JP2000349371A - 半導体レーザ励起固体レーザ - Google Patents
半導体レーザ励起固体レーザInfo
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Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 共振器内部に配された光波長変換素子により
発振ビームを波長変換する半導体レーザ励起固体レーザ
において、励起用半導体レーザの発振波長を固体レーザ
媒質の吸収波長に一致させ、かつ、最大の波長変換効率
を得る。 【解決手段】 固体レーザ媒質13と、この固体レーザ媒
質13を励起する励起光10を発する半導体レーザ11と、内
部に光波長変換素子16を含む共振器と、半導体レーザ11
を保持した第1の金属ブロック20と、固体レーザ媒質13
および共振器を保持した第2の金属ブロック21と、これ
ら2つの金属ブロック20、21を固定した支持体30と、こ
の支持体30を介して第2の金属ブロック21の温度を所定
値に制御する温度制御素子31とを備えてなる半導体レー
ザ励起固体レーザにおいて、第1の金属ブロック20に発
熱素子または吸熱素子41を接続し、この第1の金属ブロ
ック20を、それよりも熱伝導率の低い部材40を介して支
持体30に固定する。
発振ビームを波長変換する半導体レーザ励起固体レーザ
において、励起用半導体レーザの発振波長を固体レーザ
媒質の吸収波長に一致させ、かつ、最大の波長変換効率
を得る。 【解決手段】 固体レーザ媒質13と、この固体レーザ媒
質13を励起する励起光10を発する半導体レーザ11と、内
部に光波長変換素子16を含む共振器と、半導体レーザ11
を保持した第1の金属ブロック20と、固体レーザ媒質13
および共振器を保持した第2の金属ブロック21と、これ
ら2つの金属ブロック20、21を固定した支持体30と、こ
の支持体30を介して第2の金属ブロック21の温度を所定
値に制御する温度制御素子31とを備えてなる半導体レー
ザ励起固体レーザにおいて、第1の金属ブロック20に発
熱素子または吸熱素子41を接続し、この第1の金属ブロ
ック20を、それよりも熱伝導率の低い部材40を介して支
持体30に固定する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は光波長変換素子を備
えた半導体レーザ励起固体レーザに関し、特に詳細に
は、励起用半導体レーザの発振波長を固体レーザ媒質の
吸収ピーク波長に一致させるとともに、光波長変換素子
の波長変換効率を最大にするように温度調節可能とした
半導体レーザ励起固体レーザに関するものである。
えた半導体レーザ励起固体レーザに関し、特に詳細に
は、励起用半導体レーザの発振波長を固体レーザ媒質の
吸収ピーク波長に一致させるとともに、光波長変換素子
の波長変換効率を最大にするように温度調節可能とした
半導体レーザ励起固体レーザに関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えば特開昭62-189783 号に示されるよ
うに、ネオジウム(Nd)が添加された固体レーザ媒質
を半導体レーザから発せられた光によって励起する半導
体レーザ励起固体レーザが公知となっている。この種の
半導体レーザ励起固体レーザは基本的に、固体レーザ媒
質と、この固体レーザ媒質を励起する半導体レーザと、
共振器とから構成されるものである。
うに、ネオジウム(Nd)が添加された固体レーザ媒質
を半導体レーザから発せられた光によって励起する半導
体レーザ励起固体レーザが公知となっている。この種の
半導体レーザ励起固体レーザは基本的に、固体レーザ媒
質と、この固体レーザ媒質を励起する半導体レーザと、
共振器とから構成されるものである。
【0003】この半導体レーザ励起固体レーザにおいて
は、より短波長のレーザビームを得るために、共振器中
を往復するレーザビームの光路に非線形光学結晶からな
る光波長変換素子を配して、該レーザビームを第2高調
波等に波長変換することも広く行なわれている。
は、より短波長のレーザビームを得るために、共振器中
を往復するレーザビームの光路に非線形光学結晶からな
る光波長変換素子を配して、該レーザビームを第2高調
波等に波長変換することも広く行なわれている。
【0004】この半導体レーザ励起固体レーザにおいて
は、一般に、励起用半導体レーザの発振波長を固体レー
ザ媒質の吸収波長と合わせるために、半導体レーザを所
定温度に制御している。特に、吸収波長幅の狭い固体レ
ーザ媒質、例えばNd:YAG結晶(Ndがドープされ
たYAG結晶)等を用いる場合は、半導体レーザの温度
をその固体レーザ媒質の吸収ピーク波長に正確に一致さ
せる必要がある。
は、一般に、励起用半導体レーザの発振波長を固体レー
ザ媒質の吸収波長と合わせるために、半導体レーザを所
定温度に制御している。特に、吸収波長幅の狭い固体レ
ーザ媒質、例えばNd:YAG結晶(Ndがドープされ
たYAG結晶)等を用いる場合は、半導体レーザの温度
をその固体レーザ媒質の吸収ピーク波長に正確に一致さ
せる必要がある。
【0005】他方、前述のように共振器内に配した光波
長変換素子により固体レーザビームを第2高調波等に波
長変換する場合には、最大の波長変換効率を得るために
該光波長変換素子を、つまりは共振器部分を所定温度に
制御する必要がある。
長変換素子により固体レーザビームを第2高調波等に波
長変換する場合には、最大の波長変換効率を得るために
該光波長変換素子を、つまりは共振器部分を所定温度に
制御する必要がある。
【0006】このように半導体レーザと共振器部分とを
温度調節するために従来は、ペルチェ素子等の温度制御
素子の上にそれら両者を配置して温度調節する構成が採
用されていた。なお一般には、半導体レーザと共振器部
分とがそれぞれ熱伝導性の良い金属ブロックに固定さ
れ、各金属ブロックが温度制御素子上に、あるいはこの
温度制御素子に接合された支持体上に固定される。この
ような構成は、装置の小型化および低コスト化の上で特
に好ましいものである。
温度調節するために従来は、ペルチェ素子等の温度制御
素子の上にそれら両者を配置して温度調節する構成が採
用されていた。なお一般には、半導体レーザと共振器部
分とがそれぞれ熱伝導性の良い金属ブロックに固定さ
れ、各金属ブロックが温度制御素子上に、あるいはこの
温度制御素子に接合された支持体上に固定される。この
ような構成は、装置の小型化および低コスト化の上で特
に好ましいものである。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、半導体レーザ
と共振器部分に求められる最適温度は、必ずしも互いに
等しい訳ではなく、そのような場合は主に下記の2つの
対策が取られていた。
と共振器部分に求められる最適温度は、必ずしも互いに
等しい訳ではなく、そのような場合は主に下記の2つの
対策が取られていた。
【0008】(1)2つの最適温度の差が小さくなるよ
うに、光波長変換素子の位相整合温度を調整する。例え
ば、光波長変換素子が非線形光学材料に周期ドメイン反
転構造を形成してなるものである場合は、ドメイン反転
部の周期が互いに異なる光波長変換素子を用意して、そ
れらの中から、位相整合温度が半導体レーザの最適温度
