JP4576653B2 - テトラアシルボレートおよび置換オニウムテトラアシルボレートの合成法 - Google Patents
テトラアシルボレートおよび置換オニウムテトラアシルボレートの合成法 Download PDFInfo
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気・電子材料用エポキシ樹脂の硬化促進剤等に有用な置換オニウムテトラアシルボレート、およびその前駆体であるテトラアシルボレートの合成法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来テトラアシルボレートを合成する方法は、以下の2種類の方法が知られている。
(1)無水酢酸存在下、トリアセテートボレートと酢酸カリウムとを反応させる方法(I.G.ルイス、V.N.プラホトニク Zhurnal Neorganicheskoi Khimii (1968), 13(8),2050)。
(2)テトラ置換ホスホニウムテトラ置換ボレートと分子外に放出しうるプロトンを少なくとも1個以上分子内に有するn(n≧1)価の有機酸とを反応させる方法(特開平8−196911号公報)。
【0003】
しかし、前記(1)項の方法は、カチオンとしてアルカリ金属を使用しているため、合成プロセスにおける有機溶剤への低溶解性や、電気・電子材料において問題となるイオン性不純物の残存等が問題となる。一方、前記(2)項の方法は、反応の際に200℃以上の高温で行うため、テトラ置換ホスホニウムテトラ置換ボレートのボレート置換基がアルキル基である場合、ボレート側が大気中で不安定であり、取り扱いが困難である。ボレート置換基が、フェニル基、その他のアリール基である場合、コスト面で問題がある。特に、テトラ置換ホスホニウムテトラフェニルボレートを用いた場合、反応時に副生成物として、人体に有害なベンゼンを生じるため望ましくない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、前記問題点を解決するため成されたもので、合成における有機溶剤への溶解性が良く、有害物質の発生もなく、安価で、イオン性不純物の残存も無く、安定性の良い置換オニウムテトラアシルボレート、およびその前駆体であるテトラアシルボレートの合成法を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は、一般式(1)で表されるトリアシルボレート(A)と、一般式(2)で表されるアミンと一般式(3)で表されるカルボン酸との塩(B)とを反応させることを特徴とする、一般式(4)で表されるテトラアシルボレートの合成法、
【0006】
【化5】
【0007】
【化6】
【0008】
【化7】
【0009】
【化8】
【0010】
(ただし、置換基R1、R2、R3、R7はアルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基であり、互いに同一でも異なっていてもよい。R4、R5、R6は水素原子、アルキル基、またはアリール基。)
【0011】
好ましくは、一般式(2)の置換基R4、R5、R6が、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基からなる群より選ばれる基である、前記記載のテトラアシルボレートの合成法であり、
【0012】
また、一般式(1)で表されるトリアシルボレート(A)と、アミジン類と一般式(3)で表されるカルボン酸との塩(B)とを反応させることを特徴とする、一般式(31)で表されるテトラアシルボレートの合成法である。
【0013】
【発明の実施の形態】
本発明において、一般式(4)で表されるテトラアシルボレートは、トリアシルボレート(A)と、一般式(2)で表されるアミンまたはアミジン類と一般式(3)で表されるカルボン酸との塩(B)との反応により合成する方法により得られるが、本発明は、これに用いる塩(B)のカチオン種が有機化合物であるアミン、またはアミジン類の塩であるため、生成する塩の融点が低く、また溶剤への溶解性が良好なため、きわめてハンドリング性がよいことが特徴の一つである。
【0014】
本発明に用いる一般式(1)で表されるトリアシルボレート(A)としては、トリアセテートボレート、トリプロピオネートボレート、トリブタネートボレート、トリベンゾエートボレート、トリナフトエートボレート等が挙げられるが、ホウ素にアシロキシ基が置換した化合物であれば何ら限定されるものではない。
【0015】
これらトリアシルボレートは、三臭化ホウ素、三塩化ホウ素などの三ハロゲン化ホウ素を、カルボン酸の塩基の存在下または塩基なしでの脱ハロゲン化水素反応による方法や、無水ホウ酸とカルボン酸無水物、またはカルボン酸との反応による方法、カルボン酸無水物とホウ酸との反応による方法等により得るのが一般的である。
【0016】
本発明に用いる一般式(2)で表されるアミン、またはアミジン類と、一般式(3)で表されるカルボン酸との塩における、一般式(2)で表されるアミンおよびアミジン類については、特に限定はないが、アンモニアや、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、ペンチルアミンなどアルキル基の置換した1級、2級、3級のアミン類、アニリン、ジアミノジフェニルメタン、ジフェニルアミン等のアリール基置換アミン、1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデク-7-エン(当業者でDBUと呼称される双環式アミジン化合物)、1,5-ジアザビシクロ[4,3,0]ノン-5-エン(当業者でDBNと呼称される双環式アミジン化合物)、イミダゾールのような単環式アミジン、あるいは非環状アミジン類などが例示される。
