JP4640535B1 - 透明導電性フィルム及びこれを用いたタッチパネル - Google Patents
透明導電性フィルム及びこれを用いたタッチパネル Download PDFInfo
- Publication number
- JP4640535B1 JP4640535B1 JP2010515707A JP2010515707A JP4640535B1 JP 4640535 B1 JP4640535 B1 JP 4640535B1 JP 2010515707 A JP2010515707 A JP 2010515707A JP 2010515707 A JP2010515707 A JP 2010515707A JP 4640535 B1 JP4640535 B1 JP 4640535B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent conductive
- film
- refractive index
- thin film
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
- H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
- G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
- G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Human Computer Interaction (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Position Input By Displaying (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
本発明は、透明プラスチックフィルムからなる基材上に、高屈折率層、低屈折率層及び透明導電性薄膜層をこの順に積層した透明導電性フィルムであって、高屈折率層は酸化スズの含有率が10〜60質量%である非晶質なインジウム−スズ複合酸化物からなる無機薄膜であり、低屈折率層は屈折率が1.30〜1.60の無機薄膜からなり、透明導電性薄膜層は屈折率が1.80〜2.20の無機薄膜よりなり、かつ透明導電性フィルムの分光透過率のピークが450〜530nmに存在し、かつ全光線透過率が90%以上、カラーb値が−2〜2である透明導電性フィルムに関する。
【選択図】図1
Description
すなわち、電極フィルムの透過率が低い場合、液晶ディスプレイ等の表示体の輝度が低下し、表示画面が暗くなるため表示がみづらくなる。また電極フィルムが着色している場合、液晶ディスプレイ等の表示色(特に白色)の色表示が変化し、鮮明な画像が得られにくくなる。このため、電極フィルムには透過率が高く、かつ着色の少ないことが望まれている。
一方、液晶ディスプレイ等の表示体は大画面化が望まれている。そのため、表示ディスプレイを含む筐体エリア(額縁)はより狭くなり、タッチパネルとしてもより狭い額縁化が望まれ、さらにタッチパネルの額縁近傍は筐体内に収まらずに表示エリア上に存在する状態になってきた。
タッチパネルは、透明導電層を有する一対の透明導電性基板を、透明導電層が対向するようにスペーサーを介して配置してなる。タッチパネルをペン入力する際、固定電極側の透明導電性薄膜と可動電極(フィルム電極)側の透明導電性薄膜同士が接触するが、特に額縁近傍では、可動電極側の透明導電性薄膜に、ペン荷重による強い曲げストレスがかかる。このため、ペン荷重による強い曲げストレスがかかっても、透明導電性薄膜にクラック、剥離などの破壊が生じない、額縁近傍でのペン摺動耐久性に優れる透明導電性フィルムが要望されている。
1. 透明プラスチックフィルムからなる基材上に、高屈折率層、低屈折率層及び透明導電性薄膜層をこの順に積層した透明導電性フィルムであって、高屈折率層は酸化スズの含有率が20〜60質量%である非晶質なインジウム−スズ複合酸化物からなる無機薄膜であり、低屈折率層は屈折率が1.30〜1.60の無機薄膜からなり、透明導電性薄膜層は屈折率が1.80〜2.20の無機薄膜よりなり、かつ透明導電性フィルムの分光透過率のピークが450〜530nmに存在し、かつ全光線透過率が90%以上、カラーb値が−2〜2であることを特徴とする透明導電性フィルム。
2. 前記透明プラスチックフィルムからなる基材の透明導電性薄膜層が積層された面の反対面に低反射処理を施したことを特徴とする前記1.記載の透明導電性フィルム。
3. 前記1.又は2.に記載の透明導電性フィルムの透明導電性薄膜層が積層された面の反対面に、粘着剤を介して透明樹脂シートが貼り合わされていることを特徴とする透明導電性シート。
4. 透明導電性薄膜層を有する一対のパネル板を透明導電性薄膜層が対向するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパネルであって、少なくとも一方のパネル板が前記1.〜3.のいずれかに記載の透明導電性フィルムもしくは透明導電性シートからなることを特徴とするタッチパネル。
