JPH026488A - ω−アルケニルシラン化合物 - Google Patents
ω−アルケニルシラン化合物Info
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- JPH026488A JPH026488A JP63156313A JP15631388A JPH026488A JP H026488 A JPH026488 A JP H026488A JP 63156313 A JP63156313 A JP 63156313A JP 15631388 A JP15631388 A JP 15631388A JP H026488 A JPH026488 A JP H026488A
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 19
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 abstract description 9
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 abstract description 8
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 abstract description 6
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 abstract description 5
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 abstract description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 3
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 abstract description 2
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 abstract description 2
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 abstract description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 abstract description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract 1
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 abstract 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 9
- -1 silane compound Chemical class 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 101000654316 Centruroides limpidus Beta-toxin Cll2 Proteins 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 3
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 2
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000002120 nanofilm Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KHWBMZJQPZZNCF-UHFFFAOYSA-N 19-chlorononadec-1-ene Chemical compound ClCCCCCCCCCCCCCCCCCC=C KHWBMZJQPZZNCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(gi業上の利用分野)
本発明は文献未桟の新規なシラン化合物に係ゎり、特に
は1表面にビニル基を有する昨分子膜の形成に有用とさ
れる長鎖ω−アルケニルシラン化合物に関するものであ
る。
は1表面にビニル基を有する昨分子膜の形成に有用とさ
れる長鎖ω−アルケニルシラン化合物に関するものであ
る。
(従来の技術)
従来、長鎖ω−アルケニルシラン化合物としては、一般
式Cll2=CIl(CIl、)I、S i CL、で
示される化合物が公知である[’I’hin 5oli
d [’Hms、 90゜235 (IQ83)参照]
が、このシラン化合物からはピンホールのない均一な単
分子膜を基体」二に形成することがきわめて困難であり
、膜表面にビニル基をそろえることはできなかった。
式Cll2=CIl(CIl、)I、S i CL、で
示される化合物が公知である[’I’hin 5oli
d [’Hms、 90゜235 (IQ83)参照]
が、このシラン化合物からはピンホールのない均一な単
