JP4724940B2 - 積層型インダクタンス素子及び積層型インダクタンス素子の製造方法 - Google Patents

積層型インダクタンス素子及び積層型インダクタンス素子の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4724940B2
JP4724940B2 JP2001102312A JP2001102312A JP4724940B2 JP 4724940 B2 JP4724940 B2 JP 4724940B2 JP 2001102312 A JP2001102312 A JP 2001102312A JP 2001102312 A JP2001102312 A JP 2001102312A JP 4724940 B2 JP4724940 B2 JP 4724940B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coil
thickness
layer
coil pattern
inductance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2001102312A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002299123A (ja
Inventor
靖久 片山
武司 橘
徹 梅野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Metals Ltd
Original Assignee
Hitachi Metals Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Metals Ltd filed Critical Hitachi Metals Ltd
Priority to JP2001102312A priority Critical patent/JP4724940B2/ja
Publication of JP2002299123A publication Critical patent/JP2002299123A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4724940B2 publication Critical patent/JP4724940B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
  • Coils Or Transformers For Communication (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、積層型インダクタンス素子及びその製造方法に関し、特に、スイッチング電源回路及びインバータ電源回路に用いる積層型インダクタンス素子及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、ノート型パーソナルコンピュータ及び携帯電話等の精密機器の小型化が進み、それに伴って電源も小型化され、電源回路に使用されるインダクタンス素子の小型化及び低背化が要求されている。
【0003】
インダクタンス素子として、捲き線型インダクタンス素子が広く用いられている。捲き線型インダクタンス素子は、素子を小型化及び低背化しようとした場合、磁性体部分が強度的に弱くなり、自動捲き線機等を用いた安価な製造方法が使用できなくなる。しかも、磁性体部分の強度が弱いため、ノート型パーソナルコンピュータ及び携帯電話等の衝撃を受ける機会の多い携帯型端末に使用するには信頼性が低く、採用できない。
【0004】
インダクタンス素子として、積層型インダクタンス素子を用いることもできる。図6 (a), (b) に示すように、積層型インダクタンス素子36は、コイルパターン6が形成されたグリーンシート30等のシート状磁性体を積層してなるコイル層4と、コイル層4を挟む磁性体層 (以下、ヨーク層という) 8, 10とを含む。ヨーク層8, 10は、それぞれコイル層4の上, 下にシート状磁性体32, 34を積層して形成することができる。
【0005】
コイルパターン6が形成されたグリーンシート30の一例を図7 (a) に示す。スルーホール42は下層のコイルパターンとの接続に使用する。スルーホール40は上層のグリーンシートに形成されたスルーホールであり、上層のコイルパターンとの接続に使用する。コイルパターン6は、スルーホール40, 42を介してそれぞれ上層,下層のコイルパターンと電気的に接続され、コイルを形成する。各層のコイルパターンの接続例を図8に示す。コイルパターンは実線で示し、スルーホールを介した他層のコイルパターンとの接続は破線で示す。
【0006】
積層型インダクタンス素子は、グリーンシート30の積層数を減少させることで、素子全体の小型化及び低背化の実現が可能である。
【0007】
しかし、積層型インダクタンス素子は、磁気回路的に閉じており (閉磁路) 、素子に印加される交流電流の直流電流成分が増加した場合、磁場が増加することにより、磁性体層が磁気飽和し、インダクタンスが低下するという問題が生じる。この問題の解決策として、磁性体層の間に非磁性体層を設けることにより、磁気抵抗を上げ、磁気飽和を防ぐ方法又はコイル巻数を増加させることにより、インダクタンス値が低下した場合でも、目標値よりも高い値が得られるようにする方法がある。しかし、非磁性体層を磁性体層間に設けた場合、グリーンシートのプレス及び焼結が困難である。また、コイル巻数を増加させるためには、コイルパターン6及びグリーンシート30の積層数を増加させる必要があり、低背化の面から限界がある。さらに、コイル長が長くなり、導体抵抗が大きくなる。
【0008】
コイルパターン6の1層あたりの巻数を増加させることで、低背化を実現しながらインダクタンスを増加させることも考えられる。例えば、図7 (b) に示すように、コイルパターン6の1層あたりの巻数が1回の場合 (以下、1回巻という) を仮定すると、コイルパターン6を6層積層したとき、合計巻数 (以下、ターン数という) が6ターンのコイル層が形成される。図9 (a), (b) に示すように、コイルパターン6の1層あたりの巻数が2回の積層型インダクタンス素子38の場合 (以下、2回巻という) 、コイルパターン6を3層積層したとき、ターン数が6ターンのコイル層が形成される。理論的には、コイルパターン6の1層あたりの巻数を2倍にすることで、コイルパターン6の積層数を半分にすることができる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、図9 (a) に示す2回巻の外側のコイルパターンの半径は、図7 (b) に示す1回巻のコイルパターンの半径とほぼ等しいが、2回巻の内側のコイルパターンの半径は、1回巻のコイルパターンの半径よりも小さくなる。そのため、同じ6ターンのコイル層であっても、1回巻のコイル層の方がインダクタンスは高くなる。コイルパターンの1層あたりの巻数を2倍にしても、巻数1回あたりのインダクタンスは2倍にはならない。
