlorosilicon Chemical group Cl[Si](Cl)Cl PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FMRCLCKJLJVWNN-UHFFFAOYSA-N Cl[SiH](CCCC1=C(C=CC=C1)C)Cl Chemical compound Cl[SiH](CCCC1=C(C=CC=C1)C)Cl FMRCLCKJLJVWNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JESHQWWCXQJYBS-UHFFFAOYSA-N CC(C)C1=C(CCC[SiH](Cl)Cl)C=CC=C1 Chemical compound CC(C)C1=C(CCC[SiH](Cl)Cl)C=CC=C1 JESHQWWCXQJYBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWFVZPUAAHHRNR-UHFFFAOYSA-N CC1=C(CCC[Si](Cl)(Cl)Cl)C=CC=C1 Chemical compound CC1=C(CCC[Si](Cl)(Cl)Cl)C=CC=C1 JWFVZPUAAHHRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALUKIXCBGFXKOL-UHFFFAOYSA-N CCCCCC[Si](CCCC1(CCC[SiH](Cl)Cl)C=CC=CC1C)(Cl)Cl Chemical compound CCCCCC[Si](CCCC1(CCC[SiH](Cl)Cl)C=CC=CC1C)(Cl)Cl ALUKIXCBGFXKOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- ZYZCDBYRZHKOBD-UHFFFAOYSA-N dichloro-[2-(2-methylphenyl)propyl]silane Chemical compound CC(C[SiH](Cl)Cl)c1ccccc1C ZYZCDBYRZHKOBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N monofluorobenzene Chemical compound FC1=CC=CC=C1 PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- QJOHXSVBLYVERP-UHFFFAOYSA-N trichloro(3-phenylpropyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCCC1=CC=CC=C1 QJOHXSVBLYVERP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 241001120493 Arene Species 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRSHXBPHYBAWDR-UHFFFAOYSA-N CC1C=CC=CC1(CCC[SiH](Cl)Cl)CCC[Si](Cl)(Cl)Cl Chemical compound CC1C=CC=CC1(CCC[SiH](Cl)Cl)CCC[Si](Cl)(Cl)Cl FRSHXBPHYBAWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXEBFEQUBUBUKI-UHFFFAOYSA-N CCCCCC[Si](CCCC1=C(C)C=CC=C1)(Cl)Cl Chemical compound CCCCCC[Si](CCCC1=C(C)C=CC=C1)(Cl)Cl GXEBFEQUBUBUKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZEJKZMWEXESEY-UHFFFAOYSA-N [SiH3]CC(C)C1=CC=CC=C1 Chemical compound [SiH3]CC(C)C1=CC=CC=C1 FZEJKZMWEXESEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N benzyl(trichloro)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC=C1 GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHCAULAWARSHJQ-UHFFFAOYSA-N dichloro(3-phenylpropyl)silane Chemical compound Cl[SiH](Cl)CCCC1=CC=CC=C1 HHCAULAWARSHJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJMAVOJEAKHXSI-UHFFFAOYSA-N dichloro-hexyl-(3-phenylpropyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](Cl)(Cl)CCCc1ccccc1 CJMAVOJEAKHXSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N n-decene Natural products CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001558 organosilicon polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/127—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions not affecting the linkages to the silicon atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/06—Halogens; Compounds thereof
- B01J27/125—Halogens; Compounds thereof with scandium, yttrium, aluminium, gallium, indium or thallium
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なビス(シリルプ
ロピル)アレーン及びその製造方法に関する。このビス
(シリルプロピル)アレーンは新規な有機シリコーン高
分子化合物の合成に有用な原料である。
ロピル)アレーン及びその製造方法に関する。このビス
(シリルプロピル)アレーンは新規な有機シリコーン高
分子化合物の合成に有用な原料である。
【0002】
【従来の技術】本発明者らは、先にアリルクロリドと金
属ケイ素を直接反応させアリルジクロロシランとアリル
トリクロロシランを同時に合成できることを見出した
〔韓国特許公開92−10292号明細書(1992,
6,13)〕。上記アリルクロロシランはアルミニウム
クロリドのようなルイス酸触媒の存在下でフリーデル−
クラフツ反応により、種々の置換基を有する芳香族化合
物に付加して(2−アリールプロピル)クロロシランを
生成する〔韓国特許公開92−12996号明細書(1
992,7,21)〕。
属ケイ素を直接反応させアリルジクロロシランとアリル
トリクロロシランを同時に合成できることを見出した
〔韓国特許公開92−10292号明細書(1992,
6,13)〕。上記アリルクロロシランはアルミニウム
クロリドのようなルイス酸触媒の存在下でフリーデル−
クラフツ反応により、種々の置換基を有する芳香族化合
物に付加して(2−アリールプロピル)クロロシランを