分子膜を基体」二に形成することがきわめて困難であり
、膜表面にビニル基をそろえることはできなかった。
(発明の構成)
本発明に係わる新規なシラン化合物は単分子膜形成能の
優れたものであり、これは一般式Cll2=CH(CH
2)nS iR’R”X (式中、R1,R”は同種ま
たは異種の炭素数10以下の1価の有機基、Xはハロゲ
ン原子、【1は10〜30のlJオ数である)で示され
るものである。
優れたものであり、これは一般式Cll2=CH(CH
2)nS iR’R”X (式中、R1,R”は同種ま
たは異種の炭素数10以下の1価の有機基、Xはハロゲ
ン原子、【1は10〜30のlJオ数である)で示され
るものである。
上記一般式中、Ri、R2は炭素数10以下の1価の有
機基とされるものであるが、これにはメチル基、エチル
基、フェニル基等が例示され、Xはハロゲン原子とされ
るものであるが、これには塩素、臭素等が例示される。
機基とされるものであるが、これにはメチル基、エチル
基、フェニル基等が例示され、Xはハロゲン原子とされ
るものであるが、これには塩素、臭素等が例示される。
nは10未満であると形成される単分子膜の膜厚が十分
ではなく、30を超えると111−分子膜が均一に形成
できずに表面状態にむらを生じる結果となるため510
〜30の整数とさオしるものである0本発明のシラン化
合物としては0次式 %式% で示されるものが例示されるが、上記はいずれも代表例
でありこれらに1ira定されるものではない。
ではなく、30を超えると111−分子膜が均一に形成
できずに表面状態にむらを生じる結果となるため510
〜30の整数とさオしるものである0本発明のシラン化
合物としては0次式 %式% で示されるものが例示されるが、上記はいずれも代表例
でありこれらに1ira定されるものではない。
本発明のシラン化合物は、一般式CII、 = CEl
(CH,)uY (式中、Yはハロゲン原子、nは前記
に同じ)で示されるω−アルケニルハライドとマグネシ
ウムとからグリニヤール試薬を合成し、これを一般式R
” R” S i X2(式中、R1、R8、Xは前記
に同じ)で示されるけい素化合物と反応させることによ
り合成することができる。グリニヤール試薬の原料とさ
れる一般式C1l□= CH−(CI(z)nYで示さ
れる化合物としてはcir2=Ct((CH2)、。C
l 、 C1l、=CH(C1l、)、、Cl、CH,
= CH(CH,)、、 C1等が例示され、グリニヤ
ール試薬と反応させる一般式R’R”SiX、で示され
る化合物としてはCCII、)、 S i C1□。
(CH,)uY (式中、Yはハロゲン原子、nは前記
に同じ)で示されるω−アルケニルハライドとマグネシ
ウムとからグリニヤール試薬を合成し、これを一般式R
” R” S i X2(式中、R1、R8、Xは前記
に同じ)で示されるけい素化合物と反応させることによ
り合成することができる。グリニヤール試薬の原料とさ
れる一般式C1l□= CH−(CI(z)nYで示さ
れる化合物としてはcir2=Ct((CH2)、。C
l 、 C1l、=CH(C1l、)、、Cl、CH,
= CH(CH,)、、 C1等が例示され、グリニヤ
ール試薬と反応させる一般式R’R”SiX、で示され
る化合物としてはCCII、)、 S i C1□。
(C,II、)、 S i C12、(c、n、)、S
i C1,、(Cl1a)(Cz tIs) S L
C1K、(CtL)(Ca ll5) SiCl−等
が例示される。
i C1,、(Cl1a)(Cz tIs) S L
C1K、(CtL)(Ca ll5) SiCl−等
が例示される。
グリニヤール試薬は、攪拌機、還流冷却8:(を付設し
た反応器内に金属マグネシウムおよび反応溶媒としてジ
エチルエーテルあるいはテトラヒドロフランを仕込み、
反応温度10〜60℃程度で金属マグネシウムと等モル
程度の前記一般式〇ll2= CH(CHz )n Y
で示される化合物を外部より供給し反応させて合成する
ことができる。ついで、攪拌機、還流冷却器を付設した
反応器内にジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ヘ
キサン、トルエン等の反応溶媒と前記一般式R’R”S
iX。
た反応器内に金属マグネシウムおよび反応溶媒としてジ
エチルエーテルあるいはテトラヒドロフランを仕込み、
反応温度10〜60℃程度で金属マグネシウムと等モル
程度の前記一般式〇ll2= CH(CHz )n Y
で示される化合物を外部より供給し反応させて合成する
ことができる。ついで、攪拌機、還流冷却器を付設した
反応器内にジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ヘ
キサン、トルエン等の反応溶媒と前記一般式R’R”S
iX。
で示される化合物を仕込み、上記で合成したグリニヤー
ル試薬を反応温度0〜40℃程度で供給しながら反応さ
せることによって本発明のシラン化合物を合成すること
ができる。この反応においては、グリニヤール試薬の原
料として用いた一般式Cll2= CH(CII、)n
Yで示される化合物に対し、一般式R” R” S i
X2で示される化合物を等モルから5倍モル程度使用
すればよい。反応終了後、生成したマグネシウム塩を炉