に合致するものを選択使用するようにしていた。
うに、光波長変換素子の位相整合温度を調整する。例え
ば、光波長変換素子が非線形光学材料に周期ドメイン反
転構造を形成してなるものである場合は、ドメイン反転
部の周期が互いに異なる光波長変換素子を用意して、そ
れらの中から、位相整合温度が半導体レーザの最適温度
に合致するものを選択使用するようにしていた。
【0009】(2)所定の波長の半導体レーザを選別し
て用いる。
て用いる。
【0010】しかし、(1)の方法では選択作業が煩雑
になるという問題が認められ、一方(2)の方法では、
半導体レーザに歩留まりがかかるため装置がコストアッ
プするという問題が認められる。
になるという問題が認められ、一方(2)の方法では、
半導体レーザに歩留まりがかかるため装置がコストアッ
プするという問題が認められる。
【0011】そこで本発明は、励起用半導体レーザの発
振波長を固体レーザ媒質の吸収ピーク波長に一致させる
ことができ、その一方で、最大の波長変換効率を得るこ
ともできる半導体レーザ励起固体レーザを提供すること
を目的とする。
振波長を固体レーザ媒質の吸収ピーク波長に一致させる
ことができ、その一方で、最大の波長変換効率を得るこ
ともできる半導体レーザ励起固体レーザを提供すること
を目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明による第1の半導
体レーザ励起固体レーザは、固体レーザ媒質と、この固
体レーザ媒質を励起する励起光を発する半導体レーザ
と、内部に光波長変換素子を含む共振器と、前記半導体
レーザを保持した第1の金属ブロックと、前記固体レー
ザ媒質および共振器を保持した第2の金属ブロックと、
これら2つの金属ブロックを固定した支持体と、この支
持体を介して前記第2の金属ブロックの温度を所定値に
制御する温度制御素子とを備えてなる半導体レーザ励起
固体レーザにおいて、前記第1の金属ブロックに発熱素
子または吸熱素子が接続され、この第1の金属ブロック
が、それよりも熱伝導率の低い部材を介して前記支持体
に固定されていることを特徴とするものである。
体レーザ励起固体レーザは、固体レーザ媒質と、この固
体レーザ媒質を励起する励起光を発する半導体レーザ
と、内部に光波長変換素子を含む共振器と、前記半導体
レーザを保持した第1の金属ブロックと、前記固体レー
ザ媒質および共振器を保持した第2の金属ブロックと、
これら2つの金属ブロックを固定した支持体と、この支
持体を介して前記第2の金属ブロックの温度を所定値に
制御する温度制御素子とを備えてなる半導体レーザ励起
固体レーザにおいて、前記第1の金属ブロックに発熱素
子または吸熱素子が接続され、この第1の金属ブロック
が、それよりも熱伝導率の低い部材を介して前記支持体
に固定されていることを特徴とするものである。
【0013】また、本発明による第2の半導体レーザ励
起固体レーザは、固体レーザ媒質と、この固体レーザ媒
質を励起する励起光を発する半導体レーザと、内部に光
波長変換素子を含む共振器と、前記半導体レーザを保持
した第1の金属ブロックと、前記固体レーザ媒質および
共振器を保持した第2の金属ブロックと、これら2つの
金属ブロックを固定した支持体と、この支持体を介して
前記第1の金属ブロックの温度を所定値に制御する温度
制御素子とを備えてなる半導体レーザ励起固体レーザに
おいて、前記第2の金属ブロックに発熱素子または吸熱
素子が接続され、この第2の金属ブロックが、それより
も熱伝導率の低い部材を介して前記支持体に固定されて
いることを特徴とするものである。
起固体レーザは、固体レーザ媒質と、この固体レーザ媒
質を励起する励起光を発する半導体レーザと、内部に光
波長変換素子を含む共振器と、前記半導体レーザを保持
した第1の金属ブロックと、前記固体レーザ媒質および
共振器を保持した第2の金属ブロックと、これら2つの
金属ブロックを固定した支持体と、この支持体を介して
前記第1の金属ブロックの温度を所定値に制御する温度
制御素子とを備えてなる半導体レーザ励起固体レーザに
おいて、前記第2の金属ブロックに発熱素子または吸熱
素子が接続され、この第2の金属ブロックが、それより
も熱伝導率の低い部材を介して前記支持体に固定されて
いることを特徴とするものである。
【0014】また、本発明による第3の半導体レーザ励
起固体レーザは、固体レーザ媒質と、この固体レーザ媒
質を励起する励起光を発する半導体レーザと、内部に光
波長変換素子を含む共振器と、前記半導体レーザを保持
した第1の金属ブロックと、前記固体レーザ媒質および
共振器を保持した第2の金属ブロックと、この第2の金
属ブロックの温度を所定値に制御する温度制御素子とを
備えてなる半導体レーザ励起固体レーザにおいて、前記
第1の金属ブロックに発熱素子または吸熱素子が接続さ
れ、この第1の金属ブロックが、それよりも熱伝導率の
低い部材を介して前記第2の金属ブロックに固定されて
いることを特徴とするものである。
起固体レーザは、固体レーザ媒質と、この固体レーザ媒
質を励起する励起光を発する半導体レーザと、内部に光
波長変換素子を含む共振器と、前記半導体レーザを保持
した第1の金属ブロックと、前記固体レーザ媒質および
共振器を保持した第2の金属ブロックと、この第2の金
属ブロックの温度を所定値に制御する温度制御素子とを
備えてなる半導体レーザ励起固体レーザにおいて、前記
第1の金属ブロックに発熱素子または吸熱素子が接続さ
れ、この第1の金属ブロックが、それよりも熱伝導率の
低い部材を介して前記第2の金属ブロックに固定されて
いることを特徴とするものである。
【0015】さらに、本発明による第4の半導体レーザ
励起固体レーザは、固体レーザ媒質と、この固体レーザ
媒質を励起する励起光を発する半導体レーザと、内部に
光波長変換素子を含む共振器と、前記半導体レーザを保
持した第1の金属ブロックと、前記固体レーザ媒質およ
び共振器を保持した第2の金属ブロックと、前記第1の
金属ブロックの温度を所定値に制御する温度制御素子と
を備えてなる半導体レーザ励起固体レーザにおいて、前
記第2の金属ブロックに発熱素子または吸熱素子が接続
され、この第2の金属ブロックが、それよりも熱伝導率
の低い部材を介して前記第1の金属ブロックに固定され
ていることを特徴とするものである。
励起固体レーザは、固体レーザ媒質と、この固体レーザ
媒質を励起する励起光を発する半導体レーザと、内部に
光波長変換素子を含む共振器と、前記半導体レーザを保
持した第1の金属ブロックと、前記固体レーザ媒質およ
び共振器を保持した第2の金属ブロックと、前記第1の
金属ブロックの温度を所定値に制御する温度制御素子と
を備えてなる半導体レーザ励起固体レーザにおいて、前
記第2の金属ブロックに発熱素子または吸熱素子が接続
され、この第2の金属ブロックが、それよりも熱伝導率
の低い部材を介して前記第1の金属ブロックに固定され
ていることを特徴とするものである。
【0016】
【発明の効果】本発明による第1の半導体レーザ励起固
体レーザにおいては、支持体上に固定された第1の金属
ブロックと第2の金属ブロックのうち、固体レーザ媒質
および共振器を保持した第2の金属ブロックを温度制御
素子により所定温度に制御し、半導体レーザを保持した
第1の金属ブロックはそれよりも熱伝導率の低い部材を
介して支持体に固定した上で、該第1の金属ブロックに