【0010】
コイルパターンを2回巻にした場合、コイル層の小型化及び低背化は実現できるが、インダクタンスは1回巻の場合より低下する。インダクタンスを低下させずに小型化及び低背化を実現することは困難である。
【0011】
そこで、本発明者らは、積層型インダクタンス素子に対する直流電流印加時の磁束分布を詳細に調査した結果、ヨーク層8, 10が磁気飽和することにより漏洩磁束が発生し、インダクタンスが低下することを知見した。本発明者らは、この知見に基づいて、ヨーク層の厚みに対するインダクタンス特性を調査した。その結果を図4に示す。ただし、素子の平面寸法は4. 5mm×3. 2mmであり、厚みは0. 86mmである。グリーンシートの厚みは33μmであり、コイルパターンを形成する導体の厚みは20μmである。印加する直流電流は300mAである。
【0012】
図4は、1回巻の場合及び2回巻の場合のターン数に対するインダクタンス特性を図示している。横軸 (下側) はコイルのターン数であり、縦軸はインダクタンスである。また、図4は、2回巻の場合のコイル層比率に対するインダクタンス特性も図示している。横軸 (上側) はコイル層比率であり、縦軸はインダクタンスである。ここで、コイル層比率は、素子の厚みに対するコイル層の厚みの割合である。素子の厚みは電源回路の設計仕様により制限されていることが多く、ヨーク層の厚みを増加させるためには、コイル層の厚みを減少させる必要がある。
【0013】
一般的に、ターン数が同一の場合、上述したように1回巻の方がインダクタンスは高くなるはずである。しかし、図4に示す調査結果から、2回巻の方がインダクタンスが高くなるコイル層比率の範囲が存在することが明らかになった。この結果に基づいてコイル層比率の範囲を定めることにより、インダクタンスを低下させずに素子の小型化及び低背化の実現が可能になると考えられる。
【0014】
本発明は斯かる事情に鑑みてなされたものであり、小型, 低背かつ高インダクタンスの積層型インダクタンス素子、及びその製造方法を提供することを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る積層型インダクタンス素子は、巻数が2回であるコイルパターンが夫々に形成された複数のシート状磁性体を連続して積層し、ターン数が17を超えるコイルを構成するコイル層と、コイルパターンが形成されていないシート状磁性体で構成され、前記コイル層を挟む磁性体層とを含み、前記コイル層の厚みが、全体の厚みの35〜60%の厚みであることを特徴とする。
【0016】
本発明に係る積層型インダクタンス素子の製造方法は、巻数が2回であるコイルパターンが夫々に形成された複数のシート状磁性体を連続して積層し、ターン数が17を超えるコイルを構成するコイル層と、コイルパターンが形成されていないシート状磁性体で構成され、前記コイル層を挟む磁性体層とを含む積層型インダクタンス素子を製造する方法であって、前記コイルパターンを形成するAgまたはAg−Pd合金を含む導体の厚みが、15〜30μmであり、前記コイルパターンが形成されたシート状磁性体の厚みが、5〜40μmであって、960度以下の温度での焼結により、前記コイル層の厚みを、全体の厚みの35〜60%の厚みとすることを特徴とする。
【0027】
本発明の積層型インダクタンス素子は、コイルパターンの1層あたりの巻数を2回とし、ターン数が17を超えるコイルを備えるコイル層の厚みを小さくする一方、コイル層の厚みの減少分の範囲内でヨーク層の厚みを増加して、直流電流印加時のヨーク層部分の磁気飽和を低減する。コイル層比率を35〜60%にることにより、コイルパターンの巻数を回にした場合でも、巻数が1回の場合よりも高いインダクタンスを得ることができる。
【0028】
また、本発明の積層型インダクタンス素子は、AgまたはAg−Pd合金を含む導体により15〜30μmの厚みを有してコイルパターンが形成してあり、5〜40μmの厚みを有するシート状磁性体を積層し、960度以下の温度にて焼結する手順により製造することができる。
【0029】
【発明の実施の形態】
以下、本発明をその実施の形態を示す図面に基づいて具体的に説明する。
【0030】
(第1の実施の形態)
図1は、本発明に係る積層型インダクタンス素子(以下、素子という)2の一例を示す断面図である。素子2は、従来 (図6 (a), (b))と同様に、コイルパターン6が形成されたグリーンシート30等のシート状磁性体を積層してなるコイル層4と、コイル層4の上下にグリーンシート32, 34等のシート状磁性体を積層してなるヨーク層8, 10とを含む。本実施の形態では、グリーンシート30, 32, 34は同一のシート状磁性体である。
【0031】
コイルパターン6の1層あたりの巻数は複数回である。図2に示すように、本実施の形態では、1層あたりの巻数は2回である。コイルパターンは実線で示し、スルーホールを介した他層のコイルパターンとの接続は破線で示す。
【0032】
本実施の形態では、素子2の厚みDは0. 86mmであり、素子2の平面寸法は、4. 5mm×3. 2mmである。ここで、素子2の厚みDは後述する焼結後の厚みである。以下、特に記載のない限り、厚みは全て焼結後の厚みである。
【0033】
コイルパターン6は、スクリーン印刷によって形成される。コイルパターン6を構成する導体材料は、AgまたはAg−Pd合金を含む。この導体の厚みは15〜30μmである。導体の厚みを15μm以下にした場合、コイルの抵抗値が、電源回路の使用に好ましくない大きさに増加する。コイルの抵抗値は1Ω以下が好ましい。コイルパターン6の厚みを30μm以上にした場合、コイルパターン6を挟むグリーンシート30の密着力が弱くなるので好ましくない。本実施の形態では、導体の厚みは20μmである。
【0034】
グリーンシート30, 32, 34を構成する磁性材料はNi−Zn−Cu系フェライトである。このフェライトの組成は、例えば、NiOが20%,ZnOが20%,CuOが13%,Fe2 3 が47%である。本実施の形態では、グリーンシート30, 32, 34の厚みは33μmである。グリーンシート32, 34の厚みはグリーンシート30の厚みと必ずしも同じである必要はない。グリーンシート30の直流電流印加時のB−H特性の一例を図3に示す。