生成する〔韓国特許公開92−12996号明細書(1
992,7,21)〕。
【0003】
【化3】
【0004】(式中、X3 は水素原子又はメチル基を表
し、X4 は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、ハロ
ゲン原子又はフェノキシ基を表し、Xは水素原子又は塩
素原子を表す)
し、X4 は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、ハロ
ゲン原子又はフェノキシ基を表し、Xは水素原子又は塩
素原子を表す)
【0005】また、ナメトキンと彼の共同研究者らは、
アリルジクロロシラン又はアリルトリクロロシランをア
ルミニウムクロリド触媒の存在下で、ベンゼン、クロロ
ベンゼ、ブロモベンゼン又はベンジルトリクロロシラン
とのフリーデル−クラフツ反応により、これら反応物が
1:1で付加した2−フェニルプロピルシランを主生成
物として得た(Nametkin, N.S.; Vdovin, V.M.; Finkel
shtein, E.S.; Oppengeium, V.D.: Chekalina, N.A., I
sv. Akad. Nauk SSSR. Ser. Khim, 1966, 11,1998)。
アリルジクロロシラン又はアリルトリクロロシランをア
ルミニウムクロリド触媒の存在下で、ベンゼン、クロロ
ベンゼ、ブロモベンゼン又はベンジルトリクロロシラン
とのフリーデル−クラフツ反応により、これら反応物が
1:1で付加した2−フェニルプロピルシランを主生成
物として得た(Nametkin, N.S.; Vdovin, V.M.; Finkel
shtein, E.S.; Oppengeium, V.D.: Chekalina, N.A., I
sv. Akad. Nauk SSSR. Ser. Khim, 1966, 11,1998)。
【0006】
【化4】
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、新規な有機
シリコーン高分子化合物の合成に有用な、新規なビス
(シリルプロピル)アレーン及びその製造方法を提供す
ることを目的とする。
シリコーン高分子化合物の合成に有用な、新規なビス
(シリルプロピル)アレーン及びその製造方法を提供す
ることを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記の一般式
(I)で示されるビス(シリルプロピル)アレーンであ
る。なお、ここで、Phはフェニル基を表す。以下同様
である。
(I)で示されるビス(シリルプロピル)アレーンであ
る。なお、ここで、Phはフェニル基を表す。以下同様
である。
【0009】
【化5】
【0010】〔式中、R1 及びR2 は同一でも異なって
いてもよく、各々水素原子、塩素原子又は−(CH2)2
R3 {ここで、R3 は−Ph、−CH2 Cl、(CH2)
r CH3(rは0〜15の整数)、−CF3 、−CH2 C
F3 、−Si(CH3)m Cl3-m(mは0〜3の整数)、
−CN、−CH2 CN、−(p−Ph)−CH2 Cl又
は3−シクロヘキセニル基を表す}を表す。X1 は水素
原子又はメチル基を表し、X2 は水素原子、炭素数1〜
4のアルキル基又はハロゲン原子を表し、Arはアリー
ル残基を表す〕
いてもよく、各々水素原子、塩素原子又は−(CH2)2
R3 {ここで、R3 は−Ph、−CH2 Cl、(CH2)
r CH3(rは0〜15の整数)、−CF3 、−CH2 C
F3 、−Si(CH3)m Cl3-m(mは0〜3の整数)、
−CN、−CH2 CN、−(p−Ph)−CH2 Cl又
は3−シクロヘキセニル基を表す}を表す。X1 は水素
原子又はメチル基を表し、X2 は水素原子、炭素数1〜
4のアルキル基又はハロゲン原子を表し、Arはアリー
ル残基を表す〕
【0011】上記ビス(シリルプロピル)アレーン
(I)は、芳香族化合物(II)又は(2−アリールプロ
ピル)シラン(III)と、アリルシラン(IV)とを、ルイ
ス酸触媒の存在下で、フリーデル−クラフツ反応させる
ことにより製造することができる。
(I)は、芳香族化合物(II)又は(2−アリールプロ
ピル)シラン(III)と、アリルシラン(IV)とを、ルイ
ス酸触媒の存在下で、フリーデル−クラフツ反応させる
ことにより製造することができる。
【0012】
【化6】
【0013】(式中、R1 、R2 、X1 及びX2 は前記
と同じ)
と同じ)
【0014】本発明のビス(シリルプロピル)アレーン
には対称型及び非対称型の2種類がある。
には対称型及び非対称型の2種類がある。
【0015】対称型ビス(シリルプロピル)アレーン
(I)は芳香族化合物(II)とアリルシラン(IV)とを
実質的に1:2のモル比で、アルミニウムクロリドのよ
うなルイス酸触媒の存在下フリーデル−クラフツ反応さ
せて得られる。
(I)は芳香族化合物(II)とアリルシラン(IV)とを
実質的に1:2のモル比で、アルミニウムクロリドのよ
うなルイス酸触媒の存在下フリーデル−クラフツ反応さ
せて得られる。
【0016】
【化7】
【0017】また、使用するアリルシラン(IV)も2種
類に大別され、式(IV)中のR1 が水素原子及び/又は
塩素原子の場合と、R1 が−(CH2)R3 の場合であ
る。
類に大別され、式(IV)中のR1 が水素原子及び/又は
塩素原子の場合と、R1 が−(CH2)R3 の場合であ
る。
【0018】前者のアリルシラン(IV)はアリルクロリ
ド及び塩化水素の混合気体と金属ケイ素との直接反応に
より得れる〔韓国特許公開92−10292号明細書
(1992,6,13)〕。これを用いて合成された対
称型ビス{2−(3−シリル)プロピル}アレーンは、
一般式(I)でR1 とR2 が水素原子又は塩素原子で互
いに同じ化合物である。
ド及び塩化水素の混合気体と金属ケイ素との直接反応に
より得れる〔韓国特許公開92−10292号明細書
(1992,6,13)〕。これを用いて合成された対
称型ビス{2−(3−シリル)プロピル}アレーンは、
一般式(I)でR1 とR2 が水素原子又は塩素原子で互
いに同じ化合物である。
【0019】後者のアリルシラン(IV)は、金属ケイ素
との直接反応で得られるアリルジクロロシランを、オレ
フィンを用いて塩化白金酸等の触媒の存在下で水素ケイ
素化反応させて得られるアリルアルキルシラン〔韓国特
許公開出願93−26069号明細書(1993,1
2,1)〕で、この化合物は一般式(IV)でR1 が−
(CH2)r R3 の場合である。
との直接反応で得られるアリルジクロロシランを、オレ
フィンを用いて塩化白金酸等の触媒の存在下で水素ケイ
素化反応させて得られるアリルアルキルシラン〔韓国特
許公開出願93−26069号明細書(1993,1
2,1)〕で、この化合物は一般式(IV)でR1 が−
(CH2)r R3 の場合である。
【0020】
【化8】
【0021】上記化合物を用いて合成された対称型ビス
{2−(3−シリル)プロピル}アレーンは、一般式
(I)でR1 とR2 が共に(CH2)r R3 の場合であ
る。
{2−(3−シリル)プロピル}アレーンは、一般式
(I)でR1 とR2 が共に(CH2)r R3 の場合であ
る。
【0022】また、対称型ビス(シリルプロピル)アレ
ーンは、(2−アリールプロピル)アルキルシラン(II
I)に同じ置換基を有する、アリルシラン(IV)を付加さ
せて得ることもできる。
ーンは、(2−アリールプロピル)アルキルシラン(II
I)に同じ置換基を有する、アリルシラン(IV)を付加さ
せて得ることもできる。
【0023】
【化9】
【0024】非対称型ビス(シリルプロピル)アレーン
は、R1 とR2 が互いに異なるアリルシラン(IV)と
(2−アリールプロピル)シラン(III)とを1:1のモ
ル比で使用し、アルミニウムクロリドのようなルイス酸
触媒の存在下でフルーデル−クラフツ反応させて得られ