本発明で用いる透明プラスチックフィルムからなる基材とは、有機高分子を溶融押出し又は溶液押出しをして、必要に応じ、長手方向及び/又は幅方向に延伸、冷却、熱固定を施したフィルムである。有機高分子としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ナイロン6、ナイロン4、ナイロン66、ナイロン12、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルサルファン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアリレート、セルロースプロピオネート、ポリ塩化ビニール、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキサイド、ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、ノルボルネン系ポリマーなどが挙げられる。
本発明における高屈折率層は酸化スズの含有率が10〜60質量%である非晶質なインジウム−スズ複合酸化物からなる無機薄膜である。より好ましくは酸化スズの含有率が20〜50質量%であり、さらに好ましくは30〜45質量%である。
高屈折率層は、少なくとも低屈折率層(屈折率が1.30〜1.60)より高い屈折率を持つ層である。低屈折率層より高い屈折率を持つ層を透明プラスチックフィルム基材上に形成することによって、光の干渉効果が得られる。
一般的に高屈折率層としてはTiO2、Nb2O5、In2O3が用いられる。しかしながら例えばスパッタリング法によりTiO2膜、Nb2O5膜を形成する場合、成膜速度が遅く生産性が低下する。このため生産性の観点からは高屈折率層としてインジウム酸化物が好ましい。
しかし、In2O3あるいは酸化スズ含有率の低いインジウム−スズ複合酸化膜を形成する場合、生産性は優れるものの、スパッタリングでの成膜中あるいはタッチパネル製造工程中にかかる熱処理により高屈折率層が結晶化する。高屈折率層が結晶化している透明導電性フィルム用いて作製したタッチパネルでは額縁近傍でのペン摺動耐久性が劣る。従って、高屈折率層には結晶粒が存在しないことが好ましい。具体的には、実施例の蘭に記載した測定において結晶粒が観測されないものが好ましい。
なお、酸化スズの含有率が10〜60質量%の範囲であっても、酸化スズの含有量が低い領域では製膜条件によって結晶化することがある。特に不活性ガスに対する水分圧の比が低い場合には結晶化しやすい。このような酸化スズの含有量が低い場合(例えば20質量%以下)では、特に不活性ガスに対する水分圧の比を高くすることにより、結晶化を抑制することができる。好ましい不活性ガスに対する水分圧の比は酸化スズの含有率量によって異なるが、例えばスズ含有率が10質量%の場合、3×10−3以上とすることが好ましい。不活性ガスに対する水分圧の比を高くするためには、製膜前の真空暴露条件を調整することによりフィルムの含有水分量を高めにする方法、製膜時にフィルム温度を比較的高くする方法、意図的に水蒸気を導入する方法等任意の方法が挙げられる。その他、使用する基材フィルムの水分含有率によっても左右されるため、これを考慮して適正条件を決める必要がある。また、酸素の分圧比を低くすることによっても結晶化を抑制することが出来る。
スパッタリング法では一般的に金属ターゲットから反応性ガスを導入して金属酸化物を作製する反応性スパッタリング法と酸化物ターゲットから金属酸化物を作製する方法がある。膜厚のバラツキを抑制するには酸化物ターゲットを用いることが好ましい。
本発明における低屈折率層の屈折率は、1.30〜1.60が好ましく、さらに好ましくは1.40〜1.50である。具体的にはSiO2、Al2O3などの透明金属酸化物、あるいはSiO2−Al2O3等の複合金属酸化物からなる層が挙げられる。屈折率が1.30未満の場合、低屈折率層がポーラスな膜となりその上に形成する透明導電性薄膜層の電気特性を阻害してしまう。一方、屈折率が1.60を越える場合には、前記光学特性を満足することが困難となる。
本発明における透明導電性薄膜層は屈折率が1.80〜2.20の無機薄膜よりなる。より好ましくは、1.90〜2.10の無機薄膜であり、さらに好ましくは1.93〜2.05の無機薄膜である。透明導電性薄膜の屈折率が1.80未満の場合は、導電性の良好な透明導電性薄膜層を形成することが困難である。一方、屈折率が2.20を超える場合も導電性の良好な透明導電性薄膜層を形成することが困難であり、さらに、空気と透明導電性薄膜層との界面での反射が大きくなり、前記光学特性を満たすことが困難となる。
具体的には酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物などが挙げられる。また、屈折率調整のために金属酸化物を適宜添加しても構わない。これらのうち、環境安定性や回路加工性の観点から、インジウム−スズ複合酸化物が好適である。
本発明の透明導電性フィルムは、上記の透明プラスチックフィルムからなる基材上に、高屈折率層、低屈折率層及び透明導電性薄膜層の順に積層した構成を有し、特定波長領域に透過率のピークが存在するため、高精細な表示体の前面に配置しても視認性の低下を抑制できる。
更に、本発明の透明導電性フィルムのカラーb値が−2〜2であるので、本発明の透明導電性フィルムをタッチパネルなどの部材に使用した時に、液晶ディスプレイ等の表示体の表示色を損なうことを抑制できる。より好ましいカラーb値は−1.0〜1.5であり、さらに好ましくは0〜1.5である。