発熱素子または吸熱素子を接続したので、これら両金属
ブロックを、つまり半導体レーザと光波長変換素子とを
互いに独立した温度に制御可能となる。
体レーザにおいては、支持体上に固定された第1の金属
ブロックと第2の金属ブロックのうち、固体レーザ媒質
および共振器を保持した第2の金属ブロックを温度制御
素子により所定温度に制御し、半導体レーザを保持した
第1の金属ブロックはそれよりも熱伝導率の低い部材を
介して支持体に固定した上で、該第1の金属ブロックに
発熱素子または吸熱素子を接続したので、これら両金属
ブロックを、つまり半導体レーザと光波長変換素子とを
互いに独立した温度に制御可能となる。
【0017】そこで、半導体レーザの発振波長は固体レ
ーザ媒質の吸収ピーク波長に一致させることができ、そ
の一方で、光波長変換素子は位相整合温度に設定して、
最大の波長変換効率を得ることが可能となる。
ーザ媒質の吸収ピーク波長に一致させることができ、そ
の一方で、光波長変換素子は位相整合温度に設定して、
最大の波長変換効率を得ることが可能となる。
【0018】また、本発明による第2の半導体レーザ励
起固体レーザにおいては、支持体上に固定された第1の
金属ブロックと第2の金属ブロックのうち、半導体レー
ザを保持した第1の金属ブロックを温度制御素子により
所定温度に制御し、固体レーザ媒質および共振器を保持
した第2の金属ブロックはそれよりも熱伝導率の低い部
材を介して支持体に固定した上で、該第2の金属ブロッ
クに発熱素子または吸熱素子を接続したので、これら両
金属ブロックを、つまり半導体レーザと光波長変換素子
とを互いに独立した温度に制御可能となる。
起固体レーザにおいては、支持体上に固定された第1の
金属ブロックと第2の金属ブロックのうち、半導体レー
ザを保持した第1の金属ブロックを温度制御素子により
所定温度に制御し、固体レーザ媒質および共振器を保持
した第2の金属ブロックはそれよりも熱伝導率の低い部
材を介して支持体に固定した上で、該第2の金属ブロッ
クに発熱素子または吸熱素子を接続したので、これら両
金属ブロックを、つまり半導体レーザと光波長変換素子
とを互いに独立した温度に制御可能となる。
【0019】そこでこの場合も、半導体レーザの発振波
長は固体レーザ媒質の吸収ピーク波長に一致させること
ができ、その一方で、光波長変換素子は位相整合温度に
設定して、最大の波長変換効率を得ることが可能とな
る。
長は固体レーザ媒質の吸収ピーク波長に一致させること
ができ、その一方で、光波長変換素子は位相整合温度に
設定して、最大の波長変換効率を得ることが可能とな
る。
【0020】一方、本発明による第3の半導体レーザ励
起固体レーザにおいては、第1の金属ブロックと第2の
金属ブロックのうち、固体レーザ媒質および共振器を保
持した第2の金属ブロックを温度制御素子により所定温
度に制御し、半導体レーザを保持した第1の金属ブロッ
クはそれよりも熱伝導率の低い部材を介して第2の金属
ブロックに固定した上で、該第1の金属ブロックに発熱
素子または吸熱素子を接続したので、これら両金属ブロ
ックを、つまり半導体レーザと光波長変換素子とを互い
に独立した温度に制御可能となる。
起固体レーザにおいては、第1の金属ブロックと第2の
金属ブロックのうち、固体レーザ媒質および共振器を保
持した第2の金属ブロックを温度制御素子により所定温
度に制御し、半導体レーザを保持した第1の金属ブロッ
クはそれよりも熱伝導率の低い部材を介して第2の金属
ブロックに固定した上で、該第1の金属ブロックに発熱
素子または吸熱素子を接続したので、これら両金属ブロ
ックを、つまり半導体レーザと光波長変換素子とを互い
に独立した温度に制御可能となる。
【0021】そこでこの場合も、半導体レーザの発振波
長は固体レーザ媒質の吸収ピーク波長に一致させること
ができ、その一方で、光波長変換素子は位相整合温度に
設定して、最大の波長変換効率を得ることが可能とな
る。
長は固体レーザ媒質の吸収ピーク波長に一致させること
ができ、その一方で、光波長変換素子は位相整合温度に
設定して、最大の波長変換効率を得ることが可能とな
る。
【0022】また、本発明による第4の半導体レーザ励
起固体レーザにおいては、第1の金属ブロックと第2の
金属ブロックのうち、半導体レーザを保持した第1の金
属ブロックを温度制御素子により所定温度に制御し、固
体レーザ媒質および共振器を保持した第2の金属ブロッ
クはそれよりも熱伝導率の低い部材を介して第1の金属
ブロックに固定した上で、該第2の金属ブロックに発熱
素子または吸熱素子を接続したので、これら両金属ブロ
ックを、つまり半導体レーザと光波長変換素子とを互い
に独立した温度に制御可能となる。
起固体レーザにおいては、第1の金属ブロックと第2の
金属ブロックのうち、半導体レーザを保持した第1の金
属ブロックを温度制御素子により所定温度に制御し、固
体レーザ媒質および共振器を保持した第2の金属ブロッ
クはそれよりも熱伝導率の低い部材を介して第1の金属
ブロックに固定した上で、該第2の金属ブロックに発熱
素子または吸熱素子を接続したので、これら両金属ブロ
ックを、つまり半導体レーザと光波長変換素子とを互い
に独立した温度に制御可能となる。
【0023】そこでこの場合も、半導体レーザの発振波
長は固体レーザ媒質の吸収ピーク波長に一致させること
ができ、その一方で、光波長変換素子は位相整合温度に
設定して、最大の波長変換効率を得ることが可能とな
る。
長は固体レーザ媒質の吸収ピーク波長に一致させること
ができ、その一方で、光波長変換素子は位相整合温度に
設定して、最大の波長変換効率を得ることが可能とな
る。
【0024】そして、本発明による各半導体レーザ励起
固体レーザは、光波長変換素子の位相整合温度を半導体
レーザに合わせて選択する必要がなく、また発振波長の
ずれた半導体レーザも使用可能となるので、従来装置と
比べてより低コストで作製可能となる。
固体レーザは、光波長変換素子の位相整合温度を半導体
レーザに合わせて選択する必要がなく、また発振波長の
ずれた半導体レーザも使用可能となるので、従来装置と
比べてより低コストで作製可能となる。
【0025】また本発明による各半導体レーザ励起固体
レーザは、組立て後に、半導体レーザの発振波長を光波
長変換素子の位相整合温度に拘わり無く正確に調整でき
るので、従来装置と比べてより高い出力が得られるもの
となる。
レーザは、組立て後に、半導体レーザの発振波長を光波
長変換素子の位相整合温度に拘わり無く正確に調整でき
るので、従来装置と比べてより高い出力が得られるもの
となる。
【0026】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図1は、本発明の第1の実
施形態である半導体レーザ励起固体レーザの側面形状を
示すものである。
施の形態を詳細に説明する。図1は、本発明の第1の実
施形態である半導体レーザ励起固体レーザの側面形状を
示すものである。
【0027】この半導体レーザ励起固体レーザは、励起
光としてのレーザビーム10を発する半導体レーザ11と、
発散光であるレーザビーム10を集光する集光レンズ12
と、ネオジウム(Nd)がドープされた固体レーザ媒質
であるYAG結晶(Nd:YAG結晶)13と、このN
d:YAG結晶13の前方側つまり半導体レーザ11と反対