る。
は、R1 とR2 が互いに異なるアリルシラン(IV)と
(2−アリールプロピル)シラン(III)とを1:1のモ
ル比で使用し、アルミニウムクロリドのようなルイス酸
触媒の存在下でフルーデル−クラフツ反応させて得られ
る。
【0025】
【化10】
【0026】上式において、R1 が(CH2)r R3 でR
2 がH又はClの場合と、R1 がH又はClでR2 が
(CH2)r R3 の場合との、2種のプロセスで同一の非
対称ビス(シリルプロピル)アレーンが得られる。
2 がH又はClの場合と、R1 がH又はClでR2 が
(CH2)r R3 の場合との、2種のプロセスで同一の非
対称ビス(シリルプロピル)アレーンが得られる。
【0027】ビス(シリルプロピル)アレーンを合成す
る反応は、不活性雰囲気下で種々の置換基を有する一般
式(II)又は一般式(III)の芳香族化合物とを反応槽に
仕込み、アリルシラン(IV)を徐々に注入して0〜30
℃で反応させる。触媒にはアルミニウムクロリドのよう
なルイス酸を使用することができるが、必要により亜
鉛、ホウ素、チタン、鉄、鉛、カドミウム、アンチモン
等の塩化物と混合して使用することができる。ルイス酸
触媒の使用量は、アリルシラン(IV)に対し好ましくは
1〜20重量%であり、より好ましくは5〜10重量%
である。
る反応は、不活性雰囲気下で種々の置換基を有する一般
式(II)又は一般式(III)の芳香族化合物とを反応槽に
仕込み、アリルシラン(IV)を徐々に注入して0〜30
℃で反応させる。触媒にはアルミニウムクロリドのよう
なルイス酸を使用することができるが、必要により亜
鉛、ホウ素、チタン、鉄、鉛、カドミウム、アンチモン
等の塩化物と混合して使用することができる。ルイス酸
触媒の使用量は、アリルシラン(IV)に対し好ましくは
1〜20重量%であり、より好ましくは5〜10重量%
である。
【0028】触媒を芳香族化合物(II)又は(III)に混
合した後、アリルシラン(IV)を注入することが好まし
い。反対に触媒をアリルシラン(IV)に注入するとき
は、触媒によってアリルシランがアリル基のため重合す
ることがある。ルイス酸触媒によるフリーデル−フラフ
ツ反応は発熱反応であるから、アリルシランの重合を抑
制するため反応槽の温度が高くならないよう反応熱を効
果的に除去しなければならない。一般式(II)の化合物
が液体の場合には溶媒を使用する必要がないが、固体の
場合は、適当な溶媒を使用することが好ましい。
合した後、アリルシラン(IV)を注入することが好まし
い。反対に触媒をアリルシラン(IV)に注入するとき
は、触媒によってアリルシランがアリル基のため重合す
ることがある。ルイス酸触媒によるフリーデル−フラフ
ツ反応は発熱反応であるから、アリルシランの重合を抑
制するため反応槽の温度が高くならないよう反応熱を効
果的に除去しなければならない。一般式(II)の化合物
が液体の場合には溶媒を使用する必要がないが、固体の
場合は、適当な溶媒を使用することが好ましい。
【0029】本発明の対称および非対称のビス(シリル
プロピル)アレーンはSi−H結合又は多様な官能基を
有し、同時にSi−Cl結合を有している。したがっ
て、例えば加水分解等の方法で、多様な性質を持つ新し
い有機シリコン高分子化合物を合成するのに有用な単量
体として使用することができる。
プロピル)アレーンはSi−H結合又は多様な官能基を
有し、同時にSi−Cl結合を有している。したがっ
て、例えば加水分解等の方法で、多様な性質を持つ新し
い有機シリコン高分子化合物を合成するのに有用な単量
体として使用することができる。
【0030】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【0031】なお、生成物の確認は、分別蒸留して得た
最終生成物を 1H−NMR(水素核磁気共鳴スペクト
ル、300MH2)で行った。
最終生成物を 1H−NMR(水素核磁気共鳴スペクト
ル、300MH2)で行った。
【0032】実施例1:ビス〔2−{3−(ジクロロシ
リル)プロピル}〕ベンゼンの合成 100ml容の丸底フラスコに還流コンデンサーと滴下漏
斗を装着し、乾燥した窒素ガスを通過させながらフラッ
シュ乾燥した。これに、アルミニウムクロリド0.8g
(0.007mol)とベンゼン2.2g(0.03mol)を
入れた。滴下漏斗によりアリルジクロロシラン10g
(0.07mol)を氷槽中で20分かけて滴下した後、1
時間更に攪拌した。反応の終了はガスクロマトグラフィ
により確認した。次いで、NaCl 2.0g(0.0
3mol)を添加し、50℃に加熱した後、2時間以上攪拌
して触媒の活性を除去した。反応混合物を真空蒸留(1
21〜124℃/0.05mmHg)してビス〔2−{3−
(ジクロロシリル)プロピル}〕ベンゼン4.6g(収
率:40%)を得た。得られた化合物の 1H−NMRデ
ータを表1に示す。
リル)プロピル}〕ベンゼンの合成 100ml容の丸底フラスコに還流コンデンサーと滴下漏
斗を装着し、乾燥した窒素ガスを通過させながらフラッ
シュ乾燥した。これに、アルミニウムクロリド0.8g
(0.007mol)とベンゼン2.2g(0.03mol)を
入れた。滴下漏斗によりアリルジクロロシラン10g
(0.07mol)を氷槽中で20分かけて滴下した後、1
時間更に攪拌した。反応の終了はガスクロマトグラフィ
により確認した。次いで、NaCl 2.0g(0.0
3mol)を添加し、50℃に加熱した後、2時間以上攪拌
して触媒の活性を除去した。反応混合物を真空蒸留(1
21〜124℃/0.05mmHg)してビス〔2−{3−
(ジクロロシリル)プロピル}〕ベンゼン4.6g(収
率:40%)を得た。得られた化合物の 1H−NMRデ
ータを表1に示す。
【0033】ベンゼンの代りにフルオロベンゼン、クロ
ロベンゼン、ブロモベンゼン、パラクロロトルエン、ビ
フェニル又はフェノキシベンゼンを使用して各種の置換
基を有するビス〔2−(3−ジクロロシリル)プロピ
ル〕アレーンを得た。得られた化合物の構造と 1H−N
MRデータを表1に示す。
ロベンゼン、ブロモベンゼン、パラクロロトルエン、ビ
フェニル又はフェノキシベンゼンを使用して各種の置換
基を有するビス〔2−(3−ジクロロシリル)プロピ
ル〕アレーンを得た。得られた化合物の構造と 1H−N
MRデータを表1に示す。
【0034】実施例2:ビス〔2−{3−(ジクロロシ
リル)プロピル}〕トルエンの合成 実施例1と同様の方法で、フラスコにトルエン6.53
g(0.071mol)とアルミニウムクロリド0.8g
(0.007mol)を入れ、氷槽中で攪拌しながらアリル
ジクロロシラン20g(0.142mol)を40分かけて
滴下し、30分間更に攪拌した。反応の終了を確認した
後、NaCl 4.0g(0.068mol)を添加し、触
媒の活性を除去して、真空蒸留(132〜134℃/
0.05mmHg)によりビス〔2−{3−(ジクロロシリ
ル)プロピル}〕トルエン16.7g(収率:63%)
を得た。得られた化合物の 1H−NMRデータを表1に
示す。
リル)プロピル}〕トルエンの合成 実施例1と同様の方法で、フラスコにトルエン6.53
g(0.071mol)とアルミニウムクロリド0.8g
(0.007mol)を入れ、氷槽中で攪拌しながらアリル
ジクロロシラン20g(0.142mol)を40分かけて
滴下し、30分間更に攪拌した。反応の終了を確認した
後、NaCl 4.0g(0.068mol)を添加し、触
媒の活性を除去して、真空蒸留(132〜134℃/
0.05mmHg)によりビス〔2−{3−(ジクロロシリ
ル)プロピル}〕トルエン16.7g(収率:63%)
を得た。得られた化合物の 1H−NMRデータを表1に
示す。
【0035】実施例3:ビス〔2−{3−(ジクロロシ
リル)プロピル}〕(エチル)ベンゼンの合成(1) 実施例1と同様の方法で、フラスコにエチルベンゼン
3.0g(0.028mol)とアルミニウムクロリド0.