また、タッチパネルとした際にニュートンリングの発生を防止する目的で、透明プラスチックフィルムの説明において記載した硬化物層に中心線平均粗さ(Ra)が0.1〜0.5μmの範囲になるように粒子を含有させることが好ましい。Raが0.1未満の場合には、ニュートンリングの発生を防止することが難しくなる。一方、Raが0.5μmを超える場合には、透明導電性薄膜表面が粗くなりすぎて、ペン摺動耐久性が悪くなる傾向がある。
また、タッチパネルとした際の最外層(ペン入力面)の耐擦傷性を、さらに改善させるために、透明プラスチックフィルムの透明導電性薄膜を形成させた表面とは反対面(タッチパネルとした際の最外層のペン入力面)に、ハードコート層を設けることが好ましい。前記ハードコート層の硬度は、鉛筆硬度で2H以上であることが好ましい。2H未満の硬度では、透明導電性フィルムのハードコート層としては耐擦傷性の点で不十分である。
本発明の透明導電性シートは、本発明の透明導電性フィルムの透明導電性薄膜層が積層された面の反対面に、粘着剤を介して透明樹脂シートが貼り合わせ積層することで得られる。本発明の透明導電性シートは、タッチパネルの固定電極に用いることができる。すなわち、タッチパネルの固定電極の基板をガラスから本発明の透明樹脂シートに変更することで、軽量かつ割れにくいタッチパネルを作製することができる。
タッチパネルは、透明導電性薄膜層を有する一対の透明導電性基板(フィルム、ガラス、シートのいずれか)を、透明導電性薄膜層が対向するようにスペーサーを介して配置してなる。ペンにより文字を入力した時に、ペンからの押圧により、対向した透明導電性薄膜同士が接触し、電気的にONの状態になり、タッチパネル上でのペンの位置を検出することができる。このペン位置を連続的かつ正確に検出することで、ペンの軌跡から文字を認識することができる。
JIS−K7136に準拠し、日本電色工業(株)製NDH−1001DPを用いて、光線透過率を測定した。
JIS−K7194に準拠し、4端子法にて測定した。測定機は、三菱油化(株)製 Lotest AMCP−T400を用いた。
JIS−K7105に準拠し、色差計(日本電色工業製、ZE−2000)を用いて、標準の光C/2でカラーa値、b値を測定した。
分光光度計(日立U−3500型)を用いて、380〜780nmの範囲で透明導電性薄膜側に光が照射するようにして、室内の空気を透過率の参照として測定した。測定結果より透過率が最大値となる波長をピーク波長とした。
高屈折率層、透明導電性薄膜を積層したフィルム試料片を300μm×300μmの正方形に切り出し、ウルトラミクロトームの試料ホルダに、薄膜面を手前にして固定した。次いで、1μm×1μm以上の目的観察部位を持つ切片を得られる程度にナイフをフィルム面に対して極めて鋭角に設置し、設定厚み70nmで切削した。
この切片の導電性薄膜表面側でかつ薄膜の著しい損傷がない部位において、1μm×1μmの観察視野を確保し、透過型電子顕微鏡(JEOL社製、JEM−2010)を用い、加速電圧200kV、明視野で観察倍率5万倍にて写真撮影を行って結晶性を評価した。
タッチパネルの貼合部の内側から1.5mm離れた位置をポリアセタール製のペン(先端の形状:0.8mmR)に2.5Nの荷重をかけ、1万回(往復5000回)の直線摺動試験をタッチパネルに行った。この時の摺動距離は30mm、摺動速度は60mm/秒とした。さらに、タッチパネルの上下基板のギャップは150μmであった。この摺動耐久性試験後に、まず、摺動部が白化しているかを目視によって観察した。また、摺動部位近辺を顕微鏡にて観察し、クラックの発生がないか観察した。さらに、ペン荷重1.0Nで摺動部を押さえた際の、ON抵抗(可動電極(フィルム電極)と固定電極とが接触した時の抵抗値)を測定した。
ポリアセタール製のペン(先端の形状:0.8mmR)に2.5Nの荷重をかけ、10万回(往復5万回)の直線摺動試験をタッチパネルに行った。この時の摺動距離は30mm、摺動速度は60mm/秒とした。この摺動耐久性試験後に、まず、摺動部が白化しているかを目視によって観察した。さらに、ペン荷重0.5Nで上記の摺動部にかかるように20mmφの記号○印を筆記し、タッチパネルがこれを正確に読みとれるかを評価した。さらに、ペン荷重0.5Nで摺動部を押さえた際の、ON抵抗(可動電極(フィルム電極)と固定電極とが接触した時の抵抗値)を測定した。
透明導電性フィルムを、(株)ナガノ科学機械製作所製のLH43−12Pを用いて85℃、85%RHの雰囲気下で1000時間暴露した。この処理後に表面抵抗値、光線透過率、カラーを測定した。
高屈折率層、低屈折率層、透明導電性薄膜層を積層したフィルム試料片を1mm×10mmの大きさに切り出し、電子顕微鏡用エポキシ樹脂に包埋した。これをウルトラミクロトームの試料ホルダに固定し、包埋した試料片の短辺に平行な断面薄切片を作製した。次いで、この切片の薄膜の著しい損傷がない部位において、透過型電子顕微鏡(JEOL社製、JEM−2010)を用い、加速電圧200kV、明視野で観察倍率1万倍にて写真撮影を行って得られた写真から膜厚を求めた。
シリコンウェハー上に各層をそれぞれ同成膜条件にて作製した試料について分光エリプソメーター(大塚電子株式会社製、FE−5000)を用いて550nmの屈折率を評価した。また、各層を設けたフィルムの分光透過率測定データに対して光学シミュレーションソフトを用いてフィッティングを行い、屈折率を算出した。この際、各層の膜厚は前記膜厚評価方法により評価した値を用いた。さらにこのように算出した各層の屈折率がシリコンウェハー上の各層の屈折率と大差ないことを確認した。