則し、炉液を蒸留すれば本発明のω−アルケニルシラン
化合物が得られる。
ル試薬を反応温度0〜40℃程度で供給しながら反応さ
せることによって本発明のシラン化合物を合成すること
ができる。この反応においては、グリニヤール試薬の原
料として用いた一般式Cll2= CH(CII、)n
Yで示される化合物に対し、一般式R” R” S i
X2で示される化合物を等モルから5倍モル程度使用
すればよい。反応終了後、生成したマグネシウム塩を炉
則し、炉液を蒸留すれば本発明のω−アルケニルシラン
化合物が得られる。
この本発明のω−アルケニルシラン化合物は。
n−ヘキサン、クロロホルム、四塩化炭素等の溶剤で希
釈し、この溶液を用いて基体を浸漬・引き上げ法やスプ
レー法等によって処理し、常温で放置あるいは加熱処理
すれば、基体表面に単分子膜を形成する。特にコ、(体
表面に水酸基が存在するときは基体と強r、i1に結合
した単分子1摸を形成する。
釈し、この溶液を用いて基体を浸漬・引き上げ法やスプ
レー法等によって処理し、常温で放置あるいは加熱処理
すれば、基体表面に単分子膜を形成する。特にコ、(体
表面に水酸基が存在するときは基体と強r、i1に結合
した単分子1摸を形成する。
なお、単分子膜の厚さは本発明のシラン化合物中のω−
アルケニルノルの炭素数によりFl!Ifiすることが
できる。
アルケニルノルの炭素数によりFl!Ifiすることが
できる。
本発明のω−アルケニルシラン化合物から得られる単分
子膜は均一であり、かつ表面にはビニル基がそろってい
るので、プラズマやエネルギービームでビニル基を照射
重合させれば、より緻密な膜とすることができ、この膜
は磁気テープ、磁気ディスク等の表面保護膜として非常
に有効である。
子膜は均一であり、かつ表面にはビニル基がそろってい
るので、プラズマやエネルギービームでビニル基を照射
重合させれば、より緻密な膜とすることができ、この膜
は磁気テープ、磁気ディスク等の表面保護膜として非常
に有効である。
また、単分子膜のビニル基へ水酸基を付加させ。
ここへたんばく質や酵素を結合することにより、高感度
のバイオセンサーとして利用することもできる。さらに
、本発明のシラン化合物は反応性の大きいけい素−ハロ
ゲン結合を有しているので、各種誘導体用の〃x料とし
て利用することができる。
のバイオセンサーとして利用することもできる。さらに
、本発明のシラン化合物は反応性の大きいけい素−ハロ
ゲン結合を有しているので、各種誘導体用の〃x料とし
て利用することができる。
次に、本発明の実施例をあげる。
実施例
攪拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた50
0mQガラスフラスコに金属マグネシウム0.5モル、
テトラヒドロフラン300川Qを仕込み、C112=
CIf (CII、)l□CL(18−ノナデセニルク
ロライド)0.5モルを50〜60℃にて滴下ロー1−
より2時間かけて滴下し、滴下終了後、65℃にて2時
間熟成してグリニヤール試薬を調製した。
0mQガラスフラスコに金属マグネシウム0.5モル、
テトラヒドロフラン300川Qを仕込み、C112=
CIf (CII、)l□CL(18−ノナデセニルク
ロライド)0.5モルを50〜60℃にて滴下ロー1−
より2時間かけて滴下し、滴下終了後、65℃にて2時
間熟成してグリニヤール試薬を調製した。
攪拌機、還流冷却器、温度計1滴下ロートを備えたIQ
ガラスフラスコに(CH,)2S i Cl。
ガラスフラスコに(CH,)2S i Cl。
(ジメチルジクロロシラン)1.0モル、【)−ヘキサ
ン300r口Qを仕込み、水冷し、内温20℃以下にて
上記グリニヤール試薬を2時間かけて滴下し9滴下終了
後530℃にて1時間熟成した。
ン300r口Qを仕込み、水冷し、内温20℃以下にて
上記グリニヤール試薬を2時間かけて滴下し9滴下終了
後530℃にて1時間熟成した。
次いで反応液を減圧にて口過し、塩化マグネシウムを除
いた後、口演よりテトラヒドロフラン、11−ヘキサジ
、未反応ジメチルジクロロシランをス1〜リップし、こ
の液を蒸留したところ171〜b %の収率で得られた。
いた後、口演よりテトラヒドロフラン、11−ヘキサジ
、未反応ジメチルジクロロシランをス1〜リップし、こ
の液を蒸留したところ171〜b %の収率で得られた。
こうして得られた化合物の質量スペク1−ル(MS)、
核磁気共鳴スペク1−ル(NMR)及び赤外吸収スペク
トル(IR)についてδ1り定したところ、次の結果が
得られ、式 %式% る化合物であることが確認された。
核磁気共鳴スペク1−ル(NMR)及び赤外吸収スペク
トル(IR)についてδ1り定したところ、次の結果が
得られ、式 %式% る化合物であることが確認された。
測定結果
a:質量スペク1−ル(MS):rn/Zル強度比)
(スペクト
*印ピークは、1!X素(37c 1)の同位体元素を
ともなう b:核磁気共鳴スペクトル(NMI<):δ(1’ I
) +ll )a:0.37ppn+(S)、b:0.
8 ppm(T)、c : I 、 25pp+u (
M ) 。
ともなう b:核磁気共鳴スペクトル(NMI<):δ(1’ I
) +ll )a:0.37ppn+(S)、b:0.
