WO2012073540A1 - 液晶プロジェクタ用液晶パネル、および液晶プロジェクタ - Google Patents

液晶プロジェクタ用液晶パネル、および液晶プロジェクタ Download PDF

Info

Publication number
WO2012073540A1
WO2012073540A1 PCT/JP2011/062515 JP2011062515W WO2012073540A1 WO 2012073540 A1 WO2012073540 A1 WO 2012073540A1 JP 2011062515 W JP2011062515 W JP 2011062515W WO 2012073540 A1 WO2012073540 A1 WO 2012073540A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
film
refractive index
liquid crystal
layer
thickness
Prior art date
Application number
PCT/JP2011/062515
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
雅仁 石川
菊川　信也
幸長 梶谷
Original Assignee
旭硝子株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 旭硝子株式会社 filed Critical 旭硝子株式会社
Publication of WO2012073540A1 publication Critical patent/WO2012073540A1/ja

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115—Multilayers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/28—Interference filters
    • G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133521—Interference filters

Definitions

  • the present invention relates to a liquid crystal panel for a liquid crystal projector and a liquid crystal projector.
  • a liquid crystal projector is used to project image information onto a projection object such as a screen.
  • the liquid crystal projector has a liquid crystal panel as a spatial modulation element.
  • the liquid crystal panel is modulated by irradiating light from a light source, and projected onto an external projection object by a projection lens.
  • a counter substrate is arranged at a minute interval so as to face the thin film transistor substrate, and a liquid crystal part is arranged between them.
  • a display electrode for aligning liquid crystal by applying a voltage to each pixel portion is formed on the thin film transistor substrate, and a common electrode is formed on the entire surface of the counter substrate.
  • a light shielding member called a black matrix is formed on a substrate body such as a glass substrate, and an ITO (Indium Tin Oxide) film is formed as a common electrode on almost the entire surface so as to cover the light shielding member.
  • ITO Indium Tin Oxide
  • a laminated film on a counter substrate of a liquid crystal panel is provided.
  • the laminated film is formed by alternately stacking six layers of high refractive index films and low refractive index films from the substrate body side of the counter substrate, and the thickness of each refractive index film is set to a predetermined thickness (for example, see Patent Document 2).
  • liquid crystal projectors are required to be further improved in brightness and superior in performance, and reduced in power consumption and environmentally friendly.
  • the transmittance and the like are improved by providing a predetermined laminated film, but the transmittance when the liquid crystal panel is formed is not necessarily clear.
  • the effect when the laminated film is provided not only on the counter substrate side but also on the thin film transistor substrate side, the influence of the number of layers of the refractive index film and the film thickness, etc. are not clarified.
  • the present invention has been made in order to solve the above-described problems, and is a liquid crystal that has excellent light transmittance of wavelengths of R, G, and B, suppresses fluctuations thereof, and also has good productivity. It aims at providing the liquid crystal panel for projectors. Another object of the present invention is to provide a liquid crystal projector having high performance using such a liquid crystal panel for a liquid crystal projector.
  • a liquid crystal panel for a liquid crystal projector includes a first substrate portion, a second substrate portion disposed to face the first substrate portion, the first substrate portion, and the second substrate portion. And a light transmittance of light having wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm is 87% or more.
  • a first laminated film, a first transparent electrode, and a first alignment film are laminated in order on at least a portion of each pixel portion of the first substrate body serving as a display portion.
  • a second laminated film, a second transparent electrode, and a second alignment film are laminated in this order on the second substrate body.
  • the first laminated film has a high refractive index film having a refractive index of 1.9 to 2.5 and a low refractive index film having a refractive index of 1.2 to 1.5 alternately measured from the first substrate body side.
  • 6 layers are laminated, and the thickness of each refractive index film is 1 to 26 nm for the first layer, 1 to 1000 nm for the second layer, 1 to 30 nm for the third layer, and 5 to 1 layer for the fourth layer.
  • the eyes are 2 to 41 nm, and the sixth layer is 1 to 95 nm.
  • the sixth layer is preferably 6 to 95 nm.
  • the second laminated film includes a high refractive index film having a refractive index of 1.9 to 2.5 and a low refractive index film having a refractive index of 1.2 to 1.5 alternately measured from the second substrate body side.
  • 6 layers are laminated, and the thickness of each refractive index film is 1 to 26 nm for the first layer, 1 to 1000 nm for the second layer, 1 to 30 nm for the third layer, and 5 to 1 layer for the fourth layer.
