JP4701030B2 - 露光装置、露光パラメータを設定する設定方法、露光方法、デバイス製造方法及びプログラム - Google Patents
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Description
本発明の一側面としてのプログラムは、光源からの光と光学系を用いてレチクルのパターンを被露光体に露光する際の露光パラメータの設定をコンピュータに実行させるためのプログラムであって、前記光学系を通過した前記光の偏光状態と基準の偏光状態とのずれを取得するステップと、前記取得された前記偏光状態のずれに基づいて、偏光に関するパラメータを除く前記光源の露光パラメータ及び前記光学系の露光パラメータのうち少なくとも1つを設定する設定ステップとを、前記プログラムに実行させ、前記偏光状態は、前記光学系の光軸に垂直な互いに直交する二方向の偏光強度、偏光強度比、偏光度及び位相差の少なくとも一を含むことを特徴とする。
輪帯状の有効光源の偏光度は任意な分布を持っている。これを例えば以下のように仮定する。
回路パターンの入ったレチクルに貼られているペリクルの膜厚は、レチクル毎にエリプソメーターなどの計測器で測定し、その測定値とペリクルの物性値データから計算により、瞳透過率分布と収差に変換する事ができる。これを用いてレチクル毎のペリクル誤差が結像に与える影響を補正する事が可能である。膜厚の管理は、ペリクル膜の絶対値でもよいし、計測用のピンホールレチクルに貼り付けられた基準ペリクルとの膜厚差で管理してもよい。
また、エリプソメータは外部の計測器を用いてもよいし、例えばレチクルステージ250の下側から偏光状態を変えられる光束をペリクル面に斜入射して、反射光をモニターするエリプソ光学系を装置の中に置いて、In-situ計測をしてもよい。
第2の露光装置での結像パターンをシミュレーションするために、まずは第2の露光装置のパラメータの初期値を決定する必要がある。第1の露光装置に関して全ての計測可能な特性をまず計測する。その後、対応する第2の露光装置の補正敏感度テーブルと第2の露光装置の計測値を用いて、第一の露光装置の計測値に近づくように、各パラメータを補正する。第1の露光装置の未知のパラメータに関しては、第2の露光装置の現状の計測値をそのままシミュレータの条件に入力する。
120 照明光学系
200 レチクル(マスク)
300 投影光学系
400 プレート
500 制御部
700 シミュレータ
Claims (13)
- 光源からの光を用いてレチクルのパターンを被露光体に露光する露光装置において、
前記光を導く光学系と、
前記光学系を通過した前記光の偏光状態と基準の偏光状態とのずれを計測する計測部と、
前記計測部によって計測された前記偏光状態のずれに基づいて、偏光に関するパラメータを除く前記光源の露光パラメータ及び前記光学系の露光パラメータのうち少なくとも一の露光パラメータを制御する制御部とを有し、
前記偏光状態は、前記光学系の光軸に垂直な互いに直交する二方向の偏光強度、偏光強度比、偏光度及び位相差の少なくとも一を含むことを特徴とする露光装置。 - 前記制御部は、別の露光装置に対して前記レチクルのパターンを解像するために前記パターンの大きさ又は形状が部分的に変更されている場合に前記パターンの変更情報に更に基づいて、前記露光パラメータを制御することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記光学系は、前記レチクルを照明する照明光学系と、前記パターンを前記被露光体に投影する投影光学系とを有し、
前記露光パラメータは、前記光の波長幅、有効光源形状及び当該有効光源の輝度分布、前記照明光学系から射出される前記光の傾き、前記投影光学系の開口数、瞳透過率分布及び収差の少なくとも一を含むことを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 光源からの光と光学系を用いてレチクルのパターンを被露光体に露光する際の露光パラメータを設定する設定方法であって、
前記光学系を通過した前記光の偏光状態と基準の偏光状態とのずれを取得するステップと、
前記取得された前記偏光状態のずれに基づいて、偏光に関するパラメータを除く前記光源の露光パラメータ及び前記光学系の露光パラメータのうち少なくとも1つを設定する設定ステップとを有し、
前記偏光状態は、前記光学系の光軸に垂直な互いに直交する二方向の偏光強度、偏光強度比、偏光度及び位相差の少なくとも一を含むことを特徴とする設定方法。 - 前記光学系は、前記レチクルを照明する照明光学系と、前記パターンを前記被露光体に投影する投影光学系とを有し、
前記露光パラメータは、前記光の波長幅、有効光源形状及び当該有効光源の輝度分布、前記照明光学系から射出される前記光の傾き、前記投影光学系の開口数、瞳透過率分布及び収差の少なくとも一を含むことを特徴とする請求項4記載の設定方法。 - 前記光学系は、前記レチクルを照明する照明光学系を有し、
前記設定ステップは、実際の偏光度の像高間の差が許容可能ではない場合に、積算露光量及び像高毎の前記照明光学系から射出される前記光の傾きの少なくとも一を含む露光パラメータを変更するステップを有することを特徴とする請求項4記載の設定方法。 - 前記光学系は、前記パターンを前記被露光体に投影する投影光学系を有し、
前記設定ステップは、前記投影光学系の複屈折及び瞳透過率の少なくとも1つが許容範囲ではない場合に、前記投影光学系の収差及び瞳透過率の少なくとも一を含む露光パラメータを変更するステップを有することを特徴とする請求項4記載の設定方法。 - 前記取得ステップは、
前記光学系の照明分布、収差分布、偏光分布及び瞳透過率分布に関する情報を含む特性情報を取得するステップと、
前記レチクルのパターンの情報を取得するステップとを有し、
前記設定方法は、前記特性情報と前記パターンの情報に基づいて前記パターンの結像状態のシミュレーションを行うステップを更に有し、
前記設定ステップは、前記シミュレーション結果に基づいて、前記光源の露光パラメータ、前記光学系の露光パラメータ、前記パターンの大きさ及び前記パターンの形状のうち少なくとも1つを設定することを特徴とする請求項4記載の設定方法。 - 前記取得ステップでは、偏光状態として露光スリット内の平均偏光度を取得し、
前記設定ステップでは、露光スリット内の平均偏光度に基づいて前記露光パラメータを設定することを特徴とする請求項4記載の設定方法。 - 前記取得ステップでは、偏光状態の露光スリット内の像高分布を取得し、