光重合開始剤含有アクリル系樹脂(大日精化工業社製、セイカビームEXF−01J)100質量部に、溶剤としてトルエン/MEK(80/20:質量比)の混合溶媒を、固形分濃度が50質量%になるように加え、撹拌して均一に溶解し塗布液を調製した。
この透明導電性フィルムを一方のパネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス基板上にプラズマCVD法で厚みが20nmのインジウム−スズ複合酸化物薄膜(酸化スズ含有量:10質量%)からなる透明導電性薄膜(日本曹達社製、S500)を用いた。この2枚のパネル板を透明導電性薄膜が対向するように、直径30μmのエポキシビーズを介して、配置しタッチパネルを作製した。
実施例1において高屈折率層を作製するターゲットとして酸化スズを10質量%含有した酸化インジウム(住友金属鉱山社製、密度7.1g/cm3)とし、O2ガス流量を表面抵抗値が最小となる流量の5倍とした以外は実施例1と同様にして透明導電性フィルムを作製した。得られた高屈折率層の表面抵抗値は1×106Ω/□以上であった。さらに、この透明導電性フィルムを用いて、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。なお、不活性ガスに対する水分圧の比は5×10−3であった。
実施例1において高屈折率層を作製するターゲットとして酸化スズを5質量%含有した酸化インジウム(三井金属鉱業社製、密度7.1g/cm3)とした以外は実施例1と同様にして透明導電性フィルムを作製した。さらに、この透明導電性フィルムを用いて、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
実施例1において低屈折率層の膜厚を70nmとした以外は実施例1と同様にして透明導電性フィルムを作製した。さらに、この透明導電性フィルムを用いて、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
実施例1において低屈折率層の膜厚を40nmとした以外は実施例1と同様にして透明導電性フィルムを作製した。さらに、この透明導電性フィルムを用いて、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
実施例1と同様にしてハードコート層/二軸配向透明PETフィルムからなる基材/硬化物層/高屈折率層/低屈折率層/透明導電性薄膜層からなる積層体を作製し、次いで、このハードコート層上に順次TiO2薄膜層(屈折率:2.30、膜厚15nm)、SiO2薄膜層(屈折率:1.46、膜厚29nm)、TiO2薄膜層(屈折率:2.30、膜厚109nm)、SiO2薄膜層(屈折率:1.46、膜厚87nm)を積層することで反射防止処理層を形成した。TiO2薄膜層を形成するには、チタンをターゲットに用いて、直流マグネトロンスパッタリング法で、真空度を0.27Paとし、ガスとしてArガスを500sccm、O2ガスを80sccmの流速で流した。また、基板の背面には表面温度が0℃の冷却ロールを設けて、透明プラスチックフィルムを冷却した。このときのターゲットには7.8W/cm2の電力を供給し、ダイナミックレートは23nm・m/分であった。
実施例1と同様にして作製した透明導電性フィルムを、アクリル系粘着剤を介して、厚みが1.0mmのポリカーボネート製のシートに貼り付けて、透明導電性積層シートを作製した。この透明導電性積層シートを固定電極として用い、実施例1の透明導電性フィルムを可動電極に用いて、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
実施例1において低屈折率層としてフッ化マグネシウム(MgF2)からなる薄膜を成膜した以外は、実施例1と同様にして透明導電性フィルムを形成した。
このとき、スパッタリング前の圧力を0.0001Paとし、ターゲットとしてフッ化マグネシウム(三井金属製)に用いて、2W/cm2の13.56MHzの高周波電力を印加しマグネトロンスパッタリング法で、真空度を0.27Pa、ガスとしてArガスを500sccmの流速で流し成膜を行った。また、成膜中の電圧値を常時観測しながら、電圧値が一定となるように酸素ガスの流量計にフィートバックした。以上のようにして、厚さ60nm、屈折率1.36の低屈折率層を堆積させた。
さらに、この透明導電性フィルムを用いて、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
実施例1において硬化物層上に低屈折率層としてアルミニウムーシリコン複合酸化物(Al 2 O3−SiO 2 )からなる薄膜を成膜した以外は、実施例1と同様にして透明導電性フィルムを形成した。
このとき、スパッタリング前の圧力を0.0001Paとし、ターゲットとしてAl−Si(50:50wt%)(三井金属製)に用いて、2W/cm2のDC電力を印加しマグネトロンスパッタリング法で、真空度を0.27Pa、ガスとしてArガスを500sccm、O2ガスを80sccmの流速で流し成膜を行った。また、成膜中の電圧値を常時観測しながら、電圧値が一定となるように酸素ガスの流量計にフィートバックした。以上のようにして、厚さ50nm、屈折率1.55の低屈折率層を堆積させた。