側に配された共振器ミラー14とを有している。
光としてのレーザビーム10を発する半導体レーザ11と、
発散光であるレーザビーム10を集光する集光レンズ12
と、ネオジウム(Nd)がドープされた固体レーザ媒質
であるYAG結晶(Nd:YAG結晶)13と、このN
d:YAG結晶13の前方側つまり半導体レーザ11と反対
側に配された共振器ミラー14とを有している。
【0028】またNd:YAG結晶13と共振器ミラー14
との間には、Nd:YAG結晶13側から順に、位相制御
部40、ブリュースタ板15、周期ドメイン反転構造を有す
る非線形光学材料である、MgOがドープされたLiN
bO3 結晶(以下、反転ドメインLN結晶と称する)1
6、光軸に対して35′傾けた石英板からなるエタロン17
が配設されている。
との間には、Nd:YAG結晶13側から順に、位相制御
部40、ブリュースタ板15、周期ドメイン反転構造を有す
る非線形光学材料である、MgOがドープされたLiN
bO3 結晶(以下、反転ドメインLN結晶と称する)1
6、光軸に対して35′傾けた石英板からなるエタロン17
が配設されている。
【0029】共振器ミラー14のさらに前方側には、後述
のようにして発せられる第2高調波19を一部分岐させる
部分反射ミラー25が配されている。ここで分岐された第
2高調波19は、フォトダイオード等の光検出器26によっ
て検出される。
のようにして発せられる第2高調波19を一部分岐させる
部分反射ミラー25が配されている。ここで分岐された第
2高調波19は、フォトダイオード等の光検出器26によっ
て検出される。
【0030】半導体レーザ11は、活性層幅が約50μmの
ブロードエリアレーザであり、温度が37℃のときに中心
波長 808nmのレーザビーム10を発するものが用いられ
ている。また集光レンズ12は、一例として屈折率分布形
レンズ(商品名:セルフォックレンズ)からなり、レー
ザビーム10をNd:YAG結晶13の内部で収束するよう
に集光する。この集光レンズ12と半導体レーザ11は、熱
伝導率の高い例えば銅等の金属からなる保持部材(第1
の金属ブロック)20に圧入固定されている。以下、この
保持部材20に固定されている部分を励起部と称する。
ブロードエリアレーザであり、温度が37℃のときに中心
波長 808nmのレーザビーム10を発するものが用いられ
ている。また集光レンズ12は、一例として屈折率分布形
レンズ(商品名:セルフォックレンズ)からなり、レー
ザビーム10をNd:YAG結晶13の内部で収束するよう
に集光する。この集光レンズ12と半導体レーザ11は、熱
伝導率の高い例えば銅等の金属からなる保持部材(第1
の金属ブロック)20に圧入固定されている。以下、この
保持部材20に固定されている部分を励起部と称する。
【0031】一方、Nd:YAG結晶13から共振器ミラ
ー14までの部分は、同じく銅等の金属からなる別の保持
部材(第2の金属ブロック)21に固定されている。以
下、この保持部材21に固定されている部分を共振器部と
称する。
ー14までの部分は、同じく銅等の金属からなる別の保持
部材(第2の金属ブロック)21に固定されている。以
下、この保持部材21に固定されている部分を共振器部と
称する。
【0032】部分反射ミラー25および光検出器26は、さ
らに別の金属ブロックである保持部材22に固定されてい
る。以下、この保持部材22に固定されている部分をAP
C部と称する。
らに別の金属ブロックである保持部材22に固定されてい
る。以下、この保持部材22に固定されている部分をAP
C部と称する。
【0033】以上説明した励起部、共振器部およびAP
C部をそれぞれ保持した保持部材20、21および22は、板
状の支持体であるベースプレート30上に固定され、該ベ
ースプレート30およびペルチェ素子31を介してパッケー
ジベース32に固定されている。そしてパッケージベース
32には出射窓34aを有するパッケージキャップ34が被着
され、それら両者により、外部とは気密状態を保つ空間
が画成されている。ペルチェ素子31から上の部分は、こ
の空間内に収められている。
C部をそれぞれ保持した保持部材20、21および22は、板
状の支持体であるベースプレート30上に固定され、該ベ
ースプレート30およびペルチェ素子31を介してパッケー
ジベース32に固定されている。そしてパッケージベース
32には出射窓34aを有するパッケージキャップ34が被着
され、それら両者により、外部とは気密状態を保つ空間
が画成されている。ペルチェ素子31から上の部分は、こ
の空間内に収められている。
【0034】なお、第1の金属ブロックとしての保持部
材20は、それよりも熱伝導率が十分に低いガラス板40を
介してベースプレート30上に固定されている。またこの
保持部材20の上端部には、電流の供給を受けて発熱する
抵抗発熱体41が固定されている。
材20は、それよりも熱伝導率が十分に低いガラス板40を
介してベースプレート30上に固定されている。またこの
保持部材20の上端部には、電流の供給を受けて発熱する
抵抗発熱体41が固定されている。
【0035】Nd:YAG結晶13は吸収ピーク波長が 8
08nmのものであり、入射したレーザビーム10によって
ネオジウムイオンが励起されることにより、波長 946n
mの光を発する。Nd:YAG結晶13の入射端面13aに
は、波長 946nmの光は良好に反射させる(反射率99.9
%以上)一方、波長 808nmの励起用レーザビーム10は
良好に透過させる(透過率93%以上)コーティングが施
されている。一方共振器ミラー14のミラー面14aには、
波長 946nmの光は良好に反射させ(反射率99.9%以
上)、波長 473nmの光は透過させる(透過率90%以
上)コーティングが施されている。
08nmのものであり、入射したレーザビーム10によって
ネオジウムイオンが励起されることにより、波長 946n
mの光を発する。Nd:YAG結晶13の入射端面13aに
は、波長 946nmの光は良好に反射させる(反射率99.9
%以上)一方、波長 808nmの励起用レーザビーム10は
良好に透過させる(透過率93%以上)コーティングが施
されている。一方共振器ミラー14のミラー面14aには、
波長 946nmの光は良好に反射させ(反射率99.9%以
上)、波長 473nmの光は透過させる(透過率90%以
上)コーティングが施されている。
【0036】そこで、上記波長 946nmの光はそれに対
する高反射面となっているNd:YAG結晶端面13aと
ミラー面14aとの間に閉じ込められてレーザ発振を引き
起こし、波長 946nmのレーザビーム18が発生する。基
本波としてのこのレーザビーム18は反転ドメインLN結
晶16により、波長が1/2すなわち 473nmの第2高調
波19に変換され、共振器ミラー14からは主としてこの第
2高調波19が出射する。第2高調波19は、部分反射ミラ
ー25によって一部分岐された後、出射窓34aを透過して
パッケージキャップ34外に出射する。
する高反射面となっているNd:YAG結晶端面13aと
ミラー面14aとの間に閉じ込められてレーザ発振を引き
起こし、波長 946nmのレーザビーム18が発生する。基
本波としてのこのレーザビーム18は反転ドメインLN結
晶16により、波長が1/2すなわち 473nmの第2高調
