JP4763337B2 - 半導体レーザ励起固体レーザ装置 - Google Patents
半導体レーザ励起固体レーザ装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4763337B2 JP4763337B2 JP2005135650A JP2005135650A JP4763337B2 JP 4763337 B2 JP4763337 B2 JP 4763337B2 JP 2005135650 A JP2005135650 A JP 2005135650A JP 2005135650 A JP2005135650 A JP 2005135650A JP 4763337 B2 JP4763337 B2 JP 4763337B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wavelength
- solid
- laser
- semiconductor laser
- etalon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/131—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
- H01S3/1312—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation by controlling the optical pumping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/08018—Mode suppression
- H01S3/08022—Longitudinal modes
- H01S3/08031—Single-mode emission
- H01S3/08036—Single-mode emission using intracavity dispersive, polarising or birefringent elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/0941—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
- H01S3/09415—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode the pumping beam being parallel to the lasing mode of the pumped medium, e.g. end-pumping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/106—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity
- H01S3/108—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity using non-linear optical devices, e.g. exhibiting Brillouin or Raman scattering
- H01S3/109—Frequency multiplication, e.g. harmonic generation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/1601—Solid materials characterised by an active (lasing) ion
- H01S3/1603—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
- H01S3/1611—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth neodymium
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/163—Solid materials characterised by a crystal matrix
- H01S3/164—Solid materials characterised by a crystal matrix garnet
- H01S3/1643—YAG
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
また、半導体レーザから出力されたレーザ光により励起されるNd:YAG結晶を含む光共振器内に収容したエタロンの温度を調節することにより波長946nmのレーザ光だけを選択的に発振させる技術が公知である(例えば、特許文献2参照。)。
そこで、本発明の目的は、波長558nmのレーザ光を安定に出力しうる半導体レーザ励起固体レーザ装置を提供することにある。
すなわち、図3の領域αは、波長1112nmの発振線の位置およびその近傍のゲインを有する波長範囲である。領域βは、波長1116nmの発振線の位置およびその近傍のゲインを有する波長範囲である。領域γは、波長1123nmの発振線の位置およびその近傍のゲインを有する波長範囲である。
一方、図3の放射状の直線は、フリースペクトラルレンジに対するソリッドエタロンの透過ピークの波長を示している。なお、本発明が対象としている波長1116mに透過ピークの一つが合うようにソリッドエタロンを温度チューニングしている。
そして、図3の領域A,B,C,Dは、領域αおよび領域γにソリッドエタロンの透過ピークが存在しないフリースペクトラルレンジ範囲をそれぞれ示している。
ところが、フリースペクトラルレンジ範囲が1.04〜1.07nmの領域Aには、波長1112nmに対応する領域αおよび波長1123nmに対応する領域γにソリッドエタロンの透過ピークが存在しない。
よって、1.1μm帯の発振帯域にある波長1112nm,1116mおよび1123nmの近接した3つの発振線のうちの1112nmおよび1123nmの発振を抑制でき、1116nmのシングルモード発振が得られる。このため、その第2高調波として、バイオ研究の分野で必要とされる波長558nmの安定な出力が得られる。
安定したシングルモード発振を得るには、隣接する共振器縦モード(以下、縦モード)の発振を抑制する必要がある。隣接する縦モードに損失を与えて発振を抑制するには、最低0.3%の損失を与えればよい。ソリッドエタロンの表面にコーティングを施して反射率を上げることで、隣接する縦モードの損失を大きくすることが出来るが、コーティング自身が有する散乱や吸収により共振器内損失を生じ、ゲインの小さい波長1116nmの発振には不利となる。ゲインの小さい波長1116nmを効率よく発振させるためには、ノンコーティングとし、素材表面のフレネル反射を利用してソリッドエタロンを形成することが有利である。そして、ソリッドエタロン材質の屈折率が1.75以上であり、共振器実効長が13mm以下であり、ソリッドエタロンのフリースペクトラルレンジが1.04〜1.07nm,1.42〜1.61nmの範囲のいずれかの値であれば、ソリッドエタロンの両光学面はノンコートでも、隣接する縦モードに0.3%以上の損失を与えることが出来る。すなわち、波長1112nmおよび1123nmの発振を抑制しつつ、波長1116nmのシングルモード発振を促進することが可能になる。
この半導体レーザ励起固体レーザ装置100は、励起レーザ光を出射する半導体レーザ1と、励起レーザ光を集光する集光レンズ系2と、集光された励起レーザ光で励起され基本波レーザ光を誘導放出するNd:YAG固体レーザ媒質3と、偏光を調整するブリュースタ板4と、基本波レーザ光を第2高調波光に変換する波長変換素子5と、縦モードをシングル化するためのソリッドエタロン6と、光共振器8の一端を構成すると共に第2高調波光を透過させるミラー7と、ミラー7を透過した第2高調波光の一部を取り出すビームスプリッタ9と、ビームスプリッタ9で取り出した第2高調波光を受光し電気信号に変換するフォトダイオード10と、フォトダイオード10での電気信号の強度が一定になるように半導体レーザ1の駆動電流を制御する半導体レーザ駆動回路11とを具備している。