さらに、この透明導電性フィルムを用いて、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
実施例1において高屈折率層を作製するターゲットとして酸化スズを20質量%含有した酸化インジウム(住友金属鉱山社製、密度7.0g/cm3)とし、O2ガス流量を表面抵抗値が最小となる流量の4倍とした以外は実施例1と同様にして透明導電性フィルムを作製した。得られた高屈折率層の表面抵抗値は1×106Ω/□以上であった。さらに、この透明導電性フィルムを用いて、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
実施例1においてガリウムをドープした酸化亜鉛薄膜を透明導電性薄膜に用いた以外は実施例1と同様にして透明導電性フィルムを作製した。ターゲットとして酸化ガリウムを5質量%含有した酸化亜鉛(東ソー社製)に用いて、2W/cm2のDC電力を印加した。また、Arガスを130sccm、O2ガスを表面抵抗値が最小となる流速で流し、0.4Paの雰囲気下でDCマグネトロンスパッタリング法を用いて成膜し、厚さ14nm、屈折率2.05の透明導電性薄膜を得た。さらに、この透明導電性フィルムを用いて、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
高屈折率層の厚みを40nmとした以外は実施例1と同様にして、透明導電性フィルムおよびタッチパネルを作製した。
低屈折率層の厚みを50nmとした以外は実施例1と同様にして、透明導電性フィルムおよびタッチパネルを作製した。
透明導電性薄膜の厚みを10nmとした以外は実施例1と同様にして、透明導電性フィルムおよびタッチパネルを作製した。
透明導電性薄膜の厚みを22nmとした以外は実施例1と同様にして、透明導電性フィルムおよびタッチパネルを作製した。
実施例1において高屈折率層を作製するターゲットとして酸化スズを55質量%含有した酸化インジウム(住友金属鉱山社製、密度6.7g/cm3)とし、O2ガス流量を表面抵抗値が最小となる流量の2.5倍とした以外は実施例1と同様にして透明導電性フィルムを作製した。得られた高屈折率層の表面抵抗値は1×106Ω/□以上であった。さらに、この透明導電性フィルムを用いて、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
実施例1において低屈折率層としてジルコニア−シリコン複合酸化物(ZrO2−SiO2)からなる薄膜を成膜した以外は、実施例1と同様にして透明導電性フィルムを形成した。
このとき、スパッタリング前の圧力を0.0001Paとし、ターゲットとしてZrSi2(三井金属製)に用いて、2W/cm2のDC電力を印加し直流マグネトロンスパッタリング法で、真空度を0.27Pa、ガスとしてArガスを500sccm、O2ガスを80sccmの流速で流し成膜を行った。また、成膜中の電圧値を常時観測しながら、電圧値が一定となるように酸素ガスの流量計にフィートバックした。以上のようにして、厚さ45nm、屈折率1.75の低屈折率層を堆積させた。
参考例1において、製膜前の巻き返し時の圧力をさらに1桁向上させて0.0002Paとした以外は、参考例1と同様にして透明導電性フィルムを作製した。この時の不活性ガスに対する水分圧の比は1×10−3であった。さらにこの透明導電性フィルムを用いて実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
実施例1において高屈折率層を作製するターゲットとして酸化スズを75質量%含有した酸化インジウム(住友金属鉱山社製、密度5.8g/cm3)とし、O2ガス流量を表面抵抗値が最小となる流量の2倍とした。しかしながら、スパッタリング中に異常放電が多発し、高屈折率層を成膜することが出来なかった。
実施例1においてチタンおよびスズをドープした酸化インジウム薄膜を透明導電性薄膜に用いた以外は実施例1と同様にして透明導電性フィルムを作製した。ターゲットとして酸化インジウム:酸化スズ:酸化チタン=60:10:30重量%(住友金属鉱山社製)に用いて、2W/cm2のDC電力を印加した。また、Arガスを130sccm、O2ガスを表面抵抗値が最小となる流速で流し、0.4Paの雰囲気下でDCマグネトロンスパッタリング法を用いて成膜し、厚さ15nm、屈折率2.25の透明導電性薄膜を得た。さらに、この透明導電性フィルムを用いて、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
実施例1においてシリコンおよびスズをドープした酸化インジウム薄膜を透明導電性薄膜に用いた以外は実施例1と同様にして透明導電性フィルムを作製した。ターゲットとして酸化インジウム:酸化スズ:酸化シリコン=60:10:30重量%(住友金属鉱山社製)に用いて、2W/cm2のDC電力を印加した。また、Arガスを130sccm、O2ガスを表面抵抗値が最小となる流速で流し、0.4Paの雰囲気下でDCマグネトロンスパッタリング法を用いて成膜し、厚さ18nm、屈折率1.75の透明導電性薄膜を得た。さらに、この透明導電性フィルムを用いて、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