4g(0.0035mol)を入れ、常温で攪拌しながらア
リルジクロロシラン10g(0.07mol)を20分かけ
て滴下し、1時間更に攪拌した。反応の終了を確認した
後、NaCl 2.0g(0.03mol)を添加し、触媒
の活性を除去して、真空蒸留(116〜118℃/0.
05mmHg)によりビス〔2−{3−(ジクロロシリル)
プロピル}〕(エチル)ベンゼン4.6g(収率:42
%)を得た。得られた化合物の 1H−NMRデータを表
1に示す。
リル)プロピル}〕(エチル)ベンゼンの合成(1) 実施例1と同様の方法で、フラスコにエチルベンゼン
3.0g(0.028mol)とアルミニウムクロリド0.
4g(0.0035mol)を入れ、常温で攪拌しながらア
リルジクロロシラン10g(0.07mol)を20分かけ
て滴下し、1時間更に攪拌した。反応の終了を確認した
後、NaCl 2.0g(0.03mol)を添加し、触媒
の活性を除去して、真空蒸留(116〜118℃/0.
05mmHg)によりビス〔2−{3−(ジクロロシリル)
プロピル}〕(エチル)ベンゼン4.6g(収率:42
%)を得た。得られた化合物の 1H−NMRデータを表
1に示す。
【0036】実施例4:ビス〔2−{3−(ジクロロシ
リル)プロピル}〕(イソプロピル)ベンゼンの合成 実施例1と同様の方法で、フラスコにイソプロピルベン
ゼン6.8g(0.056mol)と無水アルミニウムクロ
リド0.8g(0.007mol)を入れ、常温で攪拌しな
がらアリルジクロロシラン20g(0.142mol)を5
0分かけて滴下し、70分間更に攪拌した。反応の終了
を確認した後、NaCl 4.0g(0.068mol)を
添加し、触媒の活性を除去して、真空蒸留(114〜1
16℃/0.05mmHg)によりビス〔2−{3−(ジク
ロロシリル)プロピル}〕(イソプロピル)ベンゼン
8.6g(収率:38%)を得た。得られた化合物の 1
H−NMRデータを表1に示す。
リル)プロピル}〕(イソプロピル)ベンゼンの合成 実施例1と同様の方法で、フラスコにイソプロピルベン
ゼン6.8g(0.056mol)と無水アルミニウムクロ
リド0.8g(0.007mol)を入れ、常温で攪拌しな
がらアリルジクロロシラン20g(0.142mol)を5
0分かけて滴下し、70分間更に攪拌した。反応の終了
を確認した後、NaCl 4.0g(0.068mol)を
添加し、触媒の活性を除去して、真空蒸留(114〜1
16℃/0.05mmHg)によりビス〔2−{3−(ジク
ロロシリル)プロピル}〕(イソプロピル)ベンゼン
8.6g(収率:38%)を得た。得られた化合物の 1
H−NMRデータを表1に示す。
【0037】実施例5:ビス〔2−{3−(ジクロロシ
リル)プロピル}〕パラキシレンの合成 実施例1と同様の方法で、フラスコにパラキシレン7.
5g(0.071mol)とアルミニウムクロリド0.8g
(0.0007mol)を入れ、常温で攪拌しながらアリル
ジクロロシラン20g(0.142mol)を40分かけて
滴下し、30分間更に攪拌した。反応の終了を確認した
後、NaCl 4.0g(0.068mol)を添加し、触
媒の活性を除去して、真空蒸留(134〜136℃/
0.05mmHg)によりビス〔2−{3−(ジクロロシリ
ル)プロピル}〕パラキシレン17.4g(収率:63
%)を得た。得られた化合物の 1H−NMRデータを表
1に示す。
リル)プロピル}〕パラキシレンの合成 実施例1と同様の方法で、フラスコにパラキシレン7.
5g(0.071mol)とアルミニウムクロリド0.8g
(0.0007mol)を入れ、常温で攪拌しながらアリル
ジクロロシラン20g(0.142mol)を40分かけて
滴下し、30分間更に攪拌した。反応の終了を確認した
後、NaCl 4.0g(0.068mol)を添加し、触
媒の活性を除去して、真空蒸留(134〜136℃/
0.05mmHg)によりビス〔2−{3−(ジクロロシリ
ル)プロピル}〕パラキシレン17.4g(収率:63
%)を得た。得られた化合物の 1H−NMRデータを表
1に示す。
【0038】実施例6:ビス〔2−{3−(ジクロロシ
リル)プロピル}〕(エチル)ベンゼンの合成(2) 実施例1と同様の方法で、フラスコにエチルベンゼン2
7g(0.255mol)とアルミニウムクロリド1.13
g(0.009mol)を入れ、フラスコを氷槽中で冷却し
ながらアリルジクロロシラン12.0g(0.085mo
l)を30分かけて滴下し、1時間更に攪拌した。反応の
終了を確認した後、NaCl 2.4g(0.04mol)
を添加し、触媒の活性を除去して、真空蒸留(80〜8
4℃/0.66mmHg)により3−(エチルフェニル)−
1,1−ジクロロ−1−シラブタン16.3g(収率:
77%)を得た。得られた化合物16.3g(0.03
2mol)、アリルジクロロシラン4.5g(0.032mo
l)及びアルミニウムクロリド0.18g(0.0016
mol)を使用して上記と同様に反応させた。反応混合物を
真空蒸留(116〜118℃/0.05mmHg)してビス
〔2−{3−(ジクロロシリル)プロピル}〕(エチ
ル)ベンゼン6.9g(収率:56%)を得た。得られ
た化合物の 1H−NMRデータを表1に示す。
リル)プロピル}〕(エチル)ベンゼンの合成(2) 実施例1と同様の方法で、フラスコにエチルベンゼン2
7g(0.255mol)とアルミニウムクロリド1.13
g(0.009mol)を入れ、フラスコを氷槽中で冷却し
ながらアリルジクロロシラン12.0g(0.085mo
l)を30分かけて滴下し、1時間更に攪拌した。反応の
終了を確認した後、NaCl 2.4g(0.04mol)
を添加し、触媒の活性を除去して、真空蒸留(80〜8
4℃/0.66mmHg)により3−(エチルフェニル)−
1,1−ジクロロ−1−シラブタン16.3g(収率:
77%)を得た。得られた化合物16.3g(0.03
2mol)、アリルジクロロシラン4.5g(0.032mo
l)及びアルミニウムクロリド0.18g(0.0016
mol)を使用して上記と同様に反応させた。反応混合物を
真空蒸留(116〜118℃/0.05mmHg)してビス
〔2−{3−(ジクロロシリル)プロピル}〕(エチ
ル)ベンゼン6.9g(収率:56%)を得た。得られ
た化合物の 1H−NMRデータを表1に示す。
【0039】
【表1】
【0040】実施例7:ビス〔2−{3−(トリクロロ
シリル)プロピル}〕ベンゼンの合成 実施例1と同様の方法で、フラスコにベンゼン1.1g
(0.0142mol)とアルミニウムクロリド0.16g
(0.0014mol)を入れ、氷槽中で攪拌しながらアリ
ルトリクロロシラン5.0g(0.0285mol)を20
分かけて滴下し、1時間更に攪拌した。反応の終了を確
認した後、NaCl 1.0g(0.017mol)を添加
し、触媒の活性を除去して、真空蒸留(107〜110
℃/0.05mmHg)によりビス〔2−{3−(トリクロ
ロシリル)プロピル}〕ベンゼン4.0g(収率:65
%)を得た。得られた化合物の 1H−NMRデータを表
2に示す。