波19に変換され、共振器ミラー14からは主としてこの第
2高調波19が出射する。第2高調波19は、部分反射ミラ
ー25によって一部分岐された後、出射窓34aを透過して
パッケージキャップ34外に出射する。
【0037】ここでブリュースタ板15は、波長 946nm
のレーザビーム18に対してブリュースタ角をなす向きに
配設されており、このレーザビーム18の偏光方向を制御
する。またエタロン17は厚さ0.38mmに形成されたもの
で、レーザビーム18を単一縦モード化する。
のレーザビーム18に対してブリュースタ角をなす向きに
配設されており、このレーザビーム18の偏光方向を制御
する。またエタロン17は厚さ0.38mmに形成されたもの
で、レーザビーム18を単一縦モード化する。
【0038】一方、反転ドメインLN結晶16は、上記ブ
リュースタ板15によって偏光方向が規定されたレーザビ
ーム18を温度25℃のとき最大効率で第2高調波19に変換
するように、ドメイン反転部の周期が設定されたもので
ある。
リュースタ板15によって偏光方向が規定されたレーザビ
ーム18を温度25℃のとき最大効率で第2高調波19に変換
するように、ドメイン反転部の周期が設定されたもので
ある。
【0039】またNd:YAG結晶13の入射端面13aに
形成されたコーティングは、波長 473nmの第2高調波
19は良好に反射させる(反射率95%以上)ものとされて
いる。反転ドメインLN結晶16からは、出力方向つまり
共振器ミラー14側に第2高調波19が出射するとともに、
それとは反対方向つまりNd:YAG結晶13側にも第2
高調波19が出射する。この後者の方向に出射した第2高
調波19は、上記コーティングが施されたNd:YAG結
晶端面13aで正反射して折り返し、前者の方向に出射し
た第2高調波19と重ね合わされて出力する。
形成されたコーティングは、波長 473nmの第2高調波
19は良好に反射させる(反射率95%以上)ものとされて
いる。反転ドメインLN結晶16からは、出力方向つまり
共振器ミラー14側に第2高調波19が出射するとともに、
それとは反対方向つまりNd:YAG結晶13側にも第2
高調波19が出射する。この後者の方向に出射した第2高
調波19は、上記コーティングが施されたNd:YAG結
晶端面13aで正反射して折り返し、前者の方向に出射し
た第2高調波19と重ね合わされて出力する。
【0040】また半導体レーザ11は、一般にAPC(Au
tomatic Power Control)と言われる出力一定化制御を
受ける。すなわち、APC部の部分反射ミラー25によっ
て一部分岐された第2高調波19は光検出器26によってモ
ニターされ、この光検出器26の出力はLD電流制御回路
38に入力される。LD電流制御回路38はこの出力が示す
モニター光量が一定となるように半導体レーザ11の駆動
電流を制御し、その結果、第2高調波19の出力が一定に
保たれる。
tomatic Power Control)と言われる出力一定化制御を
受ける。すなわち、APC部の部分反射ミラー25によっ
て一部分岐された第2高調波19は光検出器26によってモ
ニターされ、この光検出器26の出力はLD電流制御回路
38に入力される。LD電流制御回路38はこの出力が示す
モニター光量が一定となるように半導体レーザ11の駆動
電流を制御し、その結果、第2高調波19の出力が一定に
保たれる。
【0041】なお第2高調波19を実用に供する上では、
一般に、それと同方向に出射するレーザビーム10および
基本波としてのレーザビーム18を吸収するフィルターが
必要となるが、そのようなフィルターはAPC部に設置
してもよい。
一般に、それと同方向に出射するレーザビーム10および
基本波としてのレーザビーム18を吸収するフィルターが
必要となるが、そのようなフィルターはAPC部に設置
してもよい。
【0042】一方、共振器部に取り付けられたサーミス
タ36により共振器内の温度が検出され、温度制御回路37
によりこの検出温度が所定の温度となるようにペルチェ
素子31の駆動電流が調節されて、保持部材21の温度つま
りは共振器内の温度が前述の25℃に維持される。したが
って反転ドメインLN結晶16の温度も25℃に保たれるの
で、レーザビーム18は最大効率で第2高調波19に変換さ
れ、高出力の第2高調波19が得られるようになる。
タ36により共振器内の温度が検出され、温度制御回路37
によりこの検出温度が所定の温度となるようにペルチェ
素子31の駆動電流が調節されて、保持部材21の温度つま
りは共振器内の温度が前述の25℃に維持される。したが
って反転ドメインLN結晶16の温度も25℃に保たれるの
で、レーザビーム18は最大効率で第2高調波19に変換さ
れ、高出力の第2高調波19が得られるようになる。
【0043】それに対して保持部材20については、ベー
スプレート30との間に熱伝導率が十分に低いガラス板40
が介在しているので、一定温度のベースプレート30との
間に熱抵抗が生じ、半導体レーザ11自身の発熱と抵抗発
熱体41の一定量の発熱によって、一定量の温度差をベー
スプレート30との間に付けることができる。
スプレート30との間に熱伝導率が十分に低いガラス板40
が介在しているので、一定温度のベースプレート30との
間に熱抵抗が生じ、半導体レーザ11自身の発熱と抵抗発
熱体41の一定量の発熱によって、一定量の温度差をベー
スプレート30との間に付けることができる。
【0044】一例として、抵抗発熱体41が4.5W発熱、
半導体レーザ11が0.5W発熱し、ガラス板40がBK7ガ
ラスからなり、その厚さが0.25mm、ベースプレート30
に接する面のサイズが10mm×10mmであるとき、保持
部材21の温度25℃に対して保持部材20の温度を37℃に保
つことができた。
半導体レーザ11が0.5W発熱し、ガラス板40がBK7ガ
ラスからなり、その厚さが0.25mm、ベースプレート30
に接する面のサイズが10mm×10mmであるとき、保持
部材21の温度25℃に対して保持部材20の温度を37℃に保
つことができた。
【0045】以上のようにして保持部材20の温度が37℃
に保たれれば、半導体レーザ11も当然37℃に保たれる。
そこでこの半導体レーザ11を、Nd:YAG結晶13の吸
収ピーク波長と一致した中心波長 808nmで発振させる
ことが可能となる。
に保たれれば、半導体レーザ11も当然37℃に保たれる。
そこでこの半導体レーザ11を、Nd:YAG結晶13の吸
収ピーク波長と一致した中心波長 808nmで発振させる
ことが可能となる。
【0046】なお本実施形態では、ベースプレート30と
保持部材20との間に介在させる部材としてガラスを用い
ているが、熱伝導率が十分に低い部材としてはその他例
えばセラミック等も適用可能である。
保持部材20との間に介在させる部材としてガラスを用い
ているが、熱伝導率が十分に低い部材としてはその他例
えばセラミック等も適用可能である。
【0047】また、保持部材20、ガラス板40およびベー
スプレート30は互いに熱伝導性接着剤、10μm程度の薄
いエポキシ接着剤、ロウ材等によって接合されるが、そ
のような接着層の両側で発生する温度段差はガラス板40
の両側で発生する温度段差と比べて著しく小さいので、
設計上は無視できる。