高屈折率層の厚みを30nmとした以外は実施例1と同様にして、透明導電性フィルムおよびタッチパネルを作製した。
高屈折率層の厚みを60nmとした以外は実施例1と同様にして、透明導電性フィルムおよびタッチパネルを作製した。
透明導電性薄膜の厚みを30nmとした以外は実施例1と同様にして、透明導電性フィルムおよびタッチパネルを作製した。
また、低屈折率層または高屈折率層または透明導電性薄膜の膜厚が厚い〔比較例2、10、11〕は全光線透過率が本願発明の範囲外であり透明性が悪く、低屈折率層または高屈折率層の膜厚が薄い〔比較例3、9〕はカラーb値が本願発明の範囲外であり色彩が悪く、これらの透明導電性フィルムを用いたタッチパネルは視認性が劣るものであった。比較例4、比較例7は低屈折率層または透明導電性薄膜の屈折率が高いためカラーb値が本願発明の範囲外であり色彩が悪い。
比較例7、8は表面抵抗が高すぎ、タッチパネル用途に適さない。さらに比較例6は酸化インジウムに対する酸化スズの割合が多すぎて異常放電が多く、スパッタリング中の異常放電が多く、成膜を行うことが出来なかった。
11:透明プラスチックフィルム(基材)
12:硬化物層
13:高屈折率層
14:低屈折率層
15:透明導電性薄膜層
16:ハードコート層
20:ビーズ
30:ガラス板
40:透明導電性シート
41:粘着剤
42:透明樹脂シート
Claims (4)
- 透明プラスチックフィルムからなる基材上に、高屈折率層、低屈折率層及び透明導電性薄膜層をこの順に積層した透明導電性フィルムであって、高屈折率層は酸化スズの含有率が20〜60質量%である非晶質なインジウム−スズ複合酸化物からなる無機薄膜であり、低屈折率層は屈折率が1.30〜1.60の無機薄膜からなり、透明導電性薄膜層は屈折率が1.80〜2.20の無機薄膜よりなり、かつ透明導電性フィルムの分光透過率のピークが450〜530nmに存在し、かつ全光線透過率が90%以上、カラーb値が−2〜2であることを特徴とする透明導電性フィルム。
- 前記透明プラスチックフィルムからなる基材の透明導電性薄膜層が積層された面の反対面に低反射処理を施したことを特徴とする請求項1記載の透明導電性フィルム。
- 請求項1又は2に記載の透明導電性フィルムの透明導電性薄膜層が積層された面の反対面に、粘着剤を介して透明樹脂シートが貼り合わされていることを特徴とする透明導電性シート。
- 透明導電性薄膜層を有する一対のパネル板を透明導電性薄膜層が対向するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパネルであって、少なくとも一方のパネル板が請求項1〜3のいずれかに記載の透明導電性フィルムもしくは透明導電性シートからなることを特徴とするタッチパネル。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2009/067983 WO2011048647A1 (ja) | 2009-10-19 | 2009-10-19 | 透明導電性フィルム及びこれを用いたタッチパネル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP4640535B1 true JP4640535B1 (ja) | 2011-03-02 |
JPWO2011048647A1 JPWO2011048647A1 (ja) | 2013-03-07 |
Family
ID=43835994
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010515707A Expired - Fee Related JP4640535B1 (ja) | 2009-10-19 | 2009-10-19 | 透明導電性フィルム及びこれを用いたタッチパネル |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4640535B1 (ja) |
KR (1) | KR101370188B1 (ja) |
CN (1) | CN102648087B (ja) |
WO (1) | WO2011048647A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012101544A (ja) * | 2010-11-12 | 2012-05-31 | Bmc Co Ltd | 透明導電性積層フィルム、これの製造方法及びこれを含むタッチパネル |
US10955943B1 (en) | 2020-02-28 | 2021-03-23 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Touch screen panel with surface friction modification |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102789828A (zh) * | 2011-05-19 | 2012-11-21 | 智盛全球股份有限公司 | 导电性膜层结构及其触控面板 |
JP5960995B2 (ja) * | 2012-01-26 | 2016-08-02 | リンテック株式会社 | ニュートンリング防止シート |