【0017】
また、一般式(3)で表されるカルボン酸については、一般式(3)において、置換基R7がアルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基を有したカルボン酸であり、置換基の具体例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基、トリル基、アニシル基、ニトロフェニル基、ナフチル基、ベンジル基などが例示される。また、それぞれのカルボン酸の例としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、安息香酸、メチル安息香酸、メトキシ安息香酸、ニトロ安息香酸、ナフトエ酸、1−フェニル酢酸などが挙げられる。
【0018】
本発明のテトラアシルボレートの合成法の例としては、一般式(1)で表されるトリアシルボレートと一般式(2)で表されるアミン、またはアミジン類と、一般式(3)で表されるカルボン酸との塩とをそれぞれ1:1のモル比で反応させることにより行われるが、本発明によれば、80〜180℃程度の200℃未満の比較的穏和な条件で30分〜3時間で反応を完結させることができる。
【0019】
反応に於いては、溶媒を使用しても無溶媒でもよいが、一般式(2)で表されるアミン、またはアミジン類を大過剰に用いる場合、これらのアミン、アミジン類を溶媒として使用することができ、また、一般式(2)で表されるアミン、またはアミジン類と、一般式(3)で表されるカルボン酸との塩を過剰に用いることにより、これらの塩は低融点であるため、溶媒として使用することも可能である。また、反応物質を溶解するが、不活性な溶媒、例えばジメトキシエタン、ジメチルジグリコール、ジメチルトリグリコールなどを用いることができる。
【0020】
本発明の合成法で得られたテトラアシルボレートは、電気・電子材料用のエポキシ樹脂などの硬化促進剤等として、用いることができる。
【0021】
【実施例】
以下に、実施例を挙げて、さらに本発明について説明するが、本発明は実施例になんら制限されるものではない。
【0022】
[トリアシルボレートの合成]
(合成例1)
100mlの4口フラスコに温度計、滴下ロート、還流冷却管、磁気撹拌子を取り付け、1−ナフトエ酸12.91g(75mmol)を加え、窒素置換した。次にトリエチルアミン7.59g(75mmol)を加え、内温を40〜50℃に加熱しながら撹拌した。生成する1−ナフトエ酸トリエチルアミン塩は液体であった。次にフラスコを25℃に水冷しながら、三臭化ホウ素(濃度1モル/リットル)のヘプタン溶液25ml(25mmol)を滴下した。生成物は黄色透明な液体であった。ヘプタンは、上層に分離した。ヘプタン層除去後、生成物をアセトン抽出、エバポレーション、真空乾燥することにより、化学式(5)のトリナフトエートボレートを得た。
【0023】
【化9】
【0024】
(合成例2)
Angew.Chem./85.Jahrg.1973/Nr.3 142ページに基づき、トリ(トリフルオロアセテート)ボレートを合成した。100mlの4口フラスコに温度計、滴下ロート、還流冷却管、磁気撹拌子を取り付け、窒素置換した。次にトリフルオロ酢酸8.55g(75mmol)、塩化メチレン30gを加え、内温を0℃に氷冷、これに三臭化ホウ素6.26g(25mmol)を滴下した。滴下終了後に20℃に昇温し、塩化メチレン及び生成する臭化水素を真空吸引除去することにより、化学式(6)のトリ(トリフルオロアセテート)ボレートが得られた。
【0025】
【化10】
【0026】
[テトラアシルボレートの合成]
(実施例1)
合成例1のトリナフトエートボレート(化学式(5))13.11g(25mmol)に液体の1−ナフトエ酸トリエチルアミン塩6.85g(25mmol)を加え、フラスコを100℃1時間加熱した。これにより化学式(11)のトリエチルアミンテトラナフトエートボレート塩が得られた。これをアセトンに溶解させ、ヘキサン添加による貧溶媒化で再結晶をおこなった。収量19.52g(収率93%)
【0027】
【化11】
【0028】
ここで得られたトリエチルアミンテトラナフトエートボレート塩をH1−NMRにより分析したところ、NMRケミカルシフトは以下のようになった。(重溶媒はジメチルスルフォキサイド(DMSO)を使用)
1.0〜1.5 9H(トリエチルアミン由来)、3.0〜3.2 6H(トリエチルアミン由来)、7.5〜7.7 12H(テトラナフトエートボレート由来)、7.9〜8.0 4H(テトラナフトエートボレート由来)、8.0〜8.1 4H(テトラナフトエートボレート由来)、8.2〜8.3 4H(テトラナフトエートボレート由来)、9.1〜9.2 4H(テトラナフトエートボレート由来)
(単位はppm)
【0029】
(実施例3〜8)
トリアシルボレートは、合成例1あるいは合成例2の方法に従って合成し、表1に示したトリアシルボレート及び有機酸塩を用いて、実施例1と同様の操作により、テトラアシルボレートを合成した。
【0030】
【表1】
【0031】
【化13】
【0032】
【化14】
【化15】
【0033】
【化16】
【0034】
【化17】
【0035】
【化18】
【0036】
【化19】
【0037】
【化20】
【0038】
【化21】
【0039】
【化22】
【0040】
(比較例1)