スプレート30は互いに熱伝導性接着剤、10μm程度の薄
いエポキシ接着剤、ロウ材等によって接合されるが、そ
のような接着層の両側で発生する温度段差はガラス板40
の両側で発生する温度段差と比べて著しく小さいので、
設計上は無視できる。
【0048】次に図2を参照して、本発明の第2の実施
形態について説明する。なおこの図2において、図1中
の要素と同等の要素には同番号を付してあり、それらに
ついての重複した説明は省略する(以下、同様)。また
この図2およびそれ以降の図3〜6では、ペルチェ素子
31の駆動および半導体レーザ11のAPC駆動に係る構成
は省いてある。
形態について説明する。なおこの図2において、図1中
の要素と同等の要素には同番号を付してあり、それらに
ついての重複した説明は省略する(以下、同様)。また
この図2およびそれ以降の図3〜6では、ペルチェ素子
31の駆動および半導体レーザ11のAPC駆動に係る構成
は省いてある。
【0049】図2は、本発明の第2の実施形態による半
導体レーザ励起固体レーザの側面形状を示すものであ
る。この第2の実施形態において、励起部の保持部材20
は直接ベースプレート30上に固定され、この保持部材20
の温度がサーミスタ36によって検出される。そして、サ
ーミスタ36の出力に基づいてペルチェ素子31が駆動さ
れ、保持部材20の温度が25℃に制御される。
導体レーザ励起固体レーザの側面形状を示すものであ
る。この第2の実施形態において、励起部の保持部材20
は直接ベースプレート30上に固定され、この保持部材20
の温度がサーミスタ36によって検出される。そして、サ
ーミスタ36の出力に基づいてペルチェ素子31が駆動さ
れ、保持部材20の温度が25℃に制御される。
【0050】半導体レーザ11としては、25℃のとき中心
波長 808nmで発振するものが用いられている。上述の
ようにして保持部材20の温度が25℃に制御されれば、こ
の保持部材20に固定された半導体レーザ11の温度も25℃
に保たれるので、該半導体レーザ11を、Nd:YAG結
晶13の吸収ピーク波長と一致した中心波長 808nmで発
振させることが可能となる。
波長 808nmで発振するものが用いられている。上述の
ようにして保持部材20の温度が25℃に制御されれば、こ
の保持部材20に固定された半導体レーザ11の温度も25℃
に保たれるので、該半導体レーザ11を、Nd:YAG結
晶13の吸収ピーク波長と一致した中心波長 808nmで発
振させることが可能となる。
【0051】一方、共振器部を固定した保持部材21はガ
ラス板50を介してベースプレート30上に固定され、また
この保持部材21の上端部には、電流の供給を受けて発熱
する抵抗発熱体51が固定されている。ガラス板50はBK
7ガラスからなり、厚さ0.25mm、ベースプレート30に
接する面のサイズが10mm×10mmとされたものであ
る。保持部材21は、抵抗発熱体51が一例として2W発熱
することにより30℃に保たれる。
ラス板50を介してベースプレート30上に固定され、また
この保持部材21の上端部には、電流の供給を受けて発熱
する抵抗発熱体51が固定されている。ガラス板50はBK
7ガラスからなり、厚さ0.25mm、ベースプレート30に
接する面のサイズが10mm×10mmとされたものであ
る。保持部材21は、抵抗発熱体51が一例として2W発熱
することにより30℃に保たれる。
【0052】また反転ドメインLN結晶16は、ブリュー
スタ板15によって偏光方向が規定されたレーザビーム18
を温度30℃のとき最大効率で第2高調波19に変換するよ
うに、ドメイン反転部の周期が設定されたものである。
上述のようにして保持部材21の温度が30℃に保たれれ
ば、そこに保持された反転ドメインLN結晶16も30℃に
保たれるので、レーザビーム18は最大効率で第2高調波
19に変換され、高出力の第2高調波19が得られるように
なる。
スタ板15によって偏光方向が規定されたレーザビーム18
を温度30℃のとき最大効率で第2高調波19に変換するよ
うに、ドメイン反転部の周期が設定されたものである。
上述のようにして保持部材21の温度が30℃に保たれれ
ば、そこに保持された反転ドメインLN結晶16も30℃に
保たれるので、レーザビーム18は最大効率で第2高調波
19に変換され、高出力の第2高調波19が得られるように
なる。
【0053】次に、本発明の第3の実施形態について説
明する。図3は、本発明の第3の実施形態による半導体
レーザ励起固体レーザの側面形状を示すものである。こ
の半導体レーザ励起固体レーザは、図1に示した第1実
施形態の装置と比較すると、抵抗発熱体41の代わりに吸
熱素子としてのペルチェ素子60が用いられている点が異
なるものである。なお上記ペルチェ素子60には、ヒート
シンク61が接合されている。
明する。図3は、本発明の第3の実施形態による半導体
レーザ励起固体レーザの側面形状を示すものである。こ
の半導体レーザ励起固体レーザは、図1に示した第1実
施形態の装置と比較すると、抵抗発熱体41の代わりに吸
熱素子としてのペルチェ素子60が用いられている点が異
なるものである。なお上記ペルチェ素子60には、ヒート
シンク61が接合されている。
【0054】本第3実施形態において、半導体レーザ11
としては、20℃のとき中心波長 808nmで発振するもの
が用いられている。一方反転ドメインLN結晶16は、ブ
リュースタ板15によって偏光方向が規定されたレーザビ
ーム18を温度25℃のとき最大効率で第2高調波19に変換
するように、ドメイン反転部の周期が設定されたもので
ある。
としては、20℃のとき中心波長 808nmで発振するもの
が用いられている。一方反転ドメインLN結晶16は、ブ
リュースタ板15によって偏光方向が規定されたレーザビ
ーム18を温度25℃のとき最大効率で第2高調波19に変換
するように、ドメイン反転部の周期が設定されたもので
ある。
【0055】この場合、共振器部の保持部材21の温度は
25℃に制御される。したがって反転ドメインLN結晶16
の温度も25℃に保たれるので、レーザビーム18は最大効
率で第2高調波19に変換され、高出力の第2高調波19が
得られるようになる。
25℃に制御される。したがって反転ドメインLN結晶16
の温度も25℃に保たれるので、レーザビーム18は最大効
率で第2高調波19に変換され、高出力の第2高調波19が
得られるようになる。
【0056】それに対して保持部材20は、ペルチェ素子
60が一例として2.5W吸熱することにより20℃に保たれ
る。このように保持部材20の温度が20℃に保たれれば、
半導体レーザ11も当然20℃に保たれる。そこでこの半導
体レーザ11を、Nd:YAG結晶13の吸収ピーク波長と
一致した中心波長 808nmで効率良く発振させることが
可能となる。
60が一例として2.5W吸熱することにより20℃に保たれ
る。このように保持部材20の温度が20℃に保たれれば、
半導体レーザ11も当然20℃に保たれる。そこでこの半導
体レーザ11を、Nd:YAG結晶13の吸収ピーク波長と
一致した中心波長 808nmで効率良く発振させることが
可能となる。
【0057】本例の場合は、第1実施形態と比較すれば
半導体レーザ11をより低温で駆動できるので、半導体レ
ーザ11の寿命を延ばすのに有効である。