KR101571202B1 (ko) * | 2012-12-11 | 2015-11-23 | (주)엘지하우시스 | 저굴절층 코팅용 조성물 및 이를 포함하는 투명 도전성 필름 |
KR20130024943A (ko) * | 2013-01-29 | 2013-03-08 | 오영호 | 비정전용량형 터치 입력이 가능한 터치스크린용 적층필름, 이를 이용한 모바일기기 및 보호케이스 |
JP6166930B2 (ja) * | 2013-03-29 | 2017-07-19 | リンテック株式会社 | 透明導電性フィルム |
KR20150016748A (ko) * | 2013-08-05 | 2015-02-13 | (주)엘지하우시스 | 투명 도전성 필름 및 이의 제조방법 |
CN103823593B (zh) * | 2014-02-27 | 2017-06-27 | 蓝思科技(长沙)有限公司 | 制备多彩视窗边框的保护玻璃盖板的方法及其应用 |
JP6563185B2 (ja) * | 2014-09-18 | 2019-08-21 | 株式会社カネカ | 透明導電フィルムの製造方法 |
WO2017126466A1 (ja) * | 2016-01-20 | 2017-07-27 | 東洋紡株式会社 | 透明導電性フィルム |
CN106842727B (zh) * | 2017-03-31 | 2020-02-21 | 合肥鑫晟光电科技有限公司 | 基板及其制备方法、液晶显示屏 |
JP6953170B2 (ja) * | 2017-04-19 | 2021-10-27 | 日東電工株式会社 | 導電性フィルムおよびタッチパネル |
KR20190063306A (ko) * | 2017-11-29 | 2019-06-07 | 삼성에스디아이 주식회사 | 광학표시장치의 보호 필름, 이를 포함하는 광학 부재 및 이를 포함하는 광학표시장치 |
KR101973155B1 (ko) * | 2018-12-10 | 2019-04-26 | (주)딥스원에듀 | 도트필름, 다층광학시트 및 스마트 전자칠판 |
CN111560586A (zh) * | 2020-04-30 | 2020-08-21 | 豪威星科薄膜视窗(深圳)有限公司 | 一种电容触摸屏镀膜工艺及触摸屏 |
CN111399701B (zh) * | 2020-05-09 | 2024-04-02 | 上海天马微电子有限公司 | 触控模组、触控显示面板和触控显示装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11286066A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-10-19 | Oike Ind Co Ltd | 透明導電性フイルム |
JP2004152727A (ja) * | 2002-11-01 | 2004-05-27 | Toyo Metallizing Co Ltd | 透明導電膜 |
WO2006126604A1 (ja) * | 2005-05-26 | 2006-11-30 | Gunze Limited | 透明面状体及び透明タッチスイッチ |
WO2009054227A1 (ja) * | 2007-10-26 | 2009-04-30 | Teijin Limited | 透明導電性積層体およびタッチパネル |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4468493B2 (ja) * | 1998-02-03 | 2010-05-26 | 東洋紡績株式会社 | ペン入力タッチパネル用透明導電性フィルム及びこれを用いたペン入力タッチパネル |
JP4697450B2 (ja) * | 2005-07-29 | 2011-06-08 | 東洋紡績株式会社 | 透明導電性フィルムまたは透明導電性シート、及びこれを用いたタッチパネル |
JP4314623B2 (ja) * | 2006-12-07 | 2009-08-19 | 日東電工株式会社 | 透明導電性積層体及びタッチパネル |
JP2008292982A (ja) * | 2007-04-27 | 2008-12-04 | Jsr Corp | 偏光板およびタッチパネル |
-
2009
- 2009-10-19 WO PCT/JP2009/067983 patent/WO2011048647A1/ja active Application Filing
- 2009-10-19 CN CN200980162011.7A patent/CN102648087B/zh active Active
- 2009-10-19 JP JP2010515707A patent/JP4640535B1/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-19 KR KR1020127011352A patent/KR101370188B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11286066A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-10-19 | Oike Ind Co Ltd | 透明導電性フイルム |