8 ppm(T)、c : I 、 25pp+u (
M ) 。
d:1.95ppm(T)、 e:4.75ppm(
1))、 f :4.98ppm(D)、g:5.55
ppm(Q) C0赤外吸収スペク1−ル(I R) : (a m
−1)3080、2020.2845、[640,14
15,1260゜995.910. 850
1))、 f :4.98ppm(D)、g:5.55
ppm(Q) C0赤外吸収スペク1−ル(I R) : (a m
−1)3080、2020.2845、[640,14
15,1260゜995.910. 850
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 CH_2=CH(CH_2)_nSiR^1R^2X(
式中、R^1、R^2は同種または異種の炭素数10以
下の1価の有機基、Xはハロゲン原子、nは10〜30
の整数である)で示されるω−アルケニルシラン化合物
。 2、式 CH_2=CH(CH_2)_1_7Si(CH_3)
_2Clで示される請求項1記載のω−アルケニルシラ
ン化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63156313A JPH026488A (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | ω−アルケニルシラン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63156313A JPH026488A (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | ω−アルケニルシラン化合物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH026488A true JPH026488A (ja) | 1990-01-10 |
Family
ID=15625070
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63156313A Pending JPH026488A (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | ω−アルケニルシラン化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH026488A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006078625A1 (en) * | 2005-01-19 | 2006-07-27 | Woodholdings Environmental, Inc. | Preservative compositions for materials and method of preserving same |
US7128778B2 (en) * | 2000-06-06 | 2006-10-31 | Woodholdings Environmental, Inc. | Preservative compositions for wood products |
US7964031B2 (en) | 2000-06-06 | 2011-06-21 | Dow Corning Corporation | Compositions for treating materials and methods of treating same |
US8721783B2 (en) | 2000-06-06 | 2014-05-13 | Dow Corning Corporation | Compositions for treating materials and methods of treating same |
US8940366B2 (en) | 2007-05-09 | 2015-01-27 | Petra International Holdings, Llc | Apparatus and method for treating materials with compositions |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61164675A (ja) * | 1985-01-17 | 1986-07-25 | Teijin Ltd | 新規な超薄膜の製造方法 |
JPS6250657A (ja) * | 1985-08-29 | 1987-03-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | バイオセンサ−およびその製造方法 |
-
1988
- 1988-06-24 JP JP63156313A patent/JPH026488A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61164675A (ja) * | 1985-01-17 | 1986-07-25 | Teijin Ltd | 新規な超薄膜の製造方法 |
JPS6250657A (ja) * | 1985-08-29 | 1987-03-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | バイオセンサ−およびその製造方法 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7758924B2 (en) | 2000-06-06 | 2010-07-20 | Dow Corning Corporation | Preservative compositions for wood products |
US7128778B2 (en) * | 2000-06-06 | 2006-10-31 | Woodholdings Environmental, Inc. | Preservative compositions for wood products |
US7267714B2 (en) | 2000-06-06 | 2007-09-11 | Woodholdings Environmental, Inc. | Preservative compositions for wood products |
US7300502B2 (en) | 2000-06-06 | 2007-11-27 | Woodholdings Environmental, Inc. | Preservative compositions for wood products |
US7754288B2 (en) | 2000-06-06 | 2010-07-13 | Woodholdings Environmental, Inc. | Preservative compositions for materials and method of preserving same |
US7838124B2 (en) | 2000-06-06 | 2010-11-23 | Dow Corning Corporation | Preservative compositions for wood products |
US7846505B2 (en) | 2000-06-06 | 2010-12-07 | Dow Corning Corporation | Preservative compositions for materials and method of preserving same |
US7964031B2 (en) | 2000-06-06 | 2011-06-21 | Dow Corning Corporation | Compositions for treating materials and methods of treating same |
US7964287B2 (en) | 2000-06-06 | 2011-06-21 | Dow Corning Corporation | Preservative compositions for wood products |
US8721783B2 (en) | 2000-06-06 | 2014-05-13 | Dow Corning Corporation | Compositions for treating materials and methods of treating same |
US7192470B2 (en) | 2003-05-27 | 2007-03-20 | Woodholdings Environmental, Inc. | Preservative compositions for materials and method of preserving same |
WO2006078625A1 (en) * | 2005-01-19 | 2006-07-27 | Woodholdings Environmental, Inc. | Preservative compositions for materials and method of preserving same |
US8940366B2 (en) | 2007-05-09 | 2015-01-27 | Petra International Holdings, Llc | Apparatus and method for treating materials with compositions |
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