半導体レーザ11をより低温で駆動できるので、半導体レ
ーザ11の寿命を延ばすのに有効である。
【0058】次に、本発明の第4の実施形態について説
明する。図4は、本発明の第4の実施形態による半導体
レーザ励起固体レーザの側面形状を示すものである。こ
の半導体レーザ励起固体レーザは、図2に示した第2実
施形態の装置と比較すると、抵抗発熱体51の代わりに吸
熱素子としてのペルチェ素子70が用いられている点、お
よび共振器部の保持部材21に取り付けられた第2のサー
ミスタ71並びに図示外の第2の温度制御回路が設けられ
た点が異なるものである。なお上記ペルチェ素子70に
は、ヒートシンク71が接合されている。
明する。図4は、本発明の第4の実施形態による半導体
レーザ励起固体レーザの側面形状を示すものである。こ
の半導体レーザ励起固体レーザは、図2に示した第2実
施形態の装置と比較すると、抵抗発熱体51の代わりに吸
熱素子としてのペルチェ素子70が用いられている点、お
よび共振器部の保持部材21に取り付けられた第2のサー
ミスタ71並びに図示外の第2の温度制御回路が設けられ
た点が異なるものである。なお上記ペルチェ素子70に
は、ヒートシンク71が接合されている。
【0059】この場合、励起部の保持部材20は直接ベー
スプレート30上に固定され、この保持部材20の温度がサ
ーミスタ36によって検出される。そして、サーミスタ36
の出力に基づいてペルチェ素子31が駆動され、保持部材
20の温度が30℃に制御される。
スプレート30上に固定され、この保持部材20の温度がサ
ーミスタ36によって検出される。そして、サーミスタ36
の出力に基づいてペルチェ素子31が駆動され、保持部材
20の温度が30℃に制御される。
【0060】半導体レーザ11としては、30℃のとき中心
波長 808nmで発振するものが用いられている。上述の
ようにして保持部材20の温度が30℃に制御されれば、こ
の保持部材20に固定された半導体レーザ11の温度も30℃
に保たれるので、該半導体レーザ11を、Nd:YAG結
晶13の吸収ピーク波長と一致した中心波長 808nmで発
振させることが可能となる。
波長 808nmで発振するものが用いられている。上述の
ようにして保持部材20の温度が30℃に制御されれば、こ
の保持部材20に固定された半導体レーザ11の温度も30℃
に保たれるので、該半導体レーザ11を、Nd:YAG結
晶13の吸収ピーク波長と一致した中心波長 808nmで発
振させることが可能となる。
【0061】一方、共振器部を固定した保持部材21の温
度が第2のサーミスタ71によって検出される。そして、
サーミスタ71の出力に基づいて図示外の第2の温度制御
回路によりペルチェ素子70が駆動され、保持部材21の温
度が25℃に制御される。このように駆動制御されるペル
チェ素子70を利用すれば、保持部材21の温度つまりは反
転ドメインLN結晶16がより高精度で所望値に保たれ
る。
度が第2のサーミスタ71によって検出される。そして、
サーミスタ71の出力に基づいて図示外の第2の温度制御
回路によりペルチェ素子70が駆動され、保持部材21の温
度が25℃に制御される。このように駆動制御されるペル
チェ素子70を利用すれば、保持部材21の温度つまりは反
転ドメインLN結晶16がより高精度で所望値に保たれ
る。
【0062】反転ドメインLN結晶16は、ブリュースタ
板15によって偏光方向が規定されたレーザビーム18を温
度25℃のとき最大効率で第2高調波19に変換するよう
に、ドメイン反転部の周期が設定されたものである。上
述のようにして保持部材21の温度が25℃に保たれれば、
そこに保持された反転ドメインLN結晶16も25℃に保た
れるので、レーザビーム18は最大効率で第2高調波19に
変換され、高出力の第2高調波19が得られるようにな
る。
板15によって偏光方向が規定されたレーザビーム18を温
度25℃のとき最大効率で第2高調波19に変換するよう
に、ドメイン反転部の周期が設定されたものである。上
述のようにして保持部材21の温度が25℃に保たれれば、
そこに保持された反転ドメインLN結晶16も25℃に保た
れるので、レーザビーム18は最大効率で第2高調波19に
変換され、高出力の第2高調波19が得られるようにな
る。
【0063】以上の構成においては、共振器に含まれる
固体レーザ媒質をより低温に保つことができるので、特
に3準位系の発振線を利用する場合には発振効率が向上
し、従来よりも高い出力を得ることが可能となる。
固体レーザ媒質をより低温に保つことができるので、特
に3準位系の発振線を利用する場合には発振効率が向上
し、従来よりも高い出力を得ることが可能となる。
【0064】次に、本発明の第5の実施形態について説
明する。図5は、本発明の第5の実施形態による半導体
レーザ励起固体レーザの側面形状を示すものである。こ
の半導体レーザ励起固体レーザは、図4に示した第4実
施形態の装置と比較すると、第2の金属ブロックである
保持部材21が、直接ベースプレート30には固定されず、
ガラス板80を介して第1の金属ブロックである保持部材
20に固定されている点が異なるものである。
明する。図5は、本発明の第5の実施形態による半導体
レーザ励起固体レーザの側面形状を示すものである。こ
の半導体レーザ励起固体レーザは、図4に示した第4実
施形態の装置と比較すると、第2の金属ブロックである
保持部材21が、直接ベースプレート30には固定されず、
ガラス板80を介して第1の金属ブロックである保持部材
20に固定されている点が異なるものである。
【0065】このような構成においても、保持部材20の
温度つまりは半導体レーザ11の温度と、保持部材21の温
度つまりは反転ドメインLN結晶16の温度を互いに独立
して所望値に設定することができ、第1〜4実施形態に
おけるのと同様の効果を得ることができる。
温度つまりは半導体レーザ11の温度と、保持部材21の温
度つまりは反転ドメインLN結晶16の温度を互いに独立
して所望値に設定することができ、第1〜4実施形態に
おけるのと同様の効果を得ることができる。
【0066】次に、本発明の第6の実施形態について説
明する。図6は、本発明の第6の実施形態による半導体
レーザ励起固体レーザの側面形状を示すものである。こ
の半導体レーザ励起固体レーザは、図1に示した第1実
施形態の装置と比較すると、第1の金属ブロックである
保持部材20が、直接ベースプレート30には固定されず、
ガラス板80を介して第2の金属ブロックである保持部材
21に固定されている点が異なるものである。
明する。図6は、本発明の第6の実施形態による半導体
レーザ励起固体レーザの側面形状を示すものである。こ
の半導体レーザ励起固体レーザは、図1に示した第1実
施形態の装置と比較すると、第1の金属ブロックである
保持部材20が、直接ベースプレート30には固定されず、
ガラス板80を介して第2の金属ブロックである保持部材
21に固定されている点が異なるものである。
【0067】このような構成においても、保持部材20の
温度つまりは半導体レーザ11の温度と、保持部材21の温
度つまりは反転ドメインLN結晶16の温度を互いに独立
して所望値に設定することができ、第1〜5実施形態に
おけるのと同様の効果を得ることができる。
温度つまりは半導体レーザ11の温度と、保持部材21の温