JP2004152727A (ja) * | 2002-11-01 | 2004-05-27 | Toyo Metallizing Co Ltd | 透明導電膜 |
WO2006126604A1 (ja) * | 2005-05-26 | 2006-11-30 | Gunze Limited | 透明面状体及び透明タッチスイッチ |
WO2009054227A1 (ja) * | 2007-10-26 | 2009-04-30 | Teijin Limited | 透明導電性積層体およびタッチパネル |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012101544A (ja) * | 2010-11-12 | 2012-05-31 | Bmc Co Ltd | 透明導電性積層フィルム、これの製造方法及びこれを含むタッチパネル |
US10955943B1 (en) | 2020-02-28 | 2021-03-23 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Touch screen panel with surface friction modification |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102648087A (zh) | 2012-08-22 |
KR20120088735A (ko) | 2012-08-08 |
WO2011048647A1 (ja) | 2011-04-28 |
CN102648087B (zh) | 2014-12-10 |
JPWO2011048647A1 (ja) | 2013-03-07 |
KR101370188B1 (ko) | 2014-03-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4640535B1 (ja) | 透明導電性フィルム及びこれを用いたタッチパネル | |
JP5556436B2 (ja) | 透明導電性積層フィルム及び透明導電性積層シート並びにタッチパネル | |
JP5229108B2 (ja) | 透明導電性積層フィルム及び透明導電性積層シート並びにタッチパネル | |
US9860981B2 (en) | Transparent conductive film and method for producing same | |
JP4697450B2 (ja) | 透明導電性フィルムまたは透明導電性シート、及びこれを用いたタッチパネル | |
JP4844692B2 (ja) | 透明導電性積層フィルム | |
US9096921B2 (en) | Transparent conductive film and touch panel | |
JP2010015861A (ja) | 透明導電性積層フィルム | |
WO2010140269A1 (ja) | 透明導電性積層フィルム | |
WO2011046094A1 (ja) | 透明導電性積層フィルム | |
JP5481992B2 (ja) | 透明導電性フィルム | |
TWI397926B (zh) | 透明導電性薄膜及使用它之觸控面板 | |
JP2009283348A (ja) | 透明導電性フィルム及びこれを用いたタッチパネル | |
JP4975897B2 (ja) | 透明導電性フィルム、透明導電性シートおよびタッチパネル | |
WO2007013220A1 (ja) | 透明導電性フィルム、透明導電性シート、及びタッチパネル | |
JP4135079B2 (ja) | 透明導電性フィルム及び透明導電性シートの製造方法、及びタッチパネル | |
JP2011129527A (ja) | 透明導電性フィルムの製造方法 | |
JP2001273817A (ja) | 透明導電性フィルム、透明導電性シートおよびタッチパネル | |
JP5509683B2 (ja) | 透明導電性フィルム | |
JP5460090B2 (ja) | 透明導電性フィルム及びタッチパネル、並びにフレキシブル表示体 | |
JP2002163933A (ja) | 透明導電性フィルム、透明導電性シートおよびタッチパネル | |
JP2002163932A (ja) | 透明導電性フィルム、透明導電性シートおよびタッチパネル | |
JP3627864B2 (ja) | 透明導電性フィルム、透明導電性シートおよびタッチパネル | |
JP4543292B2 (ja) | 透明導電性フィルム、透明導電性シートおよびタッチパネル | |
JP3627865B2 (ja) | 透明導電性フィルム、透明導電性シートおよびタッチパネル |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101102 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101115 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4640535 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131210 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |