JP2016004197A - 液晶レンズ - Google Patents
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Abstract
【課題】膜剥がれが無く、優れた光学特性を有し、液晶に安定して理想的な電位分布を形成できる低電圧駆動液晶レンズを提供する。
【解決手段】第1の電極33を有する第1の基板22と、孔を有する第2の電極31と前記第2の電極の孔内に間隔を置いて配置された第3の電極32を有する第2の基板21と、前記第1の基板の電極形成面と前記第2の基板の電極形成面との間に形成された液晶層5、とを有する液晶レンズにおいて、前記第2の基板21と液晶層5との間に機能膜4を配置し、前記機能膜は少なくとも一部に膜厚方向に連続的に組成傾斜している領域を有し、前記機能膜は第2、第3の電極に接する領域のシート抵抗値が液晶層の接する領域のシート抵抗値よりも高く、且つ、シート抵抗値の比が5桁以上の範囲にある。
【選択図】図1
【解決手段】第1の電極33を有する第1の基板22と、孔を有する第2の電極31と前記第2の電極の孔内に間隔を置いて配置された第3の電極32を有する第2の基板21と、前記第1の基板の電極形成面と前記第2の基板の電極形成面との間に形成された液晶層5、とを有する液晶レンズにおいて、前記第2の基板21と液晶層5との間に機能膜4を配置し、前記機能膜は少なくとも一部に膜厚方向に連続的に組成傾斜している領域を有し、前記機能膜は第2、第3の電極に接する領域のシート抵抗値が液晶層の接する領域のシート抵抗値よりも高く、且つ、シート抵抗値の比が5桁以上の範囲にある。
【選択図】図1
Description
本発明は、低電圧駆動が可能な液晶レンズに関する。
ネマティック液晶は、その構成分子が配向秩序を持つが、三次元的な位置秩序は持たない液晶材料である。ネマティック液晶は、外部電圧の印加により実効的な屈折率を可変できるという特徴がある。この特徴を利用して機械的駆動部を持たずに焦点位置を変化させることができる液晶レンズが提案されている(特許文献1および2参照)。
特許文献1では、液晶レンズの焦点位置変化を低電圧でおこなう技術が開示されている。具体的には、ガラス基板、第1の電極、配向膜、液晶層、高抵抗層、透明絶縁膜、開口部を有する第2及び第3の電極によって構成されており、高抵抗層の電位分布の中継効果を利用することで駆動電圧の低電圧化が可能であると報告されている。
特許文献1の低電圧駆動液晶レンズに使用される高抵抗層は、可視光領域(波長360nm〜830nm)において透過率が低くなる傾向がある。対策として、高抵抗層の薄層化が考えられるところ、これは液晶レンズに適した電位分布を得るために高抵抗層や透明絶縁膜を高抵抗率化する必要がある、というニーズへの対策ともなる。しかし、高抵抗層や透明絶縁膜の膜厚を薄くしすぎると、抵抗率にばらつきが生じ、液晶レンズの動作特性がかえって不安定になってしまう傾向がある。
上記課題を解決するために、高抵抗層にZnOに、Al2O3とMgOを添加した材料を使用した低電圧駆動液晶レンズが提案されている(特許文献2)。高抵抗層にこのような材料を用いることで、薄すぎない膜厚で所望の抵抗率を得ることができ、且つ、高い透過率を有する高抵抗層を安定して形成できることが示されている。
本発明者らは、特許文献1、特許文献2に示した液晶レンズにおいて、以下のような課題があることを見出した。
(1)絶縁層、高抵抗層を用いた構造では、両者の膜応力が大きく異なる場合、高抵抗層のシート抵抗値を安定化させるための熱処理工程や、配向膜の熱処理工程で絶縁層と高抵抗層の界面から膜剥がれが生じる問題がある。
(2)絶縁層と高抵抗層との光学特性(屈折率、等)が異なる場合、絶縁層と高抵抗層との界面で入射光の反射や散乱が生じ、液晶レンズの光学特性が低下する傾向がある。
(3)液晶にレンズ効果を持たせるためには理想的な二次曲線形状の電位分布が必要であるが、絶縁層と高抵抗層との組み合わせによっては理想的な電位分布が得られない場合がある。
(1)絶縁層、高抵抗層を用いた構造では、両者の膜応力が大きく異なる場合、高抵抗層のシート抵抗値を安定化させるための熱処理工程や、配向膜の熱処理工程で絶縁層と高抵抗層の界面から膜剥がれが生じる問題がある。
(2)絶縁層と高抵抗層との光学特性(屈折率、等)が異なる場合、絶縁層と高抵抗層との界面で入射光の反射や散乱が生じ、液晶レンズの光学特性が低下する傾向がある。
(3)液晶にレンズ効果を持たせるためには理想的な二次曲線形状の電位分布が必要であるが、絶縁層と高抵抗層との組み合わせによっては理想的な電位分布が得られない場合がある。
本発明は、上記の問題点を鑑みたものであり、界面での膜剥がれが無く、優れた光学特性を有し、液晶に安定して理想的な電位分布を形成できる低電圧駆動液晶レンズを提供することを目的とする。
上記の課題は、第1および/または第2の電極を有する第1の基板と、第3の電極を有する第2の基板と、が準備され、第1の基板の電極形成面と第2の基板の電極形成面との間に液晶層が形成されている液晶レンズが、以下の特徴を有することで解決される。
(1)第1の基板と液晶層との間には機能膜が配置されている。
(2)機能膜は少なくとも一部に膜厚方向に連続的に組成傾斜している領域を有する。
(1)第1の基板と液晶層との間には機能膜が配置されている。
(2)機能膜は少なくとも一部に膜厚方向に連続的に組成傾斜している領域を有する。
ここで、「機能膜」とは、従来は二層構造(絶縁層と高抵抗層との積層)でなければ実現できなかった機能を、単層のみで実現した、低電圧駆動液晶レンズ用の薄膜層をいう。機能膜は、少なくとも一部に膜厚方向への連続的な組成傾斜を有する。ここで「組成傾斜」とは、機能膜の構成元素の濃度が膜厚方向に変化することをいい、構成元素を別の元素に置き換えることを意味しない。これによって機能膜には膜厚方向に抵抗率の勾配が生ずる。また、組成傾斜が構成元素を置き換えることなく濃度のみを変化させることから、機能膜の屈折率は膜厚方向に急激な変化を示さず、緩やかな変化を示す。同様に、機能膜の内部応力も膜厚方向に緩やかな変化を示すため、膜の内部での急激な応力の変化が存在しない。これらによって、界面を起点とした膜剥がれや、可視光領域における透過率の損失などの問題を生じること無く、液晶レンズに必要な理想的な二次曲線形状の電位分布を形成することが可能となる。なお、抵抗率の勾配を最適化する方策の一つとして、第2の電極は孔を有し、第3の電極はその孔の中であって第2の電極と接しない(第2の電極と間隔を置いた)位置に配置されることが多いが、本発明は、必ずしも孔を有する液晶レンズに限定されるものではない。
なお、本発明中では「抵抗率」と「シート抵抗値」という二つの類似した用語が使われているが、これらは膜厚をパラメータとして相関を持つものである。
なお、本発明中では「抵抗率」と「シート抵抗値」という二つの類似した用語が使われているが、これらは膜厚をパラメータとして相関を持つものである。
機能膜の膜厚方向に沿ったシート抵抗値の分布は、第1、第2の電極に接する領域(以下、「領域A」という。)のシート抵抗値が、液晶層に接する領域(以下、「領域B」という。)のシート抵抗値に対して5桁以上大きいことが好ましい。これにより、電位分布をさらに理想的な二次関数曲線に近づけることができる。
機能膜は、N、O、F、Mg、Al、Ti、Ni、Zn、Ga、Nb、Ag、In、Sn、Sb、Taの元素のうちの2種類以上を必ず含む薄膜にて形成され、且つ、それらのうち少なくとも2種類の元素の組成比を機能膜の全領域において0より大きくすることが好ましい。なお、前述した元素群を2種類以上含み、さらに他の元素を追加して機能膜を形成する構造であってもよい。前述した元素群から適切な主元素と添加元素を選択することで、光学素子である液晶レンズに要求される理想的な電位分布を形成しつつ、透明性をより高めることができる場合がある。また、少なくとも2種類の元素の組成比を機能膜の全領域で0より大きくすることで、機能膜の膜厚方向での屈折率や応力の変化をさらに低減でき、光学特性の向上や膜剥がれの抑制が容易となる。
機能膜は、Zn、Al、Mg、Oの元素の4種を組み合わせてなる薄膜にて形成され、且つ、少なくとも3種類の原子の組成比が前記機能膜の全領域において0より大きくすることが好ましい。このような元素を使用することで、さらに高い透明性を確保できる。また。同元素群を用いると、組成比に応じてシート抵抗値が幅広い範囲で制御できることから、理想的な電位分布を得ることが容易になる。
機能膜の組成傾斜部は領域Aよりも領域Bに近いことが好ましい。このようにすることで、電極側のシート抵抗値のバラつきを抑制することができ、電極間の短絡が防止でき、安定して理想的な電位分布を得ることが可能となる。
さらに、機能膜の領域Aのシート抵抗値が、領域Bのシート抵抗値よりも5桁から6桁大きいことが好ましい。このようにすることで、液晶レンズの周波数依存性が小さくなり、幅広い周波数範囲で液晶レンズを適切に機能させるための理想的な電位分布を得ることが可能となる。
上記の手段により、膜界面を起点とした膜剥がれが無く、優れた光学特性を有し、幅広い周波数範囲で液晶に安定して理想的な電位分布を形成することが可能となる。
以下、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明する。以下、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。また以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに以下に記載した構成要素は、適宜組み合わせることができる。
まず、図1および図3を参照して、本発明の実施形態に係る液晶レンズ1の構成について説明する。図1は、本発明の実施形態に係る液晶レンズ1の模式断面構成図、図3は本実施形態に係る液晶レンズ1の斜視図である。本実施形態の液晶レンズ1は、孔を有する第1の電極31と前記第1の電極31の孔内に間隔を置いて配置された第2の電極32を有する第1の基板21と、第3の電極33を有する第2の基板22と、前記第1の基板21の電極形成面と前記第2の基板22の電極形成面との間に形成された液晶層5、とを有し、前記第1の基板21と液晶層5との間に機能膜4を配置し、前記機能膜4は少なくとも一部に膜厚方向に連続的に組成傾斜している領域を有し、前記機能膜4は前記第1の電極31、前記第2の電極32に接する領域のシート抵抗値が液晶層に接する領域のシート抵抗値よりも高く、且つ、シート抵抗値の比が5桁以上の範囲にあることを特徴としている。
図1に示される本実施形態の液晶レンズ1は、第1の電極31と第3の電極33間及び、第2の電極32と第3の電極33間に電圧が印加される。第1の電極31と第3の電極33間及び、第2の電極32と第3の電極33間に、印加する電圧を個別に制御することにより、液晶層5全体に二次曲線形状の電位が形成され、屈折率の勾配の分布が形成される。このことによりレンズ効果が実現される。
図3に示されるように、第1の電極31は積層構造の延在する面の中央部に開口部を有するパターン電極であって、第2の電極32は、第2の電極32に対し機能膜4を介して第2の電極32の開口部内に間隔を置いて配置されている。なお、開口部の形状は図2では円形としているが、楕円形であってもよいし、四角形、六角形などの多角形であってもよい。
本実施形態における第1の基板21、第2の基板22は、それぞれ透明基板から構成されている。ここで、透明基板とは、光線透過率が50%以上の基板を指す。より具体的には、金属イオンの溶出による配向乱れの影響を抑えるため、無アルカリガラス基板や低アルカリガラス基板等が好適に用いられる。ただし、透明基板は、上述のガラス基板に限定されるものではなく、例えばパッシベーション膜を備えた透明樹脂基板であってもよい。第1の基板21、および第2の基板22の厚みは第2の基板22との間に液晶層5を封入出来れば厚みはいくらであっても構わない。
本実施形態における第1の電極31、第2の電極32、および第3の電極33の材料は、例えば酸化インジウムスズ(ITO)、酸化チタン(TiOX)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)、アルミドープ酸化亜鉛(AZO)フッ素ドープスズ(FTO)等の酸化物や、アルミ(Al)等の金属などが挙げられる。各電極は、高い光透過性、光透過率の波長依存性が低いこと、化学的安定性が高いことが求められるが、これらの中では、特に低い抵抗率と高い光透過率を示すITOが好ましい。また、第1の電極31は機能膜4を介して第2の電極32の外周に配置されている。
本実施形態に用いる機能膜4は少なくとも一部に膜厚方向に組成傾斜部を有し、第1の電極31および第2の電極32に接する領域(領域Aに等しい)のシート抵抗値が、液晶層5に接する領域(領域Bに等しい)のシート抵抗値よりも高くなるように形成されている。図4−aに理想的な液晶レンズの電位分布形状を示す模式図を、図4−bに好ましくない液晶レンズの電位分布形状を示す模式図を、それぞれ示す。本実施形態の構成においてレンズ効果を得るためには、図4−aに示したような二次曲線状の電位分布形状を得ることが望ましい。そのためには、領域Bに対して領域Aのシート抵抗値の大きさが5桁以上大きいことが必要である。さらに、領域Aのシート抵抗値を5桁から6桁の範囲に設定すると、幅広い周波数範囲で二次曲線形状の電位分布を得られることから、より好ましい。一方、領域Aのシート抵抗値の大きさを4桁以下とした場合は、図4−bのような鍋底形状の電位分布となるためにレンズ効果を得ることは困難となる。
また、本実施形態に用いる機能膜4は、前述した各領域のシート抵抗値の関係を満たしていれば、図5の系列2のように膜厚方向の組成傾斜領域が機能膜4の全体に及んでいても良いし、系列1、系列3のように機能膜4の一部が組成傾斜していても良い。ただし、組成傾斜領域ではシート抵抗値の制御が難しくなるため、組成傾斜領域は機能膜の一部と側に近い領域に形成すると良い。このようにすることで、機能膜の電極にすることが好ましい。より好ましくは、系列1のように組成傾斜部を電極側よりも液晶層接する領域でのシート抵抗値のバラつきを抑制することができ、電極間の短絡が防止できることから、安定して理想的な電位分布を得ることが可能となる。
機能膜4の材料は、高い透過率を有し、組成比の変化に応じて抵抗率が変動する材料から選択するとよい。具体的にはN、O、F、Mg、Al、Ti、Ni、Zn、Ga、Nb、Ag、In、Sn、Sb、Taのいずれかの元素を必ず含む2種類以上の元素を組み合わせてなる薄膜にて形成し、且つ、少なくとも2種類の元素の組成比を機能膜の全領域において0より大きくするとよい。なお、前述した元素群の元素を2種類以上含み、さらに他の元素を追加して薄膜を形成する、としてもよい。
我々の検討結果では、その中でも、ZnOにAl2O3とMgOを添加した材料が特に優れた透過率と、組成比に対して幅広い抵抗率変動を示したことから、好適であるとわかっている。
機能膜4の組成傾斜部を形成させる方法としては、複数のターゲットを用意して多元スパッタ機を用いてスパッタ条件を連続的に変化させ、組成比を連続的に変化させながら成膜する方法、組成比の異なる層を複数層成膜した後に適切な熱処理をおこなうことで元素を熱拡散させる方法、組成比の異なる前躯体液を複数用意して、前躯体液を基板に塗布、熱処理を繰り返しおこなうゾル−ゲル法などが挙げられる。
本実施形態に用いる液晶層5は、例えばネマティック液晶が挙げられる。ネマティック液晶は印加電圧の大きさに応じてその実質的な屈折率を連続的に変化させる事が出来、本実施形態はこの特性を利用して第2の電極32部分にレンズ効果を発生させている。また、液晶の応答特性を向上させるために、VA(Vertical Alignment)モード、IPS(In Plane Switching)モード、OCB(Optically Compensated Bend)モードに適した液晶や、液晶内部に高分子による周期的な構造を形成することで安定化されたブルー相を示す液晶を用いても良い。またさらには、液晶光学素子の屈折率の可変範囲を拡大するために、屈折率の異方性(Δn)が大きな液晶を用いても良い。例えば、ネマティック液晶の置換基として、シアノ基に代表される液晶分子の分極率を大きくする置換基を導入することが考えられる。
(変形例)
図2に、本実施形態の変形例における液晶レンズの模式断面構成図を示す。本変形例の、機能膜4、液晶層5、第3の電極33が形成された第2の基板32、の順に積層された積層構造は、図2の変形例で示したように、機能膜4、第1の配向膜61、液晶層5、第2の配向膜62、第3の電極33が形成された第2の基板22、の順に積層された積層構造で構成することができる。
図2に、本実施形態の変形例における液晶レンズの模式断面構成図を示す。本変形例の、機能膜4、液晶層5、第3の電極33が形成された第2の基板32、の順に積層された積層構造は、図2の変形例で示したように、機能膜4、第1の配向膜61、液晶層5、第2の配向膜62、第3の電極33が形成された第2の基板22、の順に積層された積層構造で構成することができる。
本変形例に用いる第1の配向膜61、第2の配向膜62の材料はポリイミド樹脂であり、第1の配向膜61と第2の配向膜62に挟まれた液晶層5内の液晶分子を規則正しく配列させるため一定方向にラビング(Rubbing)処理、すなわち、配向膜処理方法の一つでありポリイミドなどで形成された配向膜を布などで擦ることによって配向性能を付加するものである、が行われている。第1の配向膜61と第2の配向膜62はお互いのラビング方向が反並行となるように配置されている。配向効果をより持たせる事により液晶レンズを透過する光の透過率を上げる効果やディスクリネーションの発生を抑制する効果がある。また、ラビング処理以外で配向性能を付与する手法としては、光感応性の配向膜を用いてUV照射によって配向を形成する手法、配向膜に斜方蒸着膜を用いる手法などが挙げられる。
本変形例の、第1の基板21における、第1の電極31及び第2の電極32が形成されている面と反対側の面及び、第2の基板22における第3の電極33が形成されている面と反対側の面には、それぞれ第1の反射防止膜71と第2の反射防止膜72が形成されている事が好ましい。
本変形例に用いる第1の反射防止膜71および第2の反射防止膜72の材料は、SiO2とTa2O5の積層膜である。反射防止膜を持たせる事によりレンズ表面で反射する光量を少なくし透過率を高める効果がある。
以下、実施例および比較例を通じて、本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明は実施例の内容に限定されるものではない。
(実施例1)
(実施例1)
まず、ガラス基板上に第1の電極と第2の電極を形成した。片側の面に第1の反射防止膜が形成された厚み300μmの第1のガラス基板を用意した。第1のガラス基板の、反射防止膜とは反対側の面上に、電極である酸化インジウムスズ(ITO)をスパッタ法により成膜した。その後エッチング工程で電極を部分的に除去し、分割することで、第1の電極および第2の電極を形成した。なお、レンズ部となる第2の電極の直径は2mmとした。
次に、機能膜を作製した。機能膜は、NiO、Ag2Oの組成傾斜膜とした。多元スパッタ機を用いてNiO、Ag2Oの2つのターゲットに対する投入出力を連続的に変化させて、組成傾斜領域が機能膜全体に及ぶように成膜した。その後、シート抵抗値を安定化させるために大気中で300℃、1時間の熱処理をおこなった。この熱処理工程において、アニール後の機能膜には膜剥がれの発生が生じることはなかった。ダミーサンプルを用いて4探針測定器で機能膜のシート抵抗値を評価したところ、最表面側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]であった。機能膜を膜厚の10%の位置までエッチングして電極側のシート抵抗値を測定したところ、電極側のシート抵抗値は約1.0×1014[Ω/□]であった。この結果、得られた機能膜の最表面側と電極側とのシート抵抗値の比は約7桁であることが確認された。
続いて、機能膜の表面にポリイミドからなる第1の配向膜を形成し、ラビング処理を実施した。
一方で、第2のガラス基板上にITOをスパッタ法により成膜して第3の電極を形成した。その後、第3の電極が形成された面にポリイミドからなる第2の配向膜を形成し、第1の配向膜と同様にラビング処理を行った。
最後に、第1の配向膜を形成した第1の基板と、第2の配向膜を形成した第2の基板を配向膜面が対向し且つ各配向膜のラビング方向が反並行となる様に配置し固定させた後、その隙間に液晶材料と直径30μmの球状スペーサとを真空封入し、厚さ30μmの液晶層を形成し、液晶レンズを作製した。
作製した液晶レンズおよび機能膜単体について、以下の手順で評価をおこなった。
(電位分布評価)
作製した液晶レンズに、第1の電極、第3の電極間に3.5Vrms、第2の電極、第3の電極間に1.0Vrmsの電圧を10Hz,100Hz,1kHzでそれぞれ印加した。このときに液晶にかかる電位分布を図6に示した。駆動周波数1kHzにおいて二次曲線形状で、且つ、大きな電位差が得られており、レンズ効果が得られていることがわかる。
作製した液晶レンズに、第1の電極、第3の電極間に3.5Vrms、第2の電極、第3の電極間に1.0Vrmsの電圧を10Hz,100Hz,1kHzでそれぞれ印加した。このときに液晶にかかる電位分布を図6に示した。駆動周波数1kHzにおいて二次曲線形状で、且つ、大きな電位差が得られており、レンズ効果が得られていることがわかる。
(密着性評価)
機能膜の密着性評価として、ダミーサンプルを用いてテープ引き剥がし試験を実施した。カット幅1mm間隔、100マス中でテープに付着した小片の個数を計測することで密着性を評価した。実施例1における密着性評価の試験結果を表1に示す。試験結果より、良好な密着性が確認された。また、300℃の熱処理工程でも膜剥がれが発生しなかったことからも、強い密着性を有しているといえる。
機能膜の密着性評価として、ダミーサンプルを用いてテープ引き剥がし試験を実施した。カット幅1mm間隔、100マス中でテープに付着した小片の個数を計測することで密着性を評価した。実施例1における密着性評価の試験結果を表1に示す。試験結果より、良好な密着性が確認された。また、300℃の熱処理工程でも膜剥がれが発生しなかったことからも、強い密着性を有しているといえる。
(光学特性の評価)
機能膜の光学特性の評価として、ダミーサンプルを用いて、透過率を分光エリプソメーターにて250〜1000nmの波長範囲において測定を実施した。試料はガラス基板を用いて、サンプルの透過率を測定した後、ガラス基板の透過率を差し引くことで、機能膜のみの透過率を算出した。実施例1における透過率の評価結果を図7に、波長532nmでの透過率を表1に示す。可視光領域で透過率が65%以上を示しており、高い光学特性を有していることが確認された。
機能膜の光学特性の評価として、ダミーサンプルを用いて、透過率を分光エリプソメーターにて250〜1000nmの波長範囲において測定を実施した。試料はガラス基板を用いて、サンプルの透過率を測定した後、ガラス基板の透過率を差し引くことで、機能膜のみの透過率を算出した。実施例1における透過率の評価結果を図7に、波長532nmでの透過率を表1に示す。可視光領域で透過率が65%以上を示しており、高い光学特性を有していることが確認された。
(実施例2)
実施例2では、機能膜をNiO、Ag2O、MgOの組成傾斜膜として、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1015[Ω/□]、となるように組成傾斜比を調整して成膜した。その他の構成や条件等は実施例1と同様とし、同様の評価をおこなった。評価結果を表1に示した。
実施例2では、機能膜をNiO、Ag2O、MgOの組成傾斜膜として、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1015[Ω/□]、となるように組成傾斜比を調整して成膜した。その他の構成や条件等は実施例1と同様とし、同様の評価をおこなった。評価結果を表1に示した。
(実施例3)
実施例3では、機能膜をTiO2、NbOの組成傾斜膜として、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1014[Ω/□]、となるように組成傾斜比を調整して成膜した。その他の構成や条件等は実施例1と同様とし、同様の評価をおこなった。評価結果を表1に示した。
実施例3では、機能膜をTiO2、NbOの組成傾斜膜として、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1014[Ω/□]、となるように組成傾斜比を調整して成膜した。その他の構成や条件等は実施例1と同様とし、同様の評価をおこなった。評価結果を表1に示した。
(実施例4)
実施例4では、機能膜をTa2O5、N2の組成傾斜膜として、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1014[Ω/□]、となるように組成傾斜比を調整して成膜した。その他の構成や条件等は実施例1と同様とし、同様の評価をおこなった。評価結果を表1に示した。
実施例4では、機能膜をTa2O5、N2の組成傾斜膜として、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1014[Ω/□]、となるように組成傾斜比を調整して成膜した。その他の構成や条件等は実施例1と同様とし、同様の評価をおこなった。評価結果を表1に示した。
(実施例5)
実施例5では、機能膜をF、SnO2の組成傾斜膜として、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1015[Ω/□]、となるように組成傾斜比を調整して成膜した。その他の構成や条件等は実施例1と同様とし、同様の評価をおこなった。評価結果を表1に示した。
実施例5では、機能膜をF、SnO2の組成傾斜膜として、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1015[Ω/□]、となるように組成傾斜比を調整して成膜した。その他の構成や条件等は実施例1と同様とし、同様の評価をおこなった。評価結果を表1に示した。
(実施例6)
実施例6では、機能膜をSb2O3、SnO2の組成傾斜膜として、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1014[Ω/□]、となるように組成傾斜比を調整して成膜した。その他の構成や条件等は実施例1と同様とし、同様の評価をおこなった。評価結果を表1に示した。
実施例6では、機能膜をSb2O3、SnO2の組成傾斜膜として、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1014[Ω/□]、となるように組成傾斜比を調整して成膜した。その他の構成や条件等は実施例1と同様とし、同様の評価をおこなった。評価結果を表1に示した。
(実施例7)
実施例7では、機能膜をGa2O3、ZnOの組成傾斜膜として、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1014[Ω/□]、となるように組成傾斜比を調整して成膜した。その他の構成や条件等は実施例1と同様とし、同様の評価をおこなった。評価結果を表1に示した。
実施例7では、機能膜をGa2O3、ZnOの組成傾斜膜として、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1014[Ω/□]、となるように組成傾斜比を調整して成膜した。その他の構成や条件等は実施例1と同様とし、同様の評価をおこなった。評価結果を表1に示した。
(実施例8)
実施例8では、機能膜をIn2O3、SnO2の組成傾斜膜として、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1015[Ω/□]、となるように組成傾斜比を調整して成膜した。その他の構成や条件等は実施例1と同様とし、同様の評価をおこなった。評価結果を表1に示した。
実施例8では、機能膜をIn2O3、SnO2の組成傾斜膜として、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1015[Ω/□]、となるように組成傾斜比を調整して成膜した。その他の構成や条件等は実施例1と同様とし、同様の評価をおこなった。評価結果を表1に示した。
(実施例9)
実施例9では、機能膜をZnO、Al2O3、MgOの組成傾斜膜として、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1015[Ω/□]、となるように組成傾斜比を調整して成膜した。その他の構成や条件等は実施例1と同様とし、同様の評価をおこなった。評価結果を表1に示した。評価結果から、機能膜にZnOにAl2O3、MgOを添加した材料を用いることで、光学特性の向上と膜剥がれの抑制効果がより顕著であることがわかった。
実施例9では、機能膜をZnO、Al2O3、MgOの組成傾斜膜として、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1015[Ω/□]、となるように組成傾斜比を調整して成膜した。その他の構成や条件等は実施例1と同様とし、同様の評価をおこなった。評価結果を表1に示した。評価結果から、機能膜にZnOにAl2O3、MgOを添加した材料を用いることで、光学特性の向上と膜剥がれの抑制効果がより顕著であることがわかった。
(実施例10)
実施例10では、機能膜をZnO、Al2O3、MgOの組成傾斜膜とし、且つ、組成傾斜領域が液晶層側に近い領域に存在するように機能膜を成膜して、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1014[Ω/□]、となるように組成傾斜比を調整して成膜した。その他の構成や条件は実施例1と同様とした。評価結果を表1に示した。
実施例10では、機能膜をZnO、Al2O3、MgOの組成傾斜膜とし、且つ、組成傾斜領域が液晶層側に近い領域に存在するように機能膜を成膜して、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1014[Ω/□]、となるように組成傾斜比を調整して成膜した。その他の構成や条件は実施例1と同様とした。評価結果を表1に示した。
実施例10では、組成傾斜の位置の効果を評価するため、干渉縞の画像評価をおこなった。液晶レンズが正常に駆動しているときの干渉縞の写真を図10、第1の電極、第2の電極間の絶縁不良が原因で干渉縞がひしゃげている写真を図9にそれぞれ示す。実施例1から実施例3の機能膜を用いた場合、稀に図9のような干渉縞を示すサンプルが見られた。実施例1から実施例9の方法では、組成傾斜が機能膜全体に及んでいるために、機能膜の電極に近い領域で狙いからの組成変化が生じてシート抵抗値が変動した場合、電極間のショートが起こる可能性があった。実施例4では電極に近い領域では組成傾斜部を設けていないために、狙い組成からのズレが抑制できており、絶縁性が保てる構造となっている。実施例10のように機能膜の成膜の際、電極間の絶縁を確保するための領域を、組成傾斜させずに成膜することで、多少の組成変化が生じた場合も安定して絶縁性を確保することができ、より安定して理想的な電位分布を形成させることができる。
(実施例11)
実施例11では、機能膜をZnO、Al2O3、MgOの組成傾斜膜とし、且つ、組成傾斜領域が液晶層側に近い領域に存在するように機能膜を成膜して、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1013[Ω/□]となるように組成傾斜比を調整して成膜した(シート抵抗値の比が約6桁)。なお、その他の構成や条件は実施例1と同様とした。
実施例11では、機能膜をZnO、Al2O3、MgOの組成傾斜膜とし、且つ、組成傾斜領域が液晶層側に近い領域に存在するように機能膜を成膜して、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1013[Ω/□]となるように組成傾斜比を調整して成膜した(シート抵抗値の比が約6桁)。なお、その他の構成や条件は実施例1と同様とした。
(実施例12)
実施例12では、機能膜をZnO、Al2O3、MgOの組成傾斜膜として、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1012[Ω/□]となるように組成傾斜比を調整して成膜した(シート抵抗値の比が約5桁)。なお、その他の構成や条件は実施例1と同様とした。
実施例12では、機能膜をZnO、Al2O3、MgOの組成傾斜膜として、液晶レンズを作製した。機能膜の液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1012[Ω/□]となるように組成傾斜比を調整して成膜した(シート抵抗値の比が約5桁)。なお、その他の構成や条件は実施例1と同様とした。
実施例11、12では、シート抵抗値の比の効果を明らかにするため電位分布の評価をおこなった。実施例11の電位分布の評価結果を図11に、その他の評価結果を表1に示す。図6(実施例1)を見ると、駆動周波数1kHz以外の周波数では電位差が小さく、レンズパワーの小さいレンズしかできないことがわかる。図11を見ると、1kHzのときの電位差の大きさには劣るが、10Hz、1Hzの周波数でもレンズ効果を得るための電位差が確保できており、且つ、二次曲線形状の電位分布が得られている。また図には示していないが、実施例12においても実施例11と同様の結果が得られた。この結果、両者のシート抵抗値の比を5〜6桁とすることで、このような周波数依存性の小さい液晶レンズを作製できることがわかった。
(実施例13)
実施例13では、機能膜をNiO、Ag2Oの組成傾斜膜として、且つ、液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1010[Ω/□]となるように組成傾斜比を調整して成膜し、液晶レンズを作製した。その他の構成や実験条件は実施例1と同様とした。評価結果を表1に示す。
実施例13では、機能膜をNiO、Ag2Oの組成傾斜膜として、且つ、液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1010[Ω/□]となるように組成傾斜比を調整して成膜し、液晶レンズを作製した。その他の構成や実験条件は実施例1と同様とした。評価結果を表1に示す。
(実施例14)