度つまりは反転ドメインLN結晶16の温度を互いに独立
して所望値に設定することができ、第1〜5実施形態に
おけるのと同様の効果を得ることができる。
【図1】本発明の第1の実施形態による半導体レーザ励
起固体レーザを示す一部破断側面図
起固体レーザを示す一部破断側面図
【図2】本発明の第2の実施形態による半導体レーザ励
起固体レーザを示す一部破断側面図
起固体レーザを示す一部破断側面図
【図3】本発明の第3の実施形態による半導体レーザ励
起固体レーザを示す一部破断側面図
起固体レーザを示す一部破断側面図
【図4】本発明の第4の実施形態による半導体レーザ励
起固体レーザを示す一部破断側面図
起固体レーザを示す一部破断側面図
【図5】本発明の第5の実施形態による半導体レーザ励
起固体レーザを示す一部破断側面図
起固体レーザを示す一部破断側面図
【図6】本発明の第6の実施形態による半導体レーザ励
起固体レーザを示す一部破断側面図
起固体レーザを示す一部破断側面図
10 レーザビーム(励起光) 11 半導体レーザ 12 集光レンズ 13 Nd:YAG結晶 13a Nd:YAG結晶の端面 14 共振器ミラー 14a 共振器ミラーのミラー面 15 ブリュースタ板 16 反転ドメインLN結晶 17 エタロン 18 固体レーザビーム(基本波) 19 第2高調波 20 保持部材(第1の金属ブロック) 21 保持部材(第2の金属ブロック) 22 保持部材 25 部分反射ミラー 26 光検出器 30 ベースプレート 31 ペルチェ素子 32 パッケージベース 34 パッケージキャップ 36 サーミスタ 37 温度制御回路 38 LD電流制御回路 40 ガラス板 41 抵抗発熱体 50 ガラス板 51 抵抗発熱体 60 ペルチェ素子 61 ヒートシンク 70 第2のペルチェ素子 71 ヒートシンク 80 ガラス板
Claims (4)
- 【請求項1】 固体レーザ媒質と、 この固体レーザ媒質を励起する励起光を発する半導体レ
ーザと、 内部に光波長変換素子を含む共振器と、 前記半導体レーザを保持した第1の金属ブロックと、 前記固体レーザ媒質および共振器を保持した第2の金属
ブロックと、 これら2つの金属ブロックを固定した支持体と、 この支持体を介して前記第2の金属ブロックの温度を所
定値に制御する温度制御素子とを備えてなる半導体レー
ザ励起固体レーザにおいて、 前記第1の金属ブロックに発熱素子または吸熱素子が接
続され、 この第1の金属ブロックが、それよりも熱伝導率の低い
部材を介して前記支持体に固定されていることを特徴と
する半導体レーザ励起固体レーザ。 - 【請求項2】 固体レーザ媒質と、 この固体レーザ媒質を励起する励起光を発する半導体レ
ーザと、 内部に光波長変換素子を含む共振器と、 前記半導体レーザを保持した第1の金属ブロックと、 前記固体レーザ媒質および共振器を保持した第2の金属
ブロックと、 これら2つの金属ブロックを固定した支持体と、 この支持体を介して前記第1の金属ブロックの温度を所
定値に制御する温度制御素子とを備えてなる半導体レー
ザ励起固体レーザにおいて、 前記第2の金属ブロックに発熱素子または吸熱素子が接
続され、 この第2の金属ブロックが、それよりも熱伝導率の低い
部材を介して前記支持体に固定されていることを特徴と
する半導体レーザ励起固体レーザ。 - 【請求項3】 固体レーザ媒質と、 この固体レーザ媒質を励起する励起光を発する半導体レ
ーザと、 内部に光波長変換素子を含む共振器と、 前記半導体レーザを保持した第1の金属ブロックと、 前記固体レーザ媒質および共振器を保持した第2の金属
ブロックと、 この第2の金属ブロックの温度を所定値に制御する温度
制御素子とを備えてなる半導体レーザ励起固体レーザに
おいて、 前記第1の金属ブロックに発熱素子または吸熱素子が接
続され、 この第1の金属ブロックが、それよりも熱伝導率の低い
部材を介して前記第2の金属ブロックに固定されている
ことを特徴とする半導体レーザ励起固体レーザ。 - 【請求項4】 固体レーザ媒質と、 この固体レーザ媒質を励起する励起光を発する半導体レ
ーザと、 内部に光波長変換素子を含む共振器と、 前記半導体レーザを保持した第1の金属ブロックと、 前記固体レーザ媒質および共振器を保持した第2の金属
ブロックと、 前記第1の金属ブロックの温度を所定値に制御する温度
制御素子とを備えてなる半導体レーザ励起固体レーザに
おいて、 前記第2の金属ブロックに発熱素子または吸熱素子が接
続され、 この第2の金属ブロックが、それよりも熱伝導率の低い
部材を介して前記第1の金属ブロックに固定されている
ことを特徴とする半導体レーザ励起固体レーザ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16109299A JP2000349371A (ja) | 1999-06-08 | 1999-06-08 | 半導体レーザ励起固体レーザ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16109299A JP2000349371A (ja) | 1999-06-08 | 1999-06-08 | 半導体レーザ励起固体レーザ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000349371A true JP2000349371A (ja) | 2000-12-15 |
Family
ID=15728465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16109299A Withdrawn JP2000349371A (ja) | 1999-06-08 | 1999-06-08 | 半導体レーザ励起固体レーザ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000349371A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006313813A (ja) * | 2005-05-09 | 2006-11-16 | Shimadzu Corp | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
| JP2016054191A (ja) * | 2014-09-03 | 2016-04-14 | 株式会社島津製作所 | 半導体レーザ励起固体レーザ装置及びレーザ光の出力方法 |
-
1999
- 1999-06-08 JP JP16109299A patent/JP2000349371A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006313813A (ja) * | 2005-05-09 | 2006-11-16 | Shimadzu Corp | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
| JP2016054191A (ja) * | 2014-09-03 | 2016-04-14 | 株式会社島津製作所 | 半導体レーザ励起固体レーザ装置及びレーザ光の出力方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060905 |