シリル)プロピル}〕ベンゼンの合成 実施例1と同様の方法で、フラスコにベンゼン1.1g
(0.0142mol)とアルミニウムクロリド0.16g
(0.0014mol)を入れ、氷槽中で攪拌しながらアリ
ルトリクロロシラン5.0g(0.0285mol)を20
分かけて滴下し、1時間更に攪拌した。反応の終了を確
認した後、NaCl 1.0g(0.017mol)を添加
し、触媒の活性を除去して、真空蒸留(107〜110
℃/0.05mmHg)によりビス〔2−{3−(トリクロ
ロシリル)プロピル}〕ベンゼン4.0g(収率:65
%)を得た。得られた化合物の 1H−NMRデータを表
2に示す。
【0041】ベンゼンの代りに、エチルベンゼン、イソ
プロピルベンゼン、フルオロベンゼン、クロロベンゼ
ン、ブロモベンゼン、パラクロロトルエン、ビフェニル
又はフェノキシベンゼンを使用して各種の置換基を有す
るビス〔2−{3−(ジクロロシリル)プロピル}〕ア
レーンを得た。得られた化合物の構造と 1H−NMRデ
ータを表2に示す。
プロピルベンゼン、フルオロベンゼン、クロロベンゼ
ン、ブロモベンゼン、パラクロロトルエン、ビフェニル
又はフェノキシベンゼンを使用して各種の置換基を有す
るビス〔2−{3−(ジクロロシリル)プロピル}〕ア
レーンを得た。得られた化合物の構造と 1H−NMRデ
ータを表2に示す。
【0042】実施例8:ビス〔2−{3−(トリクロロ
シリル)プロピル}〕トルエンの合成(1) 実施例1と同様の方法で、フラスコにトルエン1.1g
(0.0119mol)とアルミニウムクロリド0.16g
(0.0014mol)を入れ、氷槽中で攪拌しながらアリ
ルトリクロロシラン5.0g(0.0285mol)を20
分かけて滴下し、30分間更に攪拌した。反応の終了を
確認した後、NaCl 1.0g(0.017mol)を添
加し、触媒の活性を除去して、真空蒸留(128〜13
0℃/0.05mmHg)によりビス〔2−{3−(ジクロ
ロシリル)プロピル}〕トルエン3.6g(収率:67
%)を得た。得られた化合物の 1H−NMRデータを表
2に示す。
シリル)プロピル}〕トルエンの合成(1) 実施例1と同様の方法で、フラスコにトルエン1.1g
(0.0119mol)とアルミニウムクロリド0.16g
(0.0014mol)を入れ、氷槽中で攪拌しながらアリ
ルトリクロロシラン5.0g(0.0285mol)を20
分かけて滴下し、30分間更に攪拌した。反応の終了を
確認した後、NaCl 1.0g(0.017mol)を添
加し、触媒の活性を除去して、真空蒸留(128〜13
0℃/0.05mmHg)によりビス〔2−{3−(ジクロ
ロシリル)プロピル}〕トルエン3.6g(収率:67
%)を得た。得られた化合物の 1H−NMRデータを表
2に示す。
【0043】実施例9:ビス〔2−{3−(トリクロロ
シリル)プロピル}〕パラキシレンの合成 実施例1と同様の方法で、フラスコにパラキシレン1.
8g(0.016mol)とアルミニウムクロリド0.29
g(0.0026mol)を入れ、常温で攪拌しながらアリ
ルトリクロロシラン7.0g(0.040mol)を20分
かけて滴下し、40分間更に攪拌した。反応の終了を確
認した後、NaCl 2.0g(0.03mol)を添加
し、触媒の活性を除去して、真空蒸留(138〜142
℃/0.05mmHg)によりビス〔2−{3−(トリクロ
ロシリル)プロピル}〕パラキシレン5.7g(収率:
78%)を得た。得られた化合物の 1H−NMRデータ
を表2に示す。
シリル)プロピル}〕パラキシレンの合成 実施例1と同様の方法で、フラスコにパラキシレン1.
8g(0.016mol)とアルミニウムクロリド0.29
g(0.0026mol)を入れ、常温で攪拌しながらアリ
ルトリクロロシラン7.0g(0.040mol)を20分
かけて滴下し、40分間更に攪拌した。反応の終了を確
認した後、NaCl 2.0g(0.03mol)を添加
し、触媒の活性を除去して、真空蒸留(138〜142
℃/0.05mmHg)によりビス〔2−{3−(トリクロ
ロシリル)プロピル}〕パラキシレン5.7g(収率:
78%)を得た。得られた化合物の 1H−NMRデータ
を表2に示す。
【0044】実施例10:ビス〔2−{3−(トリクロ
ロシリル)プロピル}〕トルエンの合成(2) 実施例1と同様の方法で、フラスコにトルエン9.7g
(0.015mol)とアルミニウムクロリド0.20g
(0.0015mol)を入れ、氷槽中で冷却しながらアリ
ルトリクロロシラン3.0g(0.021mol)を20分
かけて滴下し、1時間更に攪拌した。反応の終了を確認
した後、NaCl 0.48g(0.008mol)を添加
し、触媒の活性を除去して、真空蒸留(74〜76℃/
0.6mmHg)により3−(メチルフェニル)−1,1,
1−トリクロロ−1−シラブタン3.2g(収率:71
%)を得た。この得られた化合物3.2g(0.011
4mol)、アリルトリクロロシラン2.0g(0.011
4mol)及びアルミニウムクロリド0.06g(0.00
05mol)を使用して、上記と同様に反応させた。反応混
合物を真空蒸留(116〜118℃/0.05mmHg)し
てビス〔2−{3−(トリクロロシリル)プロピル}〕
トルエン3.8g(収率:72%)を得た。得られた化
合物の 1H−NMRデータを表2に示す。
ロシリル)プロピル}〕トルエンの合成(2) 実施例1と同様の方法で、フラスコにトルエン9.7g
(0.015mol)とアルミニウムクロリド0.20g
(0.0015mol)を入れ、氷槽中で冷却しながらアリ
ルトリクロロシラン3.0g(0.021mol)を20分
かけて滴下し、1時間更に攪拌した。反応の終了を確認
した後、NaCl 0.48g(0.008mol)を添加
し、触媒の活性を除去して、真空蒸留(74〜76℃/
0.6mmHg)により3−(メチルフェニル)−1,1,
1−トリクロロ−1−シラブタン3.2g(収率:71
%)を得た。この得られた化合物3.2g(0.011
4mol)、アリルトリクロロシラン2.0g(0.011
4mol)及びアルミニウムクロリド0.06g(0.00
05mol)を使用して、上記と同様に反応させた。反応混
合物を真空蒸留(116〜118℃/0.05mmHg)し
てビス〔2−{3−(トリクロロシリル)プロピル}〕
トルエン3.8g(収率:72%)を得た。得られた化
合物の 1H−NMRデータを表2に示す。
【0045】
【表2】
【0046】実施例11:ビス〔2−{3−(ジクロロ
−ヘキシルシリル)プロピル}〕ベンゼンの合成 実施例1と同様の方法で、フラスコにベンゼン1.0g
(0.011mol)とアルミニウムクロリド0.13g
(0.001mol)を入れ、氷槽中で攪拌しながら4,4
−ジクロロ−4−シラ−1−デセン5.4g(0.02
2mol)を20分かけて滴下し、1時間更に攪拌した。反
応の終了を確認した後、NaCl 1.0g(0.01
7mol)を添加し、触媒の活性を除去して、真空蒸留(1
75〜182℃/0.03mmHg)によりビス〔2−{3
−(ジクロロ−ヘキシルシリル)プロピル}〕ベンゼン
