JP4803653B2 - 可視光応答型3次元微細セル構造光触媒フィルター及びその製造方法並びに浄化装置 - Google Patents
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Description
(a)炭素、並びに、シリコン及び/またはシリコン合金、
(b)シリコン、シリコン合金、炭素、からなる群より選ばれる少なくとも一種、並びに、炭化ケイ素、
(c)シリコン、シリコン合金、炭素、炭化ケイ素、からなる群より選ばれる少なくとも一種、並びに、窒化ケイ素、
(d)炭素、
(e)チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、白金、金、からなる群より選ばれる何れか一種の金属、並びに、炭素、
からなる群より選ばれる何れか一種を含むスポンジ状多孔質構造(B)からなる。
窒化ケイ素と、シリコン、シリコン合金、炭素、炭化ケイ素、からなる群より選ばれる少なくとも一種とを含むと共に気孔率85容量%以上のスポンジ状多孔質構造体(A)を、酸化チタンを含有または生成する溶液に浸漬し、乾燥した後に酸化雰囲気下で、100℃〜800℃で焼成することにより構成されている。
(a)炭素、並びに、シリコン及び/またはシリコン合金、
(b)シリコン、シリコン合金、炭素、からなる群より選ばれる少なくとも一種、並びに、炭化ケイ素、
(c)シリコン、シリコン合金、炭素、炭化ケイ素、からなる群より選ばれる少なくとも一種、並びに、窒化ケイ素、
(d)炭素、
(e)チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、白金、金、からなる群より選ばれる何れか一種の金属、並びに、炭素、
からなる群より選ばれる何れか一種を含むスポンジ状多孔質構造(B)からなる可視光応答型3次元微細セル構造光触媒フィルターが挙げられる。
先ず、約10mm×50mm×50mmの板状の形態を有し、スポンジ状骨格の架橋太さが約0.2mm、セル数が約13個/25mmのポリウレタン製のスポンジ状原型構造体を、炭素源としてのフェノール樹脂及びシリコン粉末をSi/C=0.8のモル比の組成でエタノールと混合したスラリーに浸した。次いで、過剰のスラリーを除去した上記スポンジ状原型構造体を、アルゴン雰囲気下、1000℃で1時間焼成して炭素化した。続いて、この炭素化したスポンジ状原型構造体を真空中、1450℃に昇温して反応焼結させ、得られた焼結体にシリコンを、炭素化後の重量の約1.4倍の割合で溶融含浸させることによりスポンジ状多孔質構造体を形成した。
先ず、約10mm×50mm×50mmの板状の形態を有し、スポンジ状骨格の架橋太さが約0.1mm、セル数が約18個/25mmのポリウレタン製のスポンジ状原型構造体を、炭素源としてのフェノール樹脂及びシリコン粉末をSi/C=0.8のモル比の組成でエタノールと混合したスラリーに浸した。次いで、過剰のスラリーを除去した上記スポンジ状原型構造体を、アルゴン雰囲気下、1000℃で1時間焼成して炭素化した。続いて、この炭素化したスポンジ状原型構造体を真空中、1450℃に昇温して反応焼結させ、得られた焼結体にシリコンを、炭素化後の重量の約1.4倍の割合で溶融含浸させることによりスポンジ状多孔質構造体を形成した。すなわち、前記実施例1において、スポンジ状骨格の架橋太さ並びにセル数が異なるスポンジ状原型構造体を用いた以外は、実施例1と同様の反応・操作を行って本実施例2のスポンジ状多孔質構造体を形成した。
実施例2と同じスポンジ状多孔質構造体を、酸化チタンを含む溶液に浸漬し、乾燥した試料を酸化雰囲気において昇温速度10℃/分で600℃まで昇温して1時間保持した後、室温まで冷却した以外は、実施例2と同様の反応・操作を行って本発明にかかる酸化チタン被覆スポンジ状多孔質構造体を得た。
本実施例4では、実施例2と同じ条件で酸化チタンを被覆した酸化チタン被覆スポンジ状多孔質構造体を、浄化装置で動作させるために加工し、浄化装置内に収容して測定した。先ず、スポンジ状多孔質構造体の形状を内径約31mm、外径約41mm、高さ約30mmのリング状のフィルターユニットに加工し、これを積層して高さ約350mmのリング状のフィルターユニット積層体を得た。このリング状のフィルターユニット積層体を、本発明にかかる光触媒フィルター(リング状可視光応答型3次元微細セル構造光触媒フィルター5)として、両端に流体導入口4aと流体出口4bとが設けられた内径45mmのアクリル製外套管からなる容器4と、内部に光源6が配設され、透光構造に形成された外径30mmの内管7(石英管)とからなる長さ約450mmの二重管から構成された、図5に示す浄化装置内に収容した。