無水酢酸39gと酢酸カリウム塩8.88gとトリアセテートボレート17.07gを160℃、無水酢酸を1時間還流を行い、室温で冷却することにより、化学式(19)のカリウムテトラアセテートボレート塩の結晶を得た。収量は18.5g(収率75%)(参考文献 Zhurnal Neorganicheskoi Khimii (1968), 13(8),2050ソ連)
【0041】
【化23】
【0042】
(比較例2)
無水1−ナフトエ酸32.6g(100mmol)と1−ナフトエ酸カリウム塩5.26g(25mmol)と合成したトリ(ナフトエート)ボレート13.1g(25mmol)を、上記文献に基づいて加熱したが160℃では溶融せず、また溶媒であるジメチルジグリコールに溶解させた反応も試みたが溶解せず、反応させることはできなかった。
【0043】
【発明の効果】
本発明の製造方法は、従来の方法に比べて汎用性が高く、低温反応可能で人体に有害な物質を生じることもなく、アルカリ金属フリーかつ反応操作も簡便で高収率で目的物を得ることができる。
Claims (3)
- 一般式(1)で表されるトリアシルボレート(A)と、一般式(2)で表されるアミンと一般式(3)で表されるカルボン酸との塩(B)とを反応させることを特徴とする、一般式(4)で表されるテトラアシルボレートの合成法。
- 一般式(2)の置換基R4、R5、R6が、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基からなる群より選ばれる基である、請求項1記載のテトラアシルボレートの合成法。
- 一般式(1)で表されるトリアシルボレート(A)と、アミジン類と一般式(3)で表されるカルボン酸との塩(B)とを反応させることを特徴とする、一般式(31)で表されるテトラアシルボレートの合成法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP37177299A JP4576653B2 (ja) | 1999-12-27 | 1999-12-27 | テトラアシルボレートおよび置換オニウムテトラアシルボレートの合成法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP37177299A JP4576653B2 (ja) | 1999-12-27 | 1999-12-27 | テトラアシルボレートおよび置換オニウムテトラアシルボレートの合成法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001181282A JP2001181282A (ja) | 2001-07-03 |
JP4576653B2 true JP4576653B2 (ja) | 2010-11-10 |
Family
ID=18499281
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP37177299A Expired - Fee Related JP4576653B2 (ja) | 1999-12-27 | 1999-12-27 | テトラアシルボレートおよび置換オニウムテトラアシルボレートの合成法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4576653B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020023145A (ko) | 2000-09-21 | 2002-03-28 | 가나이 쓰도무 | 유기 보레이트 리튬 화합물 및 이를 이용한 비수전해액 |
JP5361030B2 (ja) * | 2006-09-28 | 2013-12-04 | 株式会社Adeka | オニウム塩化合物、光酸発生剤、カチオン重合開始剤、レジスト組成物およびカチオン重合性組成物 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08196911A (ja) * | 1995-01-30 | 1996-08-06 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | リン系潜伏性触媒の合成法 |
JPH11171981A (ja) * | 1997-12-10 | 1999-06-29 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 樹脂組成物 |
-
1999
- 1999-12-27 JP JP37177299A patent/JP4576653B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08196911A (ja) * | 1995-01-30 | 1996-08-06 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | リン系潜伏性触媒の合成法 |
JPH11171981A (ja) * | 1997-12-10 | 1999-06-29 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 樹脂組成物 |
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---|---|
JP2001181282A (ja) | 2001-07-03 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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