前記設定ステップでは、偏光状態の露光スリット内の像高分布に基づいて前記露光パラメータを設定することを特徴とする請求項4に記載の設定方法。 - 光源からの光を用いてレチクルのパターンを被露光体に露光する露光方法において、
請求項4乃至10のうちいずれか一項に記載の設定方法を用いて露光パラメータを設定するステップと、
前記設定された露光パラメータを用いて前記レチクルのパターンを前記被露光体に露光するステップとを有することを特徴とする露光方法。 - 請求項11に記載の露光方法を用いて被露光体を露光するステップと、
前記露光された被露光体を現像するステップと、
前記現像された被露光体からデバイスを形成するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。 - 光源からの光と光学系を用いてレチクルのパターンを被露光体に露光する際の露光パラメータの設定をコンピュータに実行させるためのプログラムであって、
前記光学系を通過した前記光の偏光状態と基準の偏光状態とのずれを取得するステップと、
前記取得された前記偏光状態のずれに基づいて、偏光に関するパラメータを除く前記光源の露光パラメータ及び前記光学系の露光パラメータのうち少なくとも1つを設定する設定ステップとを、
前記プログラムに実行させ、
前記偏光状態は、前記光学系の光軸に垂直な互いに直交する二方向の偏光強度、偏光強度比、偏光度及び位相差の少なくとも一を含むことを特徴とするプログラム。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005212254A JP4701030B2 (ja) | 2005-07-22 | 2005-07-22 | 露光装置、露光パラメータを設定する設定方法、露光方法、デバイス製造方法及びプログラム |
TW095126818A TWI348596B (en) | 2005-07-22 | 2006-07-21 | Exposure apparatus and method |
KR1020060068255A KR100871505B1 (ko) | 2005-07-22 | 2006-07-21 | 노광장치 및 방법 |
CN2006101059883A CN1900828B (zh) | 2005-07-22 | 2006-07-21 | 曝光装置、设定方法、曝光方法及器件制造方法 |
US11/459,117 US7864296B2 (en) | 2005-07-22 | 2006-07-21 | Exposure apparatus, setting method, and exposure method having the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005212254A JP4701030B2 (ja) | 2005-07-22 | 2005-07-22 | 露光装置、露光パラメータを設定する設定方法、露光方法、デバイス製造方法及びプログラム |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007035671A JP2007035671A (ja) | 2007-02-08 |
JP2007035671A5 JP2007035671A5 (ja) | 2011-03-10 |
JP4701030B2 true JP4701030B2 (ja) | 2011-06-15 |
Family
ID=37656739
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005212254A Expired - Fee Related JP4701030B2 (ja) | 2005-07-22 | 2005-07-22 | 露光装置、露光パラメータを設定する設定方法、露光方法、デバイス製造方法及びプログラム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7864296B2 (ja) |
JP (1) | JP4701030B2 (ja) |
KR (1) | KR100871505B1 (ja) |
CN (1) | CN1900828B (ja) |
TW (1) | TWI348596B (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
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- 2005-07-22 JP JP2005212254A patent/JP4701030B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-07-21 US US11/459,117 patent/US7864296B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-07-21 KR KR1020060068255A patent/KR100871505B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2006-07-21 CN CN2006101059883A patent/CN1900828B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-07-21 TW TW095126818A patent/TWI348596B/zh active
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20070046921A1 (en) | 2007-03-01 |
CN1900828B (zh) | 2011-11-02 |
TWI348596B (en) | 2011-09-11 |
US7864296B2 (en) | 2011-01-04 |
JP2007035671A (ja) | 2007-02-08 |
KR100871505B1 (ko) | 2008-12-05 |
CN1900828A (zh) | 2007-01-24 |
TW200717186A (en) | 2007-05-01 |
KR20070012248A (ko) | 2007-01-25 |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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