図示しないが、波長変換素子5は、ペルチェ素子により一定温度に制御される。
図示しないが、ソリッドエタロン6は、透過ピークの一つが波長1116nmになるように、ペルチェ素子により温度チューニングされる。
領域αは、波長1112nmの発振線の位置およびその近傍のゲインを有する波長範囲である。領域βは、波長1116nmの発振線の位置およびその近傍のゲインを有する波長範囲である。領域γは、波長1123nmの発振線の位置およびその近傍のゲインを有する波長範囲である。
波長1116nmに対応する領域βでは、ソリッドエタロン6の透過率が高くなっている(山に位置している)。このため、波長1116nmの発振が促進される。他方、波長1112nmに対応する領域αおよび波長1123nmに対応する領域γでは、ソリッドエタロン6の透過率が低くなっている(谷に位置している)。このため、波長1112nmおよび1123nmの発振が抑制される。
2 集光レンズ
3 Nd:YAG固体レーザ媒質
4 ブリュースタ板
5 波長変換素子
6 ソリッドエタロン
7 ミラー
8 光共振器
9 ビームスプリッタ
10 フォトダイオード
11 半導体レーザ駆動回路
100 半導体レーザ励起固体レーザ装置
Claims (1)
- 半導体レーザから出力されたレーザ光により励起される固体レーザ媒質を含む光共振器内に非線形光学結晶およびソリッドエタロンを収容して、前記光共振器で発振する基本波の第2高調波を外部に出力し、第2高調波の一部を検出して第2高調波出力が一定になるように前記半導体レーザの駆動電流を制御するように構成されたレーザ装置において、
前記固体レーザ媒質がNd:YAGであり、
前記ソリッドエタロンの両光学面はノンコートであり、
前記ソリッドエタロン材質の屈折率が1.75以上であり、
前記共振器の実効長が13mm以下であり、
前記第2高調波の波長が557〜559nmであり、
前記ソリッドエタロンのフリースペクトラルレンジが1.04〜1.07nm、1.42〜1.61nmの範囲のいずれかの値であり、
さらに前記ソリッドエタロンを波長1116nmに立つ縦モードの一つに温度チューニングする温度制御手段を具備したことを特徴とする半導体レーザ励起固体レーザ装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005135650A JP4763337B2 (ja) | 2005-05-09 | 2005-05-09 | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
US11/248,648 US7599410B2 (en) | 2005-05-09 | 2005-10-12 | Semiconductor-diode-pumped solid state laser device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005135650A JP4763337B2 (ja) | 2005-05-09 | 2005-05-09 | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006313813A JP2006313813A (ja) | 2006-11-16 |
JP4763337B2 true JP4763337B2 (ja) | 2011-08-31 |
Family
ID=37393993
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005135650A Active JP4763337B2 (ja) | 2005-05-09 | 2005-05-09 | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7599410B2 (ja) |
JP (1) | JP4763337B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100033734A1 (en) * | 2008-08-08 | 2010-02-11 | Darryl Koop | Vehicle frame deformation measurement apparatus and method |
US10437033B2 (en) | 2014-01-18 | 2019-10-08 | Daylight Solutions, Inc. | Modulating spectroscopic imaging system using substantially coherent illumination |
US11803044B2 (en) | 2014-01-18 | 2023-10-31 | Daylight Solutions, Inc. | Low-noise spectroscopic imaging system with steerable substantially coherent illumination |
WO2015109274A1 (en) | 2014-01-18 | 2015-07-23 | Daylight Solutions, Inc. | Low-noise spectroscopic imaging system |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3270641B2 (ja) * | 1993-11-30 | 2002-04-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 固体レーザー |
JPH0652814B2 (ja) * | 1987-07-27 | 1994-07-06 | シャープ株式会社 | 光ファイバ−通信装置 |
JP2824884B2 (ja) * | 1992-10-16 | 1998-11-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 偏光制御素子および固体レーザー装置 |
JP3573475B2 (ja) * | 1993-12-01 | 2004-10-06 | 富士写真フイルム株式会社 | レーザーダイオードポンピング固体レーザー |
US5761227A (en) * | 1994-08-23 | 1998-06-02 | Laser Power Corporation | Efficient frequency-converted laser |
US5530709A (en) * | 1994-09-06 | 1996-06-25 | Sdl, Inc. | Double-clad upconversion fiber laser |
JPH08102564A (ja) * | 1994-09-30 | 1996-04-16 | Shimadzu Corp | 波長変換レーザ装置 |
JP3222340B2 (ja) * | 1994-12-27 | 2001-10-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 単一縦モードレーザー |
KR100363237B1 (ko) * | 1995-05-09 | 2003-02-05 | 삼성전자 주식회사 | 제2고조파 발생 방법 및 장치 |
JP3810109B2 (ja) * | 1995-07-27 | 2006-08-16 | 株式会社ニデック | レ−ザ治療装置 |
JP3330487B2 (ja) * | 1996-03-21 | 2002-09-30 | 富士写真フイルム株式会社 | レーザー装置 |
JPH1065259A (ja) * | 1996-08-23 | 1998-03-06 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 固体レーザ装置 |