3.3g(収率:57%)を得た。得られた化合物の 1
H−NMRデータを表3に示す。
−ヘキシルシリル)プロピル}〕ベンゼンの合成 実施例1と同様の方法で、フラスコにベンゼン1.0g
(0.011mol)とアルミニウムクロリド0.13g
(0.001mol)を入れ、氷槽中で攪拌しながら4,4
−ジクロロ−4−シラ−1−デセン5.4g(0.02
2mol)を20分かけて滴下し、1時間更に攪拌した。反
応の終了を確認した後、NaCl 1.0g(0.01
7mol)を添加し、触媒の活性を除去して、真空蒸留(1
75〜182℃/0.03mmHg)によりビス〔2−{3
−(ジクロロ−ヘキシルシリル)プロピル}〕ベンゼン
3.3g(収率:57%)を得た。得られた化合物の 1
H−NMRデータを表3に示す。
【0047】実施例12:ビス〔2−{3−(ジクロロ
−ヘキシルシリル)プロピル}〕トルエンの合成 実施例1と同様の方法で、フラスコにトルエン1.0g
(0.011mol)とアルミニウムクロリド0.12g
(0.001mol)を入れ、常温で攪拌しながら4,4−
ジクロロ−4−シラ−1−デセン5.4g(0.022
mol)を10分かけて滴下し、1時間更に攪拌した。反応
の終了を確認した後、NaCl 2.0g(0.03mo
l)を添加し、触媒の活性を除去して、真空蒸留(180
〜188℃/0.03mmHg)によりビス〔2−{3−
(ジクロロ−ヘキシルシリル)プロピル}〕トルエン
3.5g(収率:61%)を得た。
−ヘキシルシリル)プロピル}〕トルエンの合成 実施例1と同様の方法で、フラスコにトルエン1.0g
(0.011mol)とアルミニウムクロリド0.12g
(0.001mol)を入れ、常温で攪拌しながら4,4−
ジクロロ−4−シラ−1−デセン5.4g(0.022
mol)を10分かけて滴下し、1時間更に攪拌した。反応
の終了を確認した後、NaCl 2.0g(0.03mo
l)を添加し、触媒の活性を除去して、真空蒸留(180
〜188℃/0.03mmHg)によりビス〔2−{3−
(ジクロロ−ヘキシルシリル)プロピル}〕トルエン
3.5g(収率:61%)を得た。
【0048】実施例13:ビス〔2−{3−(ジクロロ
−ヘキシルシリル)プロピル}〕パラキシレンの合成 実施例1と同様の方法で、フラスコにパラキシレン1.
0g(0.009mol)とアルミニウムクロリド0.12
g(0.001mol)を入れ、常温で攪拌しながら4,4
−ジクロロ−4−シラ−1−デセン4.7g(0.01
9mol)を20分かけて滴下し、40分間更に攪拌した。
反応の終了を確認した後、NaCl 2.0g(0.0
3mol)を添加し、触媒の活性を除去して、真空蒸留(1
92〜195℃/0.03mmHg)によりビス〔2−{3
−(ジクロロ−ヘキシルシリル)プロピル}〕パラキシ
レン3.4g(収率:64%)を得た。得られた化合物
の1H−NMRデータを表3に示す。
−ヘキシルシリル)プロピル}〕パラキシレンの合成 実施例1と同様の方法で、フラスコにパラキシレン1.
0g(0.009mol)とアルミニウムクロリド0.12
g(0.001mol)を入れ、常温で攪拌しながら4,4
−ジクロロ−4−シラ−1−デセン4.7g(0.01
9mol)を20分かけて滴下し、40分間更に攪拌した。
反応の終了を確認した後、NaCl 2.0g(0.0
3mol)を添加し、触媒の活性を除去して、真空蒸留(1
92〜195℃/0.03mmHg)によりビス〔2−{3
−(ジクロロ−ヘキシルシリル)プロピル}〕パラキシ
レン3.4g(収率:64%)を得た。得られた化合物
の1H−NMRデータを表3に示す。
【0049】芳香族化合物(II)として、ベンゼン、ト
ルエン、エチルベンゼン又はパラキシレンを使用し、ま
た一般式(IV)のR1 として(CH2)3 Cl、(CH2)
2 Si(CH3)2 Cl又は(CH2)5 CH3 であるアリ
ルシラン誘導体を使用して、各種の置換基を有するビス
〔2−{3−(ジクロロ−アルキルシリル)プロピ
ル}〕アレーンらを得た。得られた化合物の構造と 1H
−NMRデータを表3に示す。
ルエン、エチルベンゼン又はパラキシレンを使用し、ま
た一般式(IV)のR1 として(CH2)3 Cl、(CH2)
2 Si(CH3)2 Cl又は(CH2)5 CH3 であるアリ
ルシラン誘導体を使用して、各種の置換基を有するビス
〔2−{3−(ジクロロ−アルキルシリル)プロピ
ル}〕アレーンらを得た。得られた化合物の構造と 1H
−NMRデータを表3に示す。
【0050】
【表3】
【0051】実施例14:〔2−{3−(ジクロロシリ
ル)プロピル}〕〔2−{3−(トリクロロシリル)プ
ロピル}〕トルエンの製造 実施例1と同様の方法で、フラスコにトルエン19.3
g(0.21mol)とアルミニウムクロリド0.9g
(0.007mol)を入れ、氷槽中で冷却しながらアリル
ジクロロシラン10.0g(0.07mol)を30分かけ
て滴下し、1時間更に攪拌した。反応の終了を確認した
後、NaCl 2.0g(0.03mol)を添加し、触媒
の活性を除去して、真空蒸留(73〜76℃/0.6mm
Hg)により3−(メチルフェニル)−1,1−ジクロロ
−1−シラブタン11.7g(収率:71%)を得た。
得られた化合物11.7g(0.050mol)、アリルト
リクロロシラン8.0g(0.051mol)及びアルミニ
ウムクロリド0.28g(0.0025mol)を使用し
て、上記と同様に反応させて、真空蒸留(135〜13
7℃/0.06mmHg)により〔2−{3−(ジクロロシ
リル)プロピル}〕〔2−{3−(トリクロロシリル)
プロピル}〕トルエン12.7g(収率:62%)を得
た。得られた化合物の 1H−NMRデータを表4に示
す。
ル)プロピル}〕〔2−{3−(トリクロロシリル)プ
ロピル}〕トルエンの製造 実施例1と同様の方法で、フラスコにトルエン19.3
g(0.21mol)とアルミニウムクロリド0.9g
(0.007mol)を入れ、氷槽中で冷却しながらアリル
ジクロロシラン10.0g(0.07mol)を30分かけ
て滴下し、1時間更に攪拌した。反応の終了を確認した
後、NaCl 2.0g(0.03mol)を添加し、触媒
の活性を除去して、真空蒸留(73〜76℃/0.6mm
Hg)により3−(メチルフェニル)−1,1−ジクロロ
−1−シラブタン11.7g(収率:71%)を得た。
得られた化合物11.7g(0.050mol)、アリルト
リクロロシラン8.0g(0.051mol)及びアルミニ
ウムクロリド0.28g(0.0025mol)を使用し
て、上記と同様に反応させて、真空蒸留(135〜13
7℃/0.06mmHg)により〔2−{3−(ジクロロシ
リル)プロピル}〕〔2−{3−(トリクロロシリル)
プロピル}〕トルエン12.7g(収率:62%)を得
た。得られた化合物の 1H−NMRデータを表4に示
す。
【0052】実施例15:〔2−{3−(ジクロロシリ
ル)プロピル}〕〔2−{3−(ジクロロ−ヘキシルシ
リル)プロピル}〕トルエンの製造 先ず、実施例14の前段と同様に実施して3−(メチル
フェニル)−1,1−ジクロロ−1−シラブタン11.