【0035】
本実施の形態では、コイルパターン6の層数は10層である。ただし、図1では3層のみ図示している。コイルパターン6が形成されたグリーンシート30を10層積層し、その上下に所要数のグリーンシート32, 34を積層する。グリーンシート32, 34の積層数は、素子の厚みに基づいて定まる。素子2は、積層されたグリーンシート30, 32, 34をプレスした後、960度以下の温度で焼結される。
【0036】
なお、上述した第1の実施の形態では、ヨーク層8, 10としてグリーンシート32, 34等のシート状磁性体を複数積層したものを用いたが、図10に示すように、コイル層4を形成するコイルパターン6が形成されたグリーンシート30等のシート状磁性体よりも厚みが厚いシート状磁性体33, 35を1層あるいは複数層積層することにより、グリーンシート成形の効率化並びにプレス工程の短縮化を図ることができる。
【0037】
焼結後のグリーンシート30の厚みは33μm, 導体の厚みは20μm, コイルパターン6の層数は10層なので、コイル層4の厚みdcは、
(33μm×10) + (20μm×2) =0. 37mm
である。ここで、20μm×2=40μmは、コイル層4の最上層及び最下層部分の厚みである。素子2の厚みDは0. 86mmなので、コイル層比率は、
0. 37mm÷0. 86mm=0. 442
である。図4に示すように、コイル層比率が44. 2%の場合、2回巻の方がインダクタンスが高くなる。
【0038】
図4のグラフでは、コイル層比率が35%〜50%の場合、2回巻の方がインダクタンスが高い。低背化を実現しながら、1回巻よりも高いインダクタンスを得ることができる。コイル層比率が50%〜60%の場合、素子の厚み制限から1回巻の方のターン数が増加できなくなるために2回巻の方がインダクタンスは高い。コイル層比率が35%〜55%の場合、低背化を実現し、かつ1回巻と変わらない又はそれ以上のインダクタンスを得ることができる。
【0039】
ただし、図4は上述したある特定のパラメータにおける調査結果を図示しただけに過ぎない。コイルパターンの厚み,コイルパターンを形成するグリーンシートの厚み,グリーンシートを構成する磁性材料及び導体の材料等の種々のパラメータに応じて、2回巻の方がインダクタンスが高くなるコイル層比率の範囲が変動することは十分考えられる。コイル層比率は30%〜60%が好ましい。
【0040】
(第2の実施の形態)
コイルパターン6が形成されるグリーンシート30に、厚みの薄い極薄グリーンシートを使用することで、コイル層比率を減少させることもできる。本実施の形態の積層型インダクタンス素子の平面寸法は4. 5mm×3. 2mmであり、厚みは0. 86mmである。コイルパターン6の巻数は2回、導体の厚みは20μm、積層数は10層である。
【0041】
本実施の形態では、厚みが5〜40μmのグリーンシート30を使用する。ただし、この5〜40μmは、焼結前の厚みである。グリーンシート30の厚みが5μm以下の場合、コイルパターン6を挟んだグリーンシートの密着が困難になるので好ましくない。グリーンシート30の厚みが40μm以上の場合、コイルパターン6の間隔が広くなり、インダクタンスが低下するので好ましくない。また、厚みが40μm以上の場合、コイル層比率を増加させるので好ましくない。
【0042】
図5に、コイル層比率に対するインダクタンス特性を示す。印加する直流電流は300mAである。図5の縦軸 (左側) はインダクタンスであり、横軸はコイル層比率である。図5にコイル層比率に対するグリーンシート30の厚み特性も示す。図5の縦軸 (右側) はグリーンシートの厚みであり、横軸はコイル層比率である。図5に示すように、コイル層4を薄くする程、インダクタンスは増加する。グリーンシート30の厚みが5〜40μmの場合のコイル層比率は7〜60%である。
【0043】
コイルパターン6を挟んで密着させるため、コイルパターン6が形成されるグリーンシート30は、ある程度の厚みをもたせることが好ましい。グリーンシートの厚みは、20〜40μmが好ましい。このときのコイル層比率は30〜60%である。
【0044】
【発明の効果】
以上のように本発明の積層型インダクタンス素子及びその製造方法において、1層あたりのコイルパターン巻数が2回であるグリーンシートを積層し、ターン数が17を超えるコイル層を形成するという条件下で、コイル層を挟む磁性体層を含めた全体の厚みに対するコイル層の厚みを35〜60%としたから、ヨーク層の磁気飽和を低減することができる。これにより、小型化及び低背化を実現した高インダクタンスの積層型インダクタンス素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の積層型インダクタンス素子の一構成例を示す断面図である。
【図2】図1に示す各グリーンシートに形成されたコイルパターンの接続の概要を示す図である。
【図3】コイルパターンが形成されるグリーンシートの直流電流印加時のB−H特性を示す図である。
【図4】コイルパターンの積層数を変化させた場合のインダクタンスの変化を示す図である。
【図5】コイルパターンが形成されたグリーンシートの厚みを変化させた場合のインダクタンスの変化を示す図である。
【図6】従来の積層型インダクタンス素子の構成の概略を示す図であり、 (a) はコイル層とヨーク層の積層の概略を示す斜視図であり、 (b) は (a) のVI−VI線切断断面図である。
【図7】 (a) 及び (b) はグリーンシートに形成されたコイルパターンの一例を示す図である。
【図8】図6 (a) の各グリーンシートに形成されたコイルパターンの接続の概要を示す図である。
【図9】グリーンシートに形成されたコイルパターンの他の例を示す図であり、 (a) はグリーンシートの表面図であり、 (b) は (a) のIX−IX線切断断面図である。
【図10】ヨーク層を1枚のシート状磁性体で形成する場合の積層型インダクタンス素子の構成の概略を示す斜視図である。
【符号の説明】
2 積層型インダクタンス素子
4 コイル層
6 コイルパターン
8, 10 ヨーク層
30 コイルパターンが形成されるグリーンシート (シート状磁性体)
32, 33, 34, 35 ヨーク層を形成するグリーンシート (シート状磁性体)
36, 38 従来の積層型インダクタンス素子
40, 42 スルーホール