実施例2において、フェノール樹脂及びシリコン粉末をエタノールと混合してなるスラリーに代えて、シリコン粉末を使用せず、炭素源としてのフェノール樹脂をエタノールに溶解した液を使用し、該液に、実施例2と同じポリウレタン製のスポンジ状原型構造体を浸し、過剰の液体を除去した後、アルゴン雰囲気下、1000℃で1時間焼成して炭素化させることにより、スポンジ状多孔質構造体を得た。次いで、このスポンジ状多孔質構造体を、酸化チタンを含有または生成する溶液に浸漬し、乾燥した後、酸化雰囲気下で、100℃〜500℃で焼成することにより酸化チタンを固定化した以外は、実施例2と同様の反応・操作を行って本発明にかかる酸化チタン被覆スポンジ状多孔質構造体を得た。
実施例2において、フェノール樹脂及びシリコン粉末をエタノールと混合してなるスラリーを使用し、該スラリーに、実施例2と同じポリウレタン製のスポンジ状原型構造体を浸し、過剰のスラリーを除去した後、アルゴン雰囲気下、1000℃で1時間焼成して炭素化させることにより、1450℃での反応焼結及びシリコンの溶融含浸を行わずに得られたスポンジ状多孔質構造体を用いて酸化チタンを固定化した以外は、実施例2と同様の反応・操作を行って本発明にかかる酸化チタン被覆スポンジ状多孔質構造体を得た。
先ず、約10mm×50mm×50mmの板状の形態を有し、スポンジ状骨格の架橋太さの平均が約0.2mm、セル数が約18個/25mmのポリウレタン製のスポンジ状原型構造体を、炭素源としてのフェノール樹脂及び水素化チタン粉末をTi/C=0.6のモル比の組成でエタノールと混合したスラリーに浸した。次いで、過剰のスラリーを除去した上記スポンジ状原型構造体を、アルゴン雰囲気下、1000℃で1時間焼成して炭素化した。続いて、実施例1と同様の反応・操作を行って、上記の炭素化したスポンジ状原型構造体に、酸化雰囲気中、400℃で酸化チタンを固定化した。
ブリジストン株式会社製の嵩密度0・55g/cm3、気孔率83%、約10mm×50mm×50mmの板状の炭化ケイ素セラミックフォーム#06(セル数約6個/25mm)を用いて酸化チタン被覆を行って比較用の酸化チタン被覆スポンジ状多孔質構造体を得た。表1に示すように、本比較例1で得られた比較用の酸化チタン被覆スポンジ状多孔質構造体に365nmの紫外線を照射したときの光透過率は5.06%であり、0.1361gの酸化チタンが付着した。実施例1と比較した場合、本比較例1で得られた比較用の酸化チタン被覆スポンジ状多孔質構造体の光透過率は、実施例1で得られた本発明にかかる酸化チタン被覆スポンジ状多孔質構造体の光透過率とほぼ同じであり、酸化チタンの付着量は実施例1よりも多かった。
ブリジストン株式会社製の嵩密度0・57g/cm3、気孔率82%、約10mm×50mm×50mmの板状の炭化ケイ素セラミックフォーム#13(セル数約13個/25mm)を用いて酸化チタン被覆を行って比較用の酸化チタン被覆スポンジ状多孔質構造体を得た。表1に示すように、本比較例2で得られた比較用の酸化チタン被覆スポンジ状多孔質構造体に365nmの紫外線を照射したときの光透過率は0.17%であり、0.2293gの酸化チタンが付着した。同じセル数の実施例1と比較し、光透過率は低いが、酸化チタンの付着量は多かった。
実施例1において、酸化チタンの皮膜が形成されていないスポンジ状多孔質構造体を、実施例1〜3と同様に、最初に5ppmのNOxガスを含む空気を500ml/分で流して、上記比較用のスポンジ状多孔質構造体通過後のNOxガス濃度を測定したところ、表2に示すように、波長254nmの紫外線では、通過回数が2回で4.83ppm、5回で4.66ppmになり、酸化チタンが無くてもNOxガスを分解することができたが、効果は非常に小さかった。また、波長365nmの紫外線では、通過回数が2回で4.93ppmとなり5回目もほとんど変わらず、NOxガス濃度は低減しなかった。
比較例4は、実施例2の酸化チタンの皮膜を形成されていないスポンジ状多孔質構造体を、実施例1〜3と同様に、最初に5ppmのNOxガスを含む空気を500ml/分で流して、上記比較用のスポンジ状多孔質構造体通過後のNOxガス濃度を測定したところ、表2に示すように、波長254nmの紫外線では、通過回数が2回で4.85ppm、5回で4.65ppmになり、酸化チタンが無くてもNOxガスを分解することができたが、効果は非常に小さかった。また、波長365nmの紫外線では、通過回数が2回で4.95ppmとなり、5回目もほとんど変わらず、NOxガス濃度は低減しなかった。
Claims (14)
- 気孔率が85容量%以上のスポンジ状多孔質構造体(A)表面に、アナタース型の酸化チタン皮膜が形成されてなり、且つ、前記スポンジ状多孔質構造体(A)が、
(1)アモルファス炭素、並びに、シリコン、
(2)シリコン、並びに、炭化ケイ素、
(3)アモルファス炭素、
(4)チタン、並びに、炭素、
からなる群より選ばれる何れか一種からなるスポンジ状多孔質構造(B)からなることを特徴とする可視光応答型3次元微細セル構造光触媒フィルター。 - 前記スポンジ状多孔質構造体(A)が、アモルファス炭素とシリコンとからなるとともに、