JPH1065237A (ja) * | 1996-08-23 | 1998-03-06 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 固体レーザ装置 |
US5998802A (en) * | 1997-01-31 | 1999-12-07 | Agfa-Gevaert | Method for obtaining an electrical representation of a radiation image using CCD sensors |
JP2000133863A (ja) * | 1998-10-28 | 2000-05-12 | Shimadzu Corp | 固体レーザ装置 |
JP3509598B2 (ja) * | 1999-01-12 | 2004-03-22 | 株式会社島津製作所 | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
JP2000349371A (ja) * | 1999-06-08 | 2000-12-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 半導体レーザ励起固体レーザ |
JP2001119088A (ja) * | 1999-10-21 | 2001-04-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 単一縦モード固体レーザー |
JP2001185793A (ja) * | 1999-12-24 | 2001-07-06 | Komatsu Ltd | レーザ装置 |
JP3767318B2 (ja) * | 2000-04-26 | 2006-04-19 | 株式会社島津製作所 | Ld励起固体レーザ装置 |
JP2003158318A (ja) * | 2001-11-22 | 2003-05-30 | Shimadzu Corp | 固体レーザ装置 |
JP4304904B2 (ja) * | 2002-02-07 | 2009-07-29 | 株式会社島津製作所 | エタロンの製造方法 |
JP2004128087A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | Nidek Co Ltd | レーザ装置 |
US7283576B2 (en) * | 2003-06-24 | 2007-10-16 | Krupke William F | Optically-pumped DUV atomic vapor lasers |
-
2005
- 2005-05-09 JP JP2005135650A patent/JP4763337B2/ja active Active
- 2005-10-12 US US11/248,648 patent/US7599410B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006313813A (ja) | 2006-11-16 |
US7599410B2 (en) | 2009-10-06 |
US20060251133A1 (en) | 2006-11-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4271704B2 (ja) | コヒーレント光源および光学装置 | |
JP2010232650A (ja) | レーザ光源装置、レーザ加工装置、レーザ光源装置の制御装置、およびレーザ光源装置の制御方法 | |
JP4763337B2 (ja) | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 | |
JP2007079227A (ja) | 波長変換素子および波長可変光源 | |
JP3509598B2 (ja) | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 | |
JP5009796B2 (ja) | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 | |
JP3176682B2 (ja) | 波長可変レーザー装置 | |
JP5087919B2 (ja) | 半導体レーザ励起固体レーザを用いたレーザポインタ | |
JP2000315833A (ja) | 単一縦モード固体レーザー | |
JP3968868B2 (ja) | 固体レーザ装置 | |
JP2007242974A (ja) | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 | |
JPH05183220A (ja) | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 | |
JP2003174222A (ja) | レーザ装置 | |
JP3121920U (ja) | レーザポインタ | |
JP2004157217A (ja) | 波長変換レーザ光源 | |
JP6273716B2 (ja) | 固体レーザ装置 | |
JPH10303491A (ja) | Ld励起波長変換固体レーザ装置 | |
JPH04291976A (ja) | Shg素子 | |
JP2019016639A (ja) | 固体レーザ装置 | |
JP5384059B2 (ja) | ファイバーレーザー共振器およびファイバーレーザー共振器を用いたレーザー発振方法 | |
JP5125570B2 (ja) | 固体レーザ装置 | |
JP2011223024A (ja) | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 | |
JP2000349371A (ja) | 半導体レーザ励起固体レーザ | |
JPH04335587A (ja) | レーザーダイオードポンピング固体レーザー | |
US7088760B1 (en) | Solid-state laser apparatus including in resonator light-transmitting element having relatively small reflectance at desired wavelength |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070706 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090826 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090901 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091028 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100302 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100602 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20100607 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20100903 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110609 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140617 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4763337 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140617 Year of fee payment: 3 |