7g(収率:71%)を得た。得られた化合物11.7
g(0.050mol)と4,4−ジクロロ−4−シラ−1
−デセン12.5g(0.050mol)及びアルミニウム
クロリド0.28g(0.0025mol)を使用して、上
記と同様に反応させて、真空蒸留(163〜167℃/
0.06mmHg)により〔2−{3−(ジクロロシリル)
プロピル}〕〔2−{3−(ジクロロ−ヘキシルシリ
ル)プロピル}〕トルエン12.6g(収率:55%)
を得た。
ル)プロピル}〕〔2−{3−(ジクロロ−ヘキシルシ
リル)プロピル}〕トルエンの製造 先ず、実施例14の前段と同様に実施して3−(メチル
フェニル)−1,1−ジクロロ−1−シラブタン11.
7g(収率:71%)を得た。得られた化合物11.7
g(0.050mol)と4,4−ジクロロ−4−シラ−1
−デセン12.5g(0.050mol)及びアルミニウム
クロリド0.28g(0.0025mol)を使用して、上
記と同様に反応させて、真空蒸留(163〜167℃/
0.06mmHg)により〔2−{3−(ジクロロシリル)
プロピル}〕〔2−{3−(ジクロロ−ヘキシルシリ
ル)プロピル}〕トルエン12.6g(収率:55%)
を得た。
【0053】実施例16:〔2−{3−(トリクロロシ
リル)プロピル}〕〔2−{3−(ジクロロ−ヘキシル
シリル)プロピル}〕トルエンの製造 実施例1と同様の方法で、フラスコにトルエン14.6
g(0.159mol)とアルミニウムクロリド0.18g
(0.0016mol)を入れ、氷槽中で攪拌しながらアリ
ルトリクロロシラン5.0g(0.032mol)を20分
かけて滴下し、1時間更に攪拌した。反応の終了を確認
した後、NaCl 2.0g(0.03mol)を添加し、
触媒の活性を除去して、真空蒸留(73〜76℃/0.
6mmHg)により3−(メチルフェニル)−1,1,1−
トリクロロ−1−シラブタン6.3g(収率:73%)
を得た。得られた化合物6.3g(0.024mol)、
4,4−ジクロロ−4−シラ−1−デセン5.9g
(0.024mol)及びアルミニウムクロリド0.14g
(0.0012mol)を使用して、上記と同様に反応させ
て、真空蒸留(164〜167℃/0.6mmHg)により
〔2−{3−(トリクロロシリル)プロピル}〕〔2−
{3−(ジクロロ−ヘキシルシリル)プロリル}〕トル
エン6.6g(収率:56%)を得た。
リル)プロピル}〕〔2−{3−(ジクロロ−ヘキシル
シリル)プロピル}〕トルエンの製造 実施例1と同様の方法で、フラスコにトルエン14.6
g(0.159mol)とアルミニウムクロリド0.18g
(0.0016mol)を入れ、氷槽中で攪拌しながらアリ
ルトリクロロシラン5.0g(0.032mol)を20分
かけて滴下し、1時間更に攪拌した。反応の終了を確認
した後、NaCl 2.0g(0.03mol)を添加し、
触媒の活性を除去して、真空蒸留(73〜76℃/0.
6mmHg)により3−(メチルフェニル)−1,1,1−
トリクロロ−1−シラブタン6.3g(収率:73%)
を得た。得られた化合物6.3g(0.024mol)、
4,4−ジクロロ−4−シラ−1−デセン5.9g
(0.024mol)及びアルミニウムクロリド0.14g
(0.0012mol)を使用して、上記と同様に反応させ
て、真空蒸留(164〜167℃/0.6mmHg)により
〔2−{3−(トリクロロシリル)プロピル}〕〔2−
{3−(ジクロロ−ヘキシルシリル)プロリル}〕トル
エン6.6g(収率:56%)を得た。
【0054】トルエンの代りに、ベンゼン、エチルベン
ゼン又はパラキシレンを使用し、また一般式(IV)のR
1 としてCl又は(CH2)5 CH3 であるアリルシラン
誘導体を使用して各種の置換基を有する〔2−{3−
(クロロシリル)プロピル}〕〔2−{3−(ジクロロ
−アルキルシリル)プロピル}〕アレーンらを得た。こ
の中で幾つかの代表的な化合物の構造と 1H−NMRデ
ータを表4に示した。
ゼン又はパラキシレンを使用し、また一般式(IV)のR
1 としてCl又は(CH2)5 CH3 であるアリルシラン
誘導体を使用して各種の置換基を有する〔2−{3−
(クロロシリル)プロピル}〕〔2−{3−(ジクロロ
−アルキルシリル)プロピル}〕アレーンらを得た。こ
の中で幾つかの代表的な化合物の構造と 1H−NMRデ
ータを表4に示した。
【0055】
【表4】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石 美 妍 大韓民国ソウル特別市道峰区水踰5洞 519−59 (56)参考文献 Chemical Abstract s,69[1] (1968),2973t. Chemical Abstract s,66[15] (1967),65564u. Organometallics,13 [4] (1994),1312−1316. Silicon Chem.Ind. ▲II▼,[Int.Conf.],2 nd (1994),183−4. (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07F 7/12 C07F 7/14 BEILSTEIN(STN) CA(STN) CAOLD(STN) REGISTRY(STN) WPIDS(STN)
Claims (8)
- 【請求項1】 下記の一般式(I)で示されるビス(シ
リルプロピル)アレーン。 【化1】 〔式中、X1 は水素原子又はメチル基を表し、X2 は水
素原子、炭素数1〜4のアルキル基又はハロゲン原子を
表し、X1 −Ar−X2 は、置換もしくは非置換のフェ
ニレン基であるか、又は−C6 H4 −C6 H4 −基もし
くは−C6 H4OC6 H4 −基を表し; X1 −Ar−X2 が置換もしくは非置換のフェニレン基
のとき、R1 及びR2は、いずれも−(CH2)2 R3 基
を表すか、一方が−(CH2)2 R3 基で、他方が水素原
子又は塩素原子を表し{ここで、R3 は−C6 H5 、−
CH2 Cl、−(CH2)3 CH3 、−CF3 、−CH2
CF3 、−Si(CH3)m Cl3-m(mは0〜3の整
数)、−CN、−CH2 CN、−(p−C6 H4)−CH
2 Cl又は3−シクロヘキセニル基を表す}; X1 −Ar−X2 が−C6 H4 −C6 H4 −基又は−C
6 H4 OC6 H4 −基のとき、R1 及びR2 は水素原子
又は塩素原子を表す〕 - 【請求項2】 下記の一般式(II)で示される芳香族化
合物又は一般式(III)で示される(2−アリールプロピ
ル)シランと、一般式(IV)で示されるアリルシランと
を、ルイス酸触媒の存在下で、フリーデル−クラフツ反
応させることからなる、一般式(V)で示されるビス
(シリルプロピル)アレーンの製造方法。 【化2】 (式中、R1 及びR2 は、いずれも−(CH2)2 R3 基
を表すか、一方が−(CH2)2 R3 基、他方が水素原子
又は塩素原子を表し;R3 、X1 及びX2 は、請求項1
の定義と同じである) 【化12】 (式中、R1 、R2 、X1 及びX2 は、上記の定義と同
じである) - 【請求項3】 ルイス酸触媒がアルミニウムクロリドで
あり、一般式(II)(式中、X1 及びX2 は、上記の定
義と同じである)で示される芳香族化合物と、一般式
(IV)(式中、R1 は−(CH2)2 R3 基を表し、R3
は上記の定義と同じである)で示されるアリルシランと
を、実質的に1:2のモル比で反応させることからな
る、一般式(VI)で示される、請求項2記載の対称型ビ
