JP4786621B2 - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Description
R. Kosugi et al. Materials Science Forum Vols. 457-460 (2004), pp. 1397-1400.
前記第1及び第2のコンタクト領域上に形成された第1の主電極と、前記炭化珪素基板の前記第2の主面に形成された第2の主電極とを具備し、前記第3の炭化珪素領域は、深さ方向に不純物濃度が段階的に減少するような濃度勾配となっていることを特徴とする。
図1は、本発明の第1の実施形態に係わる縦型SiCMOSFETの断面図である。図1において、不純物濃度5×1018〜1×1019/cm3程度のn型不純物を含む六方晶SiC基板(n+基板)1上にn型不純物濃度5×1015〜2×1016/cm3程度を含み、厚さが5〜10μm程度である第1の炭化珪素層(n- 型ドリフト層)2が形成されている。n- 型ドリフト層2の表面にはp型不純物濃度が1×1017〜5×1017/cm3程度の第2の炭化珪素層(p型ベース領域)3が、エピタキシャル成長で厚さ0.6μmに形成されている。
第1の実施形態の図3において、第2の炭化珪素層3をエピタキシャル成長によって形成したが、これをイオン注入によって形成してもよい。その場合は、第1の炭化珪素層2の上面より、加速エネルギー350keV、総ドーズ1×1014cm2の条件で、例えばAlをイオン注入する。
第1の実施形態の図5において第2の炭化珪素領域9をイオン注入で形成する際に、イオン注入の濃度を制御して、濃度を下に行くほど低くなるように形成する。この際のイオン注入の最高エネルギーはエピタキシャル層3を貫通するエネルギーとし、例えば、最高エネルギー400keVの多段イオン注入によって、上側の不純物濃度を濃度2×1016/cm3、下側の不純物濃度を5×1015/cm3となるよう、深さ方向に不純物濃度を段階的に減少するように形成する。このようにイオン注入を行なうことにより、第2の炭化珪素領域9の下側コーナー部分の内側に空乏層が広がりやすくなり、コーナー部分での電界強度を低減させることができ、素子耐圧を向上させることができる。
第1の実施形態の炭化珪素基板1をp+ 型にすれば、IGBTを形成することができる(図7)。この場合、5がエミッタ領域、12がエミッタ電極、13がコレクタ電極となる。別の製造方法としては、図8に示すように、n- 型炭化珪素基板1の裏面からn型不純物、p型不純物を順次イオン注入して、p型コレクタ層15を形成するようにしてもよい。
図9は第3の実施形態に係わるSiCMOSFETの断面図である。第1の実施形態と同一箇所には同一番号を付して、重複する説明を省略する。第1の実施形態との相異は、p- 型ベース領域がp- 型ウェル14として形成され、第1の炭化珪素領域4が、p- 型ウェル14に隣接する第1の炭化珪素層2の凸部上面をも覆うように形成されていることである。
2…第1の炭化珪素層(ドリフト層)
3…第2の炭化珪素層、ベース領域
4…第1の炭化珪素領域
5…第2の炭化珪素領域(ソース領域)
7…ソースコンタクト
8…p+ コンタクト
9…第3の炭化珪素領域
101…ゲート絶縁膜
102…シリコン酸化膜
11…ゲート電極
12…第1の主電極(ソース電極、エミッタ電極)
13…第2の主電極(ドレイン電極、コレクタ電極)
14…ベース領域(ウェル)
15…p+ 型層(コレクタ層)
Claims (6)
- 第1と第2の主面を有する炭化珪素基板と、
前記炭化珪素基板の前記第1の主面に設けられた第1導電型の第1の炭化珪素層と、
前記第1の炭化珪素層上に形成された第2導電型の第2の炭化珪素層と、
前記第2の炭化珪素層の内部表面に所定の間隔で対向して設けられ、同一濃度、同一深さを有する第1導電型の第1および第2の炭化珪素領域と、
前記第1の炭化珪素領域及び前記第2の炭化珪素層を貫通し、前記第1の炭化珪素層に達する第3の炭化珪素領域と、
前記第1と第2の炭化珪素領域の上と、前記第1と第2の炭化珪素領域に挟まれた前記第2の炭化珪素層の上に連続的に形成されたゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成されたゲート電極と、
前記第2の炭化珪素領域の表面に形成された第1導電型の第1のコンタクト領域と、
前記第2の炭化珪素領域の表面に形成され、前記第2の炭化珪素領域を貫通して前記第2の炭化珪素層に達するように形成された第2導電型の第2のコンタクト領域と、
前記第1及び第2のコンタクト領域上に形成された第1の主電極と、
前記炭化珪素基板の前記第2の主面に形成された第2の主電極と、
を具備し、前記第3の炭化珪素領域は、深さ方向に不純物濃度が段階的に減少するような濃度勾配となっていることを特徴とする半導体装置。 - 前記炭化珪素基板が第1導電型でMOSFETを構成することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記炭化珪素基板が第2導電型でIGBTを構成することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 炭化珪素基板の第1の主面に第1導電型の第1の炭化珪素層を形成する工程と、
前記第1の炭化珪素層の上に第2導電型の第2の炭化珪素層を形成する工程と、
前記第2の炭化珪素層の上面にイオン注入マスクを形成する工程と、
前記イオン注入マスクを用いて、第1導電型不純物を前記第2の炭化珪素層にイオン注入し、第1及び第2の炭化珪素領域を形成する工程と、
前記第1の炭化珪素領域を貫通して前記第1の炭化珪素層に接続し、上面から下面に向けて低濃度となるように、イオン注入の濃度を制御して第1導電型の第3の炭化珪素領域を形成する工程と、
前記第2の炭化珪素領域の表面に、第1導電型の第1のコンタクト領域を形成する工程と、
前記第2の炭化珪素領域の表面に、前記第2の炭化珪素領域を貫通して前記第2の炭化珪素層に接続する第2導電型の第2のコンタクト領域を形成する工程と、
前記第1及び第2の炭化珪素領域の上と、前記第1及び第2の炭化珪素領域に挟まれた前記第2の炭化珪素層の上に、連続的にゲート絶縁膜を形成する工程と、
前記ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成する工程と、
前記第1及び第2のコンタクト領域上に第1の主電極を形成する工程と、
前記炭化珪素基板の前記第2の主面に第2の主電極を形成する工程と、
を具備することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記炭化珪素基板が第1導電型でMOSFETを形成することを特徴とする請求項4に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記炭化珪素基板が第2導電型でIGBTを形成することを特徴とする請求項4に記載の半導体装置の製造方法。
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