CN106842727B - 基板及其制备方法、液晶显示屏 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例提供一种基板，用于液晶显示屏，所述基板包括：层叠设置的衬底和平坦层；所述基板还包括：至少一层透明薄膜层；所述透明薄膜层设置在所述基板的面对液晶层的表面上或者背对液晶层的表面上；所述透明薄膜层包括：层叠设置的第一薄膜层和第二薄膜层；其中，所述第一薄膜层的折射率比所述第二薄膜层的折射率高。本发明实施例还提供一种基板的制备方法和液晶显示屏。本发明实施例的基板及液晶显示屏，由于采用了高折射率的第一薄膜层和低折射率的第二薄膜层形成的透明薄膜层，使得该透明薄膜层成为一种长波通透膜，可精准地截止高能蓝光，减少对人眼的危害。

Description

基板及其制备方法、液晶显示屏
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，特别是涉及一种基板及其制备方法、液晶显示屏。
背景技术
短波蓝光是波长处于400nm-480nm之间具有相对较高能量的光线。该波长内的蓝光会使眼睛内的黄斑区毒素量增高，严重威胁我们的眼底健康。由于短波长光线具有相对较高的能量，当遇到空气中的细小的粒子时，乱射率较高，这是引起眩光的主要原因。可见光线在眼内聚焦后焦点不同，两焦点之间会形成焦点距离差，这是形成视物模糊的主要原因。长时间视觉疲劳会引发其他疲劳症状。蓝光的射入会加剧焦点距离差和视觉模糊度，这是因为蓝光经过聚焦后，焦点没有落在视网膜上，而是落在了视网膜与晶状体之间。增大了光线在眼内聚焦的焦点距离差。因此如何有效地去除液晶显示屏的蓝光是亟需解决的问题。
发明内容
本发明实施例提供一种基板及其制备方法、液晶显示屏，以解决现有技术的基板无法截止蓝光的问题。
本发明的技术方案提供一种基板，用于液晶显示屏，所述基板包括：层叠设置的衬底和平坦层；所述基板还包括：至少一层透明薄膜层；所述透明薄膜层设置在所述基板的面对液晶层的表面上或者背对液晶层的表面上；所述透明薄膜层包括：层叠设置的第一薄膜层和第二薄膜层；其中，所述第一薄膜层的折射率比所述第二薄膜层的折射率高。
进一步：当所述基板用于平面电场显示模式的液晶显示屏时，所述至少一层透明薄膜层作为所述基板的屏蔽电极；或者，当所述基板用于垂直电场显示模式的液晶显示屏时，所述至少一层透明薄膜层作为所述基板的公共电极。
进一步：所述第一薄膜层的折射率为1.85～2.85；和/或，所述第二薄膜层的折射率为1.1～1.9。
进一步：所述第一薄膜层的厚度为200～300μm；和/或，所述第二薄膜层的厚度为200～300μm。
进一步：所述第一薄膜层的材料为ITO、TiO2、ZnO或者SnO2，所述第二薄膜层的材料为ITO或者SiO2。
进一步：所述第一薄膜层的材料为ITO，并且所述第二薄膜层的材料为SiO2；或者，所述第一薄膜层的材料为TiO2，并且所述第二薄膜层的材料为ITO。
进一步：当所述基板用于平面电场显示模式的液晶显示屏时，所述至少一层透明薄膜层设置在所述衬底的第一表面上，所述衬底的第一表面为背对所述液晶层的表面；或者，当所述基板用于垂直电场显示模式的液晶显示屏时，所述至少一层透明薄膜层设置在所述平坦层的第一表面上，所述平坦层的第一表面为面对所述液晶层的表面。
进一步：所述透明薄膜层具有至少一个过孔，所述过孔正对所述基板的显示区域的不透光区，所述过孔内设置导电介质。
进一步：在位于最外层的所述透明薄膜层的第一表面上设置有ITO层；其中，当所述基板用于平面电场显示模式的液晶显示屏时，所述位于最外层的所述透明薄膜层的第一表面为最远离所述液晶层的表面；或者，当所述基板用于垂直电场显示模式的液晶显示屏时，所述位于最外层的所述透明薄膜层的第一表面为最靠近所述液晶层的表面。
本发明的技术方案还提供一种液晶显示屏，包括：上述的基板。
本发明的技术方案又提供一种基板的制备方法，所述基板用于液晶显示屏，所述方法包括：在衬底上形成平坦层；在所述基板的面对液晶层的表面上或者背对液晶层的表面上形成至少一层透明薄膜层；其中，所述透明薄膜层包括：层叠设置的第一薄膜层和第二薄膜层，所述第一薄膜层的折射率比所述第二薄膜层的折射率高。
进一步：当所述基板用于平面电场显示模式的液晶显示屏时，所述至少一层透明薄膜层作为所述基板的屏蔽电极；或者，当所述基板用于垂直电场显示模式的液晶显示屏时，所述至少一层透明薄膜层作为所述基板的公共电极。
进一步：当所述基板用于平面电场显示模式的液晶显示屏时，所述在所述基板的背对液晶层的表面上形成至少一层透明薄膜层的步骤，包括：在所述衬底的第一表面上形成所述至少一层透明薄膜层，所述衬底的第一表面为背对所述液晶层的表面；或者，当所述基板用于垂直电场显示模式的液晶显示屏时，所述在所述基板的面对液晶层的表面上形成至少一层透明薄膜层的步骤包括：在所述平坦层的第一表面上形成所述至少一层透明薄膜层，所述平坦层的第一表面为面对所述液晶层的表面。
进一步：所述在所述基板的面对液晶层的表面上或者背对液晶层的表面上形成至少一层透明薄膜层的步骤之后，所述方法还包括：在所述透明薄膜层形成至少一个过孔，所述过孔正对所述基板的显示区域的不透光区；在所述过孔内设置导电介质。
进一步：所述在所述过孔内设置导电介质的步骤之后，所述方法还包括：在位于最外层的所述透明薄膜层的第一表面上形成ITO层；其中，当所述基板用于平面电场显示模式的液晶显示屏时，所述位于最外层的所述透明薄膜层的第一表面为最远离所述液晶层的表面；或者，当所述基板用于垂直电场显示模式的液晶显示屏时，所述位于最外层的所述透明薄膜层的第一表面为最靠近所述液晶层的表面。
这样，本发明实施例中，由于采用了高折射率的第一薄膜层和低折射率的第二薄膜层形成的透明薄膜层，使得该透明薄膜层成为一种长波通透膜，可精准地截止高能蓝光，减少对人眼的危害。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例1的基板的结构示意图；
图2是本发明实施例2的基板的结构示意图；
图3是本发明实施例3的基板的制备方法的流程图；
图4是本发明实施例4的基板的制备方法的流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获取的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
液晶显示屏由两个基板以及设置在两个基板之间的液晶层形成。本发明通过在基板上形成高低折射率交替的透明薄膜层，使得光线在通过基板时，可截止蓝光。
基于此，本发明实施例公开了一种基板。该基板用于液晶显示屏。
下面以具体的实施例对本发明的基板做进一步说明。
实施例1
实施例1的基板用于平面电场显示模式的液晶显示屏。该平面电场显示模式可以是ADS(Advanced Super Dimension Switch，高级超维场转换技术)、IPS(In-PlaneSwitching，平面转换屏幕技术)、FFS(Fringe Field Switching，边缘场开关技术)或者HADS(High Aperture Advanced Super Dimensional Switching，高开口率高级超维场转换技术)等显示模式。
如图1所示，实施例1的基板包括：衬底(Glass)11、平坦层(Over Coat，OC)14和至少一层透明薄膜层15。该透明薄膜层15设置在基板的背对液晶层的表面上。其中，该透明薄膜层15包括：层叠设置的第一薄膜层151和第二薄膜层152。其中，第一薄膜层151的折射率比第二薄膜层152的折射率高，从而使得至少一层透明薄膜层15形成高低折射率交替的层结构，可精准地截止高能蓝光，减少对人眼的危害。该第一薄膜层151和第二薄膜层152的层叠顺序不做限定。该透明薄膜层15的层数不限。一般来说，透明薄膜层15的层数越多，滤光效果越好，但成本提高，因此，可根据具体要求选择。
此外，由于该基板用于平面电场显示模式的液晶显示屏，所以，至少一层透明薄膜层15可以作为基板的屏蔽电极使用，实现静电屏蔽功能，并可防止由静电导致的噪声，可以有效简化平面电场显示模式的液晶显示屏的制备流程。
具体的，衬底11一般为玻璃衬底。衬底11包括相对设置的第一表面和第二表面。其中，衬底11的第一表面为背对液晶层的表面。至少一层透明薄膜层15设置在衬底11的第一表面上。平坦层14包括相对设置的第一表面和第二表面。其中，平坦层14的第一表面为面对液晶层的表面。
根据基板的不同功能，该基板还可以设置其他结构。例如，如图1所示，该基板还包括：黑色矩阵(Black Matrix，BM)12和彩色滤光膜(Colour Filter，CF)。黑色矩阵12和彩色滤光膜位于衬底11的第二表面和平坦层14的第二表面之间。黑色矩阵12起到遮光的作用。彩色滤光膜包括按顺序设置的红色滤光膜131、绿色滤光膜132和蓝色滤光膜133。彩色滤光膜可起到产生丰富的色彩的作用。平坦层14起到保护黑色矩阵12和彩色滤光膜的作用。
一般的，该第一薄膜层151的材料的折射率为1.85～2.85，第二薄膜层152的材料的折射率为1.1～1.9。更优选的，第一薄膜层151的材料为ITO、TiO2、ZnO或者SnO2。第二薄膜层152的材料为ITO或者SiO2。
对于上述的材料，ITO的折射率受到其制备工艺、ITO的化学配比及ITO的厚度的影响。具体的：1)当制备ITO薄膜的蒸镀速率提高，ITO薄膜的折射率增大；2)ITO薄膜的折射率随氧流量的增大而减小；3)随着退火温度的提高，ITO薄膜的折射率增大；4)ITO薄膜的折射率随着厚度的增加而减小。因此，可以通过调整相应参数得到相应的折射率的ITO薄膜，从而使得ITO可以作为一种高折射率材料，也可以作为一种低折射率材料。
TiO2的折射率n＝2.3～2.5，是一种高折射率材料。通过调节工艺参数，膜层厚度及掺杂元素可以得到不同折射率的TiO2薄膜。
ZnO的折射率为2.008～2.029，是一种高折射率材料。
SnO2的折射率约为1.9968，是一种高折射率材料。
SiO2的折射率为1.46～1.48，是一种低折射材料。
更优选的，第一薄膜层151的材料为ITO，并且第二薄膜层152的材料为SiO2。此时ITO是作为高折射率的材料使用。由于ITO和SiO2均易于加工，因此，该特定材料的透明薄膜层15，在工艺上易实现，可加工性好。
更优选的，第一薄膜层151的材料为TiO2，并且第二薄膜层152的材料为ITO。此时ITO是作为低折射率的材料使用。由于TiO2的导电率较高，因此，透明薄膜层15的电阻率较低，使得透明薄膜层15作为屏蔽电极使用，有利于静电屏蔽效果。
优选的，第一薄膜层151的厚度为200～300μm。第二薄膜层152的厚度为200～300μm。该厚度的第一薄膜层151和第二薄膜层152在保证过滤蓝光的同时，不会显著增加基板厚度，当基板用于液晶显示屏时，不会影响液晶显示屏的显示效果。
由于，透明薄膜层15中可能会使用绝缘材料，例如SiO2，则为了实现透明薄膜层15的电性导通，优选的，该透明薄膜层15具有至少一个过孔153。过孔153正对基板的显示区域的不透光区。例如，如图1所示，对于设置有黑色矩阵12的基板，该过孔153正对黑色矩阵12。过孔153内设置导电介质。该导电介质将透明薄膜层15中的各层以及多层透明薄膜层15电性导通，降低透明薄膜层15的电阻率。过孔153的大小可以根据需要进行调整，过孔153越大，电阻率越小。
优选的，在位于最外层的透明薄膜层15的第一表面上设置有ITO层16。位于最外层的透明薄膜层15的第一表面为最远离液晶层的表面。ITO材料是一种N型半导体材料，In2O3中掺入Sn后，Sn可以替代In2O3晶格中的In元素而以SnO2的形式存在，因为In2O3中In元素为正三价，形成SnO2时将提供一个电子到导带上，同时在一定的缺氧状态下产生氧空穴，这个机理提供了10-4(Ω*cm)数量级的低薄膜电阻率，所以ITO材料具有半导体的导电性能，因此，通过设置该ITO层16有利于将透明薄膜层15与其他结构电性导通。
综上，本发明实施例1的基板，适用于平面电场显示模式的液晶显示屏，由于采用了高折射率的第一薄膜层151和低折射率的第二薄膜层152形成的透明薄膜层15，使得该透明薄膜层15成为一种长波通透膜，可精准地截止高能蓝光，减少对人眼的危害；并且，透明薄膜层15可以作为基板的屏蔽电极使用，实现静电屏蔽功能，并可防止由静电导致的噪声，可以有效简化平面电场显示模式的液晶显示屏的制备流程；此外，通过形成涂布有导电介质的过孔153，可进一步提高透明薄膜层15的导电性，以便将透明薄膜层15中的第一薄膜层151和第二薄膜层152电性导通，以及将多层透明薄膜层15电性导通；通过设置ITO层16，可将透明薄膜层15与其他结构电性导通。
实施例2
实施例2的基板用于垂直电场显示模式的液晶显示屏。该垂直电场显示模式可以是TN(Twisted Nematic，扭曲向列型)或者STN(Super Twisted Nematic，超扭曲向列型)等显示模式。
如图2所示，实施例2的基板包括：衬底21、平坦层24和至少一层透明薄膜层25。该透明薄膜层25设置在基板的面对液晶层的表面上。和实施例1相同，该透明薄膜层25包括：层叠设置的第一薄膜层251和第二薄膜层252。其中，第一薄膜层251的折射率比第二薄膜层252的折射率高，从而使得至少一层透明薄膜层25形成高低折射率交替的层结构。该第一薄膜层251和第二薄膜层252的层叠顺序不做限定。该透明薄膜层25的层数不限。一般来说，透明薄膜层25的层数越多，滤光效果越好，但成本提高，因此，可根据具体要求选择。
此外，当该基板用于垂直电场显示模式的液晶显示屏时，由于液晶显示屏中的公共电极是设置在基板的面对液晶层的表面上的，至少一层透明薄膜层25可以作为基板的公共电极使用，提供公共电信号，这样，该基板可无需再额外设置公共电极，可以有效简化垂直电场显示模式的液晶显示屏的制备流程。
具体的，衬底21一般为玻璃衬底。衬底21包括相对设置的第一表面和第二表面。其中，衬底21的第一表面为背对液晶层的表面。平坦层24包括相对设置的第一表面和第二表面。其中，平坦层24的第一表面为面对液晶层的表面。至少一层透明薄膜层25设置在平坦层24的第一表面上。
根据基板的不同功能，该基板还可以设置其他结构。例如，如图2所示，该基板还包括：黑色矩阵22和彩色滤光膜。黑色矩阵22和彩色滤光膜位于衬底21的第二表面和平坦层24的第二表面之间。黑色矩阵22起到遮光的作用。彩色滤光膜包括按顺序设置的红色滤光膜231、绿色滤光膜232和蓝色滤光膜233。彩色滤光膜可起到产生丰富的色彩的作用。平坦层24起到保护黑色矩阵22和彩色滤光膜的作用。
一般的，该第一薄膜层251的材料的折射率为1.85～2.85，第二薄膜层252的材料的折射率为1.1～1.9。优选的，第一薄膜层251的材料为ITO、TiO2、ZnO或者SnO2。第二薄膜层252的材料为ITO或者SiO2。
上述的材料的具体折射率可参考实施例1，在此不再赘述。
更优选的，第一薄膜层251的材料为ITO，并且第二薄膜层252的材料为SiO2。此时ITO是作为高折射率的材料使用。由于ITO和SiO2均易于加工，因此，该特定材料的透明薄膜层25，在工艺上易实现，可加工性好。
更优选的，第一薄膜层251的材料为TiO2，并且第二薄膜层252的材料为ITO。此时ITO是作为低折射率的材料使用。由于TiO2的导电率较高，因此，透明薄膜层25的电阻率较低，使得透明薄膜层25作为透明公共电极使用，有利于显示效果。
优选的，第一薄膜层251的厚度为200～300μm。第二薄膜层252的厚度为200～300μm。该厚度的第一薄膜层251和第二薄膜层252在保证过滤蓝光的同时，不会显著增加基板厚度，当基板用于液晶显示屏时，不会影响液晶显示屏的显示效果。
由于，透明薄膜层25中可能会使用绝缘材料，例如SiO2，则为了实现透明薄膜层25的电性导通，优选的，该透明薄膜层25具有至少一个过孔253。过孔253正对基板的显示区域的不透光区。例如，如图2所示，对于设置有黑色矩阵22的基板，该过孔253正对黑色矩阵22。过孔253内设置导电介质。该导电介质将透明薄膜层25中的各层以及多层透明薄膜层25电性导通，降低透明薄膜层25的电阻率。过孔253的大小可以根据需要进行调整，过孔253越大，电阻率越小。
优选的，在位于最外层的透明薄膜层25的第一表面上设置有ITO层26。位于最外层的透明薄膜层25的第一表面为最靠近液晶层的表面。由于ITO材料具有导电性，因此，通过设置该ITO层26有利于将透明薄膜层25与其他结构电性导通。
综上，本发明实施例2的基板，适用于垂直电场显示模式的液晶显示屏，由于采用了高折射率的第一薄膜层251和低折射率的第二薄膜层252形成的透明薄膜层25，使得该透明薄膜层25成为一种长波通透膜，可精准地截止高能蓝光，减少对人眼的危害；并且，透明薄膜层25可以作为基板的公共电极使用，提供公共电信号，可以有效简化垂直电场显示模式的液晶显示屏的制备流程；此外，通过形成涂布有导电介质的过孔253，可进一步提高透明薄膜层25的导电性，以便将透明薄膜层25中的第一薄膜层251和第二薄膜层252电性导通，以及将多层透明薄膜层25电性导通；通过设置ITO层26，可将透明薄膜层25与其他结构电性导通。
实施例3
实施例3公开了本发明的基板的制备方法。如图3所示，该方法包括如下的步骤：
步骤S301：在衬底上形成平坦层。
具体的，可通过涂布的方式将平坦层制作在衬底上。
根据基板的不同功能，可以在衬底上制作其他结构。例如，在衬底上制作黑色矩阵和彩色滤光膜，使该基板形成彩膜基板。
具体的，先在衬底上制作黑色矩阵。然后在黑色矩阵的间隙处，按顺序涂布R、G、B三色光阻，经过曝光、显影、烘烤得到彩色滤光膜。
步骤S302：在基板的面对液晶层的表面上或者背对液晶层的表面上形成至少一层透明薄膜层。
当制备实施例1的基板时，步骤S302在背对液晶层的表面上形成至少一层透明薄膜层。具体的，步骤S302通过如下方式实现：
在衬底的第一表面上形成至少一层透明薄膜层。
其中，该衬底的第一表面为背对液晶层的表面。
当制备实施例2的基板时，步骤S302在面对液晶层的表面上形成至少一层透明薄膜层。具体的，步骤S302通过如下的方式实现：
在平坦层的第一表面上形成至少一层透明薄膜层。
其中，平坦层的第一表面为面对液晶层的表面。
该透明薄膜层的层数不限。一般来说，透明薄膜层的层数越多，滤光效果越好，但成本提高，因此，可根据具体要求选择。
该透明薄膜层包括：层叠设置的第一薄膜层和第二薄膜层，并且第一薄膜层的折射率比第二薄膜层的折射率高。
具体的，将第一薄膜层和第二薄膜层按顺序蒸镀到基板的面对液晶层的表面上或者背对液晶层的表面上，得到透明薄膜层。蒸镀该第一薄膜层和第二薄膜层的顺序不限。如果有两层以上的透明薄膜层，则按照该顺序继续蒸镀第一薄膜层和第二薄膜层。
优选的，当该基板用于平面电场显示模式的液晶显示屏时，至少一层透明薄膜层可以作为基板的屏蔽电极使用，实现静电屏蔽功能，并可防止由静电导致的噪声，可以有效简化平面电场显示模式的液晶显示屏的制备流程。
优选的，当该基板用于垂直电场显示模式的液晶显示屏时，至少一层透明薄膜层可以作为基板的公共电极使用，提供公共电信号，可以有效简化垂直电场显示模式的液晶显示屏的制备流程。
优选的，该第一薄膜层的材料的折射率为1.85～2.85，第二薄膜层的材料的折射率为1.1～1.9。更优选的，第一薄膜层的材料为ITO、TiO2、ZnO或者SnO2，第二薄膜层的材料为ITO或者SiO2。
更优选的，第一薄膜层的材料为ITO，并且第二薄膜层的材料为SiO2。由于ITO和SiO2均易于加工，因此，该特定材料的透明薄膜层，在工艺上易实现，可加工性好。
更优选的，第一薄膜层的材料为TiO2，并且第二薄膜层的材料为ITO。由于TiO2的导电率较高，因此，透明薄膜层的电阻率较低，使得透明薄膜层作为屏蔽电极使用，有利于静电屏蔽效果；作为透明公共电极使用，有利于显示效果。
优选的，第一薄膜层的厚度为200～300μm。第二薄膜层的厚度为200～300μm。该厚度的第一薄膜层和第二薄膜层在保证过滤蓝光的同时，不会显著增加基板厚度，当基板用于液晶显示屏时，不会影响液晶显示屏的显示效果。
综上，本发明实施例3的方法，适用于制备用于平面电场或者垂直电场显示模式的液晶显示屏的基板，通过将高折射率的第一薄膜层和低折射率的第二薄膜层制备形成透明薄膜层，使得该透明薄膜层成为一种长波通透膜，可精准地截止高能蓝光，减少对人眼的危害；并且，当基板用于平面电场显示模式的液晶显示屏时，透明薄膜层可以作为基板的屏蔽电极使用，实现静电屏蔽功能，并可防止由静电导致的噪声，可以有效简化平面电场显示模式的液晶显示屏的制备流程；当基板用于垂直电场显示模式的液晶显示屏时，透明薄膜层可以作为基板的公共电极使用，提供公共电信号，可以有效简化垂直电场显示模式的液晶显示屏的制备流程。
实施例4
实施例4公开了本发明的基板的制备方法。如图4所示，该方法包括如下的步骤：
步骤S401：在衬底上形成平坦层。
步骤S402：在基板的面对液晶层的表面上或者背对液晶层的表面上形成至少一层透明薄膜层。
上述的步骤S401～S402与实施例3的步骤S301～S302相同，在此不再赘述。
步骤S403：在透明薄膜层形成至少一个过孔。
其中，该过孔正对基板的显示区域的不透光区。
具体的，在需要设置过孔的透明薄膜层的表面涂布光刻胶，曝光，显影得到过孔。
步骤S405：在过孔内设置导电介质。
具体的，可采用涂布的方式在过孔内设置导电介质。
步骤S406：在位于最外层的透明薄膜层的第一表面上形成ITO层。
其中，当制备实施例1的基板时，位于最外层的透明薄膜层的第一表面为最远离液晶层的表面；当制备实施例2的基板时，位于最外层的透明薄膜层的第一表面为最靠近液晶层的表面。
综上，本发明实施例4的方法，适用于制备用于平面电场或者垂直电场显示模式的液晶显示屏的基板，通过将高折射率的第一薄膜层和低折射率的第二薄膜层制备形成透明薄膜层，使得该透明薄膜层成为一种长波通透膜，可精准地截止高能蓝光，减少对人眼的危害；并且，当基板用于平面电场显示模式的液晶显示屏时，透明薄膜层可以作为基板的屏蔽电极使用，实现静电屏蔽功能，并可防止由静电导致的噪声，可以有效简化平面电场显示模式的液晶显示屏的制备流程；当基板用于垂直电场显示模式的液晶显示屏时，透明薄膜层可以作为基板的公共电极使用，提供公共电信号，可以有效简化垂直电场显示模式的液晶显示屏的制备流程；此外，通过制作涂布有导电介质的过孔，可进一步提高透明薄膜层的导电性，以便将透明薄膜层中的第一薄膜层和第二薄膜层电性导通，以及将多层透明薄膜层电性导通；通过制作ITO层，可将透明薄膜层与其他结构电性导通。
实施例5
实施例5公开了一种液晶显示屏。该液晶显示屏包括相对设置的两个基板，以及设置在两个基板之间的液晶层。其中，该基板可采用实施例1的基板或者实施例2的基板。例如，该两个基板可以分别是彩膜基板和阵列基板。
综上，本发明实施例5的液晶显示屏，由于采用了高折射率的第一薄膜层和低折射率的第二薄膜层形成的透明薄膜层，使得该透明薄膜层成为一种长波通透膜，可精准地截止高能蓝光，减少对人眼的危害；当该液晶显示屏为平面电场显示模式的液晶显示屏时，该透明薄膜层可作为基板的屏蔽电极使用，实现静电屏蔽功能，并可防止由静电导致的噪声，可以有效简化平面电场显示模式的液晶显示屏的制备流程；当该液晶显示屏为垂直电场显示模式的液晶显示屏时，透明薄膜层可以作为基板的公共电极使用，提供公共电信号，可以有效简化垂直电场显示模式的液晶显示屏的制备流程。
本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。
尽管已描述了本发明实施例的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例做出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明实施例范围的所有变更和修改。
最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者终端设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者终端设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者终端设备中还存在另外的相同要素。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种基板，用于液晶显示屏，所述基板包括：层叠设置的衬底和平坦层；其特征在于，所述基板还包括：至少一层透明薄膜层；所述透明薄膜层设置在所述基板的面对液晶层的表面上或者背对液晶层的表面上；所述透明薄膜层包括：层叠设置的第一薄膜层和第二薄膜层；其中，所述第一薄膜层的折射率比所述第二薄膜层的折射率高；
其中，所述透明薄膜层具有至少一个过孔，所述过孔正对所述基板的显示区域的不透光区，所述过孔内设置导电介质；
其中，当所述第一薄膜层的材料为ITO，所述第二薄膜层的材料为SiO2；当所述第二薄膜层的材料为ITO，所述第一薄膜层的材料为TiO2、ZnO或者SnO2；所述ITO的折射率在制备过程中是可调节的；
在位于最外层的所述透明薄膜层的第一表面上设置有ITO层；其中，
当所述基板用于平面电场显示模式的液晶显示屏时，所述位于最外层的所述透明薄膜层的第一表面为最远离所述液晶层的表面；或者，
当所述基板用于垂直电场显示模式的液晶显示屏时，所述位于最外层的所述透明薄膜层的第一表面为最靠近所述液晶层的表面。
2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于：当所述基板用于平面电场显示模式的液晶显示屏时，所述至少一层透明薄膜层作为所述基板的屏蔽电极；或者，
当所述基板用于垂直电场显示模式的液晶显示屏时，所述至少一层透明薄膜层作为所述基板的公共电极。
3.根据权利要求1所述的基板，其特征在于：所述第一薄膜层的折射率为1.85～2.85；和/或，所述第二薄膜层的折射率为1.1～1.9。
4.根据权利要求1所述的基板，其特征在于：所述第一薄膜层的厚度为200～300μm；和/或，所述第二薄膜层的厚度为200～300μm。
5.根据权利要求1所述的基板，其特征在于：所述第一薄膜层的材料为ITO，并且所述第二薄膜层的材料为SiO2；或者，
所述第一薄膜层的材料为TiO2，并且所述第二薄膜层的材料为ITO。
6.根据权利要求1所述的基板，其特征在于：当所述基板用于平面电场显示模式的液晶显示屏时，所述至少一层透明薄膜层设置在所述衬底的第一表面上，所述衬底的第一表面为背对所述液晶层的表面；或者，
当所述基板用于垂直电场显示模式的液晶显示屏时，所述至少一层透明薄膜层设置在所述平坦层的第一表面上，所述平坦层的第一表面为面对所述液晶层的表面。
7.一种液晶显示屏，其特征在于，包括：如权利要求1～6任一项所述的基板。
8.一种基板的制备方法，所述基板用于液晶显示屏，其特征在于，所述方法包括：
在衬底上形成平坦层；
在所述基板的面对液晶层的表面上或者背对液晶层的表面上形成至少一层透明薄膜层；
其中，所述透明薄膜层包括：层叠设置的第一薄膜层和第二薄膜层，所述第一薄膜层的折射率比所述第二薄膜层的折射率高；
其中，所述在所述基板的面对液晶层的表面上或者背对液晶层的表面上形成至少一层透明薄膜层的步骤之后，所述方法还包括：
在所述透明薄膜层形成至少一个过孔，所述过孔正对所述基板的显示区域的不透光区；
在所述过孔内设置导电介质；
其中，所述在所述过孔内设置导电介质的步骤之后，所述方法还包括：
在位于最外层的所述透明薄膜层的第一表面上形成ITO层；
其中，当所述基板用于平面电场显示模式的液晶显示屏时，所述位于最外层的所述透明薄膜层的第一表面为最远离所述液晶层的表面；或者，
当所述基板用于垂直电场显示模式的液晶显示屏时，所述位于最外层的所述透明薄膜层的第一表面为最靠近所述液晶层的表面；
其中，当所述第一薄膜层的材料为ITO，所述第二薄膜层的材料为SiO2；当所述第二薄膜层的材料为ITO，所述第一薄膜层的材料为TiO2、ZnO或者SnO2；所述ITO的折射率在制备过程中是可调节的。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于：当所述基板用于平面电场显示模式的液晶显示屏时，所述至少一层透明薄膜层作为所述基板的屏蔽电极；或者，
当所述基板用于垂直电场显示模式的液晶显示屏时，所述至少一层透明薄膜层作为所述基板的公共电极。
10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于：当所述基板用于平面电场显示模式的液晶显示屏时，所述在所述基板的背对液晶层的表面上形成至少一层透明薄膜层的步骤，包括：
在所述衬底的第一表面上形成所述至少一层透明薄膜层，所述衬底的第一表面为背对所述液晶层的表面；或者，
当所述基板用于垂直电场显示模式的液晶显示屏时，所述在所述基板的面对液晶层的表面上形成至少一层透明薄膜层的步骤包括：
在所述平坦层的第一表面上形成所述至少一层透明薄膜层，所述平坦层的第一表面为面对所述液晶层的表面。
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