実施例14では、機能膜をNiO、Ag2Oの組成傾斜膜として、且つ、液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1011[Ω/□]となるように組成傾斜比を調整して成膜し、液晶レンズを作製した。その他の構成や実験条件は実施例1と同様とした。評価結果を表1に示す。
実施例14では、機能膜をNiO、Ag2Oの組成傾斜膜として、且つ、液晶層側のシート抵抗値は約1.0×107[Ω/□]、電極側のシート抵抗値は約1.0×1011[Ω/□]となるように組成傾斜比を調整して成膜し、液晶レンズを作製した。その他の構成や実験条件は実施例1と同様とした。評価結果を表1に示す。
(比較例)
比較例として、機能膜を使用せずに、従来の2層構造を用いて絶縁層にSiO2、高抵抗層にNiOにAg2Oを添加した膜を用いて液晶レンズを作製した。その他の構成や実験条件は実施例1と同様とした。評価結果を表1に示す。
比較例として、機能膜を使用せずに、従来の2層構造を用いて絶縁層にSiO2、高抵抗層にNiOにAg2Oを添加した膜を用いて液晶レンズを作製した。その他の構成や実験条件は実施例1と同様とした。評価結果を表1に示す。
実施例13、14のように、液晶層側のシート抵抗値と電極側のシート抵抗値の比を小さくした場合は、いずれの周波数においても図4−bのような鍋底形状の電位分布となり、レンズ効果を得るのが困難になる傾向が認められる。二次曲線上の電位分布を得るためには液晶層側のシート抵抗値と電極側のシート抵抗値の比をある程度大きくする必要があり、評価結果から、その比を5桁以上とすることが望ましいことがわかった。一方、比較例のような従来の絶縁層と高抵抗層を用いた2層構造とした場合、シート抵抗値の比が7桁と大きく、好ましい電位分布が得られるように見えても、剥離試験の結果に明らかなように十分な密着性が得られていない。比較例の構造では、熱処理工程においても膜剥がれを生じることがあった。屈折率に関しても2層の界面で急激な変化を生じるために、透過率も実施例1から14に劣るという結果であった。
以上の結果から、本発明によれば、膜剥がれが無く、優れた光学特性を有し、液晶に安定して理想的な電位分布を形成できる低電圧駆動液晶レンズを提供できることが示された。
本発明の低電圧駆動液晶レンズは、機械的な駆動部分を持たず、電圧印加により静的な焦点可変が可能である。したがって、携帯電話のカメラや内視鏡カメラのオートフォーカス用レンズ、ズーム用レンズなどに利用できることから、高い産業上の利用可能性を有する。
1、10 液晶レンズ
4 機能膜
5 液晶層
21 第1の基板
22 第2の基板
31 第1の電極
32 第2の電極
33 第3の電極
61 第1の配向膜
62 第2の配向膜
71 第1の反射防止膜
72 第2の反射防止膜
4 機能膜
5 液晶層
21 第1の基板
22 第2の基板
31 第1の電極
32 第2の電極
33 第3の電極
61 第1の配向膜
62 第2の配向膜
71 第1の反射防止膜
72 第2の反射防止膜
Claims (6)
- 第1の電極と第2の電極とを一の面上に有する第1の基板と、
第3の電極を一の面上に有する第2の基板と、
前記第1の基板の前記第1の電極および前記第2の電極が形成された面と、前記第2の基板の前記第3の電極が形成された面と、の間に設けられた液晶層と、を有し、
前記第2の基板と前記液晶層との間には、機能膜が配置されており、
前記機能膜は、少なくとも一部において、膜厚方向に連続的に組成が傾斜している組成傾斜部を有する
ことを特徴とする液晶レンズ。 - 前記機能膜は、前記第1の電極および/または前記第2の電極に接する領域(領域A)のシート抵抗値が、前記液晶層に接する領域(領域B)のシート抵抗値に対して5桁以上大きい
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶レンズ。 - 前記機能膜は、N、O、F、Mg、Al、Ti、Ni、Zn、Ga、Nb、Ag、In、Sn、Sb、Taの元素のうちの2種類以上を必ず含む薄膜で形成され、且つ、そのうち少なくとも2種類の元素の組成比が、前記機能膜の全領域において0より大きくなっている
ことを特徴とする請求項1または2に記載の液晶レンズ。 - 前記機能膜は、Zn、Al、Mg、Oの元素の4種を組み合わせてなる薄膜にて形成され、且つ、そのうち少なくとも3種類の原子の組成比が前記機能膜の全領域において0より大きくなっている
ことを特徴とする請求項1から3のうちのいずれか一項に記載の液晶レンズ。 - 前記機能膜は、前記組成傾斜部が、前記領域Aの側よりも、前記領域Bの側に近い
ことを特徴とする請求項1から4のうちのいずれか一項に記載の液晶レンズ。 - 前記機能膜は、前記領域Aのシート抵抗値は、前記領域Bのシート抵抗値よりも、5桁〜6桁大きい
ことを特徴とする請求項1から5のうちのいずれか一項に記載の液晶レンズ。
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