Claims (2)

  1. 巻数が2回であるコイルパターンが夫々に形成された複数のシート状磁性体を連続して積層し、ターン数が17を超えるコイルを構成するコイル層と、コイルパターンが形成されていないシート状磁性体で構成され、前記コイル層を挟む磁性体層とを含み、
    前記コイル層の厚みが、全体の厚みの35〜60%の厚みであることを特徴とする積層型インダクタンス素子。
  2. 巻数が2回であるコイルパターンが夫々に形成された複数のシート状磁性体を連続して積層し、ターン数が17を超えるコイルを構成するコイル層と、コイルパターンが形成されていないシート状磁性体で構成され、前記コイル層を挟む磁性体層とを含む積層型インダクタンス素子を製造する方法であって、
    前記コイルパターンを形成するAgまたはAg−Pd合金を含む導体の厚みが、15〜30μmであり、
    前記コイルパターンが形成されたシート状磁性体の厚みが、5〜40μmであって、
    960度以下の温度での焼結により、前記コイル層の厚みを、全体の厚みの35〜60%の厚みとすることを特徴とする積層型インダクタンス素子の製造方法。
JP2001102312A 2001-03-30 2001-03-30 積層型インダクタンス素子及び積層型インダクタンス素子の製造方法 Expired - Lifetime JP4724940B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001102312A JP4724940B2 (ja) 2001-03-30 2001-03-30 積層型インダクタンス素子及び積層型インダクタンス素子の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001102312A JP4724940B2 (ja) 2001-03-30 2001-03-30 積層型インダクタンス素子及び積層型インダクタンス素子の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002299123A JP2002299123A (ja) 2002-10-11
JP4724940B2 true JP4724940B2 (ja) 2011-07-13