ス(シリルプロピル)アレーンの製造方法。 【化13】 (式中、R1 、X1 及びX2 は、上記の定義と同じであ
る) - 【請求項4】 ルイス酸触媒がアルミニウムクロリドで
あり、一般式(III)(式中、R2 は−(CH2)2 R3 基
を表し、R3 、X1 及びX2 は、上記の定義と同じであ
る)で示される(2−アリールプロピル)シランと、一
般式(IV)(式中、R1 はR2 と同一である)で示され
るアリルシランとを、実質的に1:1のモル比で反応さ
せることからなる、一般式(V)(式中、R1 とR2 は
同一の−(CH2)2 R3 基を表し、R3 、X1 及びX2
は、上記の定義と同じである)で示される、請求項2記
載の対称型ビス(シリルプロピル)アレーンの製造方
法。 - 【請求項5】 ルイス酸触媒がアルミニウムクロリドで
あり、R1 とR2 とが互いに異なる(2−アリールプロ
ピル)シラン(III)(式中、R2 、X1 及びX2 は、請
求項2の定義と同じである)とアリルシラン(IV)(式
中、R1 は、請求項2の定義と同じである)とを実質的
に1:1のモル比で反応させることからなる、一般式
(V)(式中、R1 、R2 、X1 及びX2 は、上記の定
義と同じであり、R1 とR2 は互いに異なる)で示され
る、請求項2記載の非対称型ビス(シリルプロピル)ア
レーンの製造方法。 - 【請求項6】 一般式(IV)のR1 が−(CH2)2 R3
であり、一般式(III)のR2 が水素原子又は塩素原子で
ある、請求項5記載の製造方法。 - 【請求項7】 一般式(IV)のR1 が水素原子又は塩素
原子であり、一般式(III)のR2 が−(CH2)2 R3 で
ある、請求項5記載の製造方法。 - 【請求項8】 ルイス酸触媒として、アルミニウムクロ
リドをアリルシランに対して1〜20重量%使用する、
請求項3〜7のいずれか1項に記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019940014748A KR0139018B1 (ko) | 1994-06-25 | 1994-06-25 | 비스(실릴프로필)아렌 및 그들의 제조방법 |
KR14748/1994 | 1994-06-25 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0812683A JPH0812683A (ja) | 1996-01-16 |
JP2815548B2 true JP2815548B2 (ja) | 1998-10-27 |
Family
ID=19386337
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7002540A Expired - Fee Related JP2815548B2 (ja) | 1994-06-25 | 1995-01-11 | ビス(シリルプロピル)アレーン及びその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5523444A (ja) |
JP (1) | JP2815548B2 (ja) |
KR (1) | KR0139018B1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20000046696A (ko) * | 1998-12-31 | 2000-07-25 | 조충환 | 공기입 타이어의 인너라이너 고무 조성물 |
KR100333824B1 (ko) * | 1999-09-17 | 2002-04-25 | 조충환 | 튜브리스 공기입 타이어의 인너라이너용 고무조성물 |
WO2007024055A1 (en) * | 2005-08-23 | 2007-03-01 | Industry-Academic Cooperation Foundation, Yonsei University | Surface modified inorganic material and producing method thereof |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3304320A (en) * | 1963-06-17 | 1967-02-14 | Dow Corning | Organosilicon compositions |
DE3518878A1 (de) * | 1985-05-25 | 1986-11-27 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Phenylengruppen-haltige organosilane, verfahren zu ihrer herstellung |
US4902368A (en) * | 1987-05-05 | 1990-02-20 | Hughes Aircraft Company | Vibration-damping substituted aromatic silane compounds and damping method employing same |
US4861901A (en) * | 1987-05-05 | 1989-08-29 | Hughes Aircraft Company | Substituted aromatic silane compounds and method for preparation of same |
KR950002860B1 (ko) * | 1992-06-13 | 1995-03-27 | 한국과학기술연구원 | 클로로알켄닐실란들과그제조방법 |
US5386050A (en) * | 1994-01-03 | 1995-01-31 | Korea Institute Of Science And Technology | (2-arylpropyl)alkylsilanes and their preparation methods |
-
1994
- 1994-06-25 KR KR1019940014748A patent/KR0139018B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1995
- 1995-01-11 JP JP7002540A patent/JP2815548B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Title |
---|
Chemical Abstracts,66[15] (1967),65564u. |
Chemical Abstracts,69[1] (1968),2973t. |
Organometallics,13[4] (1994),1312−1316. |
Silicon Chem.Ind.▲II▼,[Int.Conf.],2nd (1994),183−4. |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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US5523444A (en) | 1996-06-04 |
KR0139018B1 (ko) | 1998-05-01 |
KR960000902A (ko) | 1996-01-25 |
JPH0812683A (ja) | 1996-01-16 |
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