前記スポンジ状多孔質構造(B)を構成するスポンジ状骨格の架橋太さの平均が1mm以下であり、且つ、シリコンとアモルファス炭素との組成のモル比(Si/C)が0.1〜2の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の可視光応答型3次元微細セル構造光触媒フィルター。 - 前記スポンジ状多孔質構造体(A)が、アモルファス炭素とシリコンとからなるとともに、
前記スポンジ状多孔質構造(B)が遊離シリコンを含んでいることを特徴とする請求項1に記載の可視光応答型3次元微細セル構造光触媒フィルター。 - 表面にアナタース型の酸化チタン皮膜が形成されたスポンジ状多孔質構造(B)を備えた可視光応答型3次元微細セル構造光触媒フィルターであって、
前記スポンジ状多孔質構造(B)が、
アモルファス炭素とシリコンとからなると共に気孔率85容量%以上のスポンジ状多孔質構造体(A)を、酸化チタンを含有または生成する溶液に浸漬し、乾燥した後に酸化雰囲気下で、100℃〜800℃で焼成することにより構成されていることを特徴とする可視光応答型3次元微細セル構造光触媒フィルター。 - 前記スポンジ状多孔質構造(B)を構成するスポンジ状骨格の架橋太さの平均が1mm以下であり、且つ、シリコンとアモルファス炭素との組成のモル比(Si/C)が0.1〜2の範囲内であることを特徴とする請求項4に記載の可視光応答型3次元微細セル構造光触媒フィルター。
- 前記スポンジ状多孔質構造(B)が遊離シリコンを含んでいることを特徴とする請求項4に記載の可視光応答型3次元微細セル構造光触媒フィルター。
- 請求項1〜6の何れか1項に記載の可視光応答型3次元微細セル構造光触媒フィルターを備えていることを特徴とする浄化装置。
- 両端に流体導入口と流体出口が設けられるとともに外部には可視光及び/または紫外線を透過できる透光域が設けられた容器と、前記容器の内部に収容された光触媒フィルターとを備え、前記透光域から受光した可視光及び/または紫外線により光触媒フィルターが前記流体導入口から流入した流体を浄化して前記流体出口から排出する可視光応答型の浄化装置であり、
前記光触媒フィルターが、前記可視光応答型3次元微細セル構造光触媒フィルターを平板状に形成したフィルターユニットで構成されていることを特徴とする請求項7に記載の浄化装置。 - 流体導入口と流体出口とが両端に設けられた容器と、前記容器の内部に収容され内部に円筒状空隙が設けられたリング状光触媒フィルターと、前記リング状光触媒フィルターの円筒状空隙内に設けられ可視光及び/または紫外線を照射できる光源とを備え、前記光源から照射された可視光及び/または紫外線により光触媒フィルターが前記流体導入口から流入した流体を浄化して前記流体出口から排出する可視光応答型の浄化装置であり、
前記光触媒フィルターが、前記可視光応答型3次元微細セル構造光触媒フィルターをリング状に形成したフィルターユニットで構成されていることを特徴とする請求項7に記載の浄化装置。 - アモルファス炭素とシリコンとを含むと共に気孔率85容量%以上のスポンジ状多孔質構造体(A)を、酸化チタンを含有または生成する溶液に浸漬し、乾燥した後、酸化雰囲気下において100℃〜800℃で焼成することを特徴とする可視光応答型3次元微細セル構造光触媒フィルターの製造方法。
- 前記スポンジ状多孔質構造体(A)が、アモルファス炭素とシリコンとからなることを特徴とする請求項10に記載の可視光応答型3次元微細セル構造光触媒フィルターの製造方法。
- スポンジ状骨格を有すると共に炭素化時に熱分解する原型構造体(C)に、炭素源となる樹脂と、シリコン粉末とを含んだスラリーを含浸させた後、この原型構造体(C)を、不活性雰囲気下において800℃〜1300℃で炭素化させて前記スポンジ状多孔質構造体(A)を形成することを特徴とする請求項10または11に記載の可視光応答型3次元微細セル構造光触媒フィルターの製造方法。
- 前記スポンジ状多孔質構造体(A)が、スポンジ状骨格を有する高分子化合物、あるいは天然素材の繊維、糸または紙類からなる原型構造体(C)に、炭素源となる樹脂と、シリコン粉末とを含んだスラリーを含浸させた後、この原型構造体(C)を、不活性雰囲気下において800℃〜1300℃で炭素化させることにより形成されるスポンジ状骨格から構成されていることを特徴とする請求項10または11に記載の可視光応答型3次元微細セル構造光触媒フィルターの製造方法。
- 前記原型構造体(C)のスポンジ状骨格における架橋太さの平均を1mm以下とし、シリコンとアモルファス炭素との組成のモル比(Si/C)を0.1〜2の範囲内にする量のシリコン粉末を用いて、前記原型構造体(C)の形状を保ったスポンジ状多孔質構造体(A)を形成することを特徴とする請求項12または13に記載の可視光応答型3次元微細セル構造光触媒フィルターの製造方法。
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