Family

ID=18955528

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001102312A Expired - Lifetime JP4724940B2 (ja) 2001-03-30 2001-03-30 積層型インダクタンス素子及び積層型インダクタンス素子の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4724940B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007214341A (ja) * 2006-02-09 2007-08-23 Taiyo Yuden Co Ltd 積層インダクタ
KR101792273B1 (ko) 2012-06-14 2017-11-01 삼성전기주식회사 적층 칩 전자부품
KR101872529B1 (ko) 2012-06-14 2018-08-02 삼성전기주식회사 적층 칩 전자부품

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0334407A (ja) * 1989-06-30 1991-02-14 Tokin Corp 積層形インダクタ
JPH08130117A (ja) * 1994-10-31 1996-05-21 Kyocera Corp 積層インダクタ
JPH09148118A (ja) * 1995-11-24 1997-06-06 Tokin Corp 積層型圧粉磁芯
JPH09180938A (ja) * 1995-12-26 1997-07-11 Tokin Corp 積層インダクタおよびその製造方法
JPH09199328A (ja) * 1996-01-18 1997-07-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd 積層インダクタ部品およびその製造方法
JP2001023823A (ja) * 1999-07-09 2001-01-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd 積層チップインダクタ
JP2001044035A (ja) * 1999-07-30 2001-02-16 Murata Mfg Co Ltd 積層インダクタ
JP3364174B2 (ja) * 1999-07-30 2003-01-08 ティーディーケイ株式会社 チップフェライト部品およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2002299123A (ja) 2002-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3621300B2 (ja) 電源回路用積層インダクタ
KR101853135B1 (ko) 적층형 파워인덕터 및 이의 제조 방법
JP2004311944A (ja) チップタイプパワーインダクタ
JP2001044037A (ja) 積層インダクタ
CN103093947A (zh) 多层式电感器及其制造方法
JP2014022724A (ja) パワーインダクタ用磁性体モジュール、パワーインダクタ及びその製造方法
JP2008130736A (ja) 電子部品及びその製造方法
JPWO2005122192A1 (ja) 積層コイル
JP2015079931A (ja) 積層型電子部品
WO2008007705A1 (fr) Inducteur multicouche
JP2019067883A (ja) 磁気結合型コイル部品
US20130214889A1 (en) Multilayer type inductor and method of manufacturing the same
KR20160092779A (ko) 칩 전자부품 및 그 제조방법
US11640868B2 (en) Laminated coil component
KR101565705B1 (ko) 인덕터
JP5858630B2 (ja) インダクタ内蔵基板及び当該基板を含んでなる電気回路
JP4724940B2 (ja) 積層型インダクタンス素子及び積層型インダクタンス素子の製造方法
US20130027168A1 (en) Multilayer inductor and method of manufacturing the same
KR20190091421A (ko) 칩 전자부품의 제조방법
JP4400430B2 (ja) 積層型インダクタ
JP2004172396A (ja) フェライト材料及びインダクタンス素子
JP2001284125A (ja) 平面磁気素子
KR20150042169A (ko) 적층형 인덕터 및 그 제조 방법
KR20170097864A (ko) 코일 부품 및 그 제조방법
KR20200107151A (ko) 코일 부품

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20070608

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080129

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100521

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100525

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100723

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110315

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110328

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4724940

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140422

Year of fee payment: 3

EXPY Cancellation because of completion of term