  • the eyes are 2 to 41 nm, and the sixth layer is 6 to 95 nm.
  • the liquid crystal projector of the present invention has a liquid crystal panel for forming image information to be projected onto a projection object, and this liquid crystal panel is the above-described liquid crystal panel for a liquid crystal projector of the present invention.
  • the wavelength of each color of R, G, B can be maintained while maintaining good productivity.
  • the light transmittance can be improved and fluctuations thereof can be suppressed. Thereby, it can be made suitable for a liquid crystal projector.
  • the liquid crystal projector of the present invention by using the above-described liquid crystal panel for a liquid crystal projector of the present invention, the brightness is improved and the performance is improved, and the power consumption is reduced and the environment is considered. Can do.
  • substrate part of the liquid crystal panel shown in FIG. 6 is a graph showing the transmittance of the liquid crystal panels of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of a liquid crystal panel for a liquid crystal projector (hereinafter simply referred to as a liquid crystal panel) according to an embodiment. Note that FIG. 1 shows an enlarged portion of approximately one pixel.
  • the liquid crystal panel 1 includes a first substrate unit 2, a second substrate unit 3 disposed so as to face the first substrate unit 2, the first substrate unit 2, the second substrate unit 3, and the like. And a liquid crystal portion 4 disposed between the two.
  • the first substrate portion 2 has a first substrate body 21 and has a pixel portion on the inner side thereof, that is, on the main surface facing the second substrate portion 3.
  • a driving element 22 such as a thin film transistor (TFT) element is provided, and at least a portion serving as a display portion includes a first laminated film 23 and a first transparent electrode 24 serving as a display electrode.
  • the first alignment film 25 are sequentially stacked.
  • a thin film transistor substrate is suitably used as the first substrate unit 2.
  • a base film or the like is provided between the first substrate body 21 and the first laminated film 23, or a protective film is provided on the first laminated film 23.
  • a film or the like can be provided.
  • a dust-proof glass for protecting the liquid crystal panel 1 from dust in the air can be provided outside the first substrate body 21.
  • the second substrate unit 3 includes a second substrate body 31, and on the inner side thereof, that is, on the main surface side facing the first substrate unit 2, the second stacked film 32 and the second electrode serving as a common electrode are provided.
  • a transparent electrode 33 and a second alignment film 34 are sequentially stacked.
  • a base film or the like is provided between the second substrate body 31 and the second laminated film 32 or a protective film is provided on the second laminated film 32.
  • a film or the like can be provided.
  • a dustproof glass for protecting the liquid crystal panel 1 from dust in the air can be provided outside the second substrate body 31.
  • a light shielding member 35 called a black matrix may be provided inside the second substrate body 31, for example.
  • the light-shielding member 35 can have the second laminated film 32 formed in a uniform plane and can be laminated on the second laminated film 32.
  • the light shielding member 35 can be directly laminated on the second substrate body 31, and the second laminated film 32 can be provided so as to surround the periphery.
  • the first laminated film 23 has a high refractive index film (refractive index films 231, 233, 235) having a refractive index of 1.9 to 2.5 (refractive index at a wavelength of 589 nm, the same applies hereinafter). ) And low refractive index films (refractive index films 232, 234, 236) having a refractive index of 1.2 to 1.5 are alternately stacked from the first substrate body 21 side.
  • the thickness of each refractive index film is 1 to 26 nm, more preferably 2 to 15 nm for the first refractive index film 231, and preferably 1 to 1000 nm, more preferably 60 to 75 nm for the second refractive index film 232.
  • the refractive index film 233 of the layer is 1 to 30 nm, more preferably 5 to 20 nm, the refractive index film 234 of the fourth layer is 1 to 1000 nm, more preferably 55 to 70 nm, the refractive index film 235 of the fifth layer is 2 to 41 nm, More preferably, the refractive index film 236 of the sixth layer is 10 to 25 nm, 1 to 95 nm, more preferably 6 to 95 nm, and particularly preferably 25 to 55 nm.
  • the thickness of the second refractive index film 232 and the fourth refractive index film 234 in the first laminated film 23 is preferably 200 nm or less, more preferably 150 nm or less. preferable.
  • the second laminated film 32 has a high refractive index film (refractive index films 321, 323, and 325) having a refractive index of 1.9 to 2.5 and a refractive index of 1.2 to 1.
  • 5 low refractive index films are alternately laminated in total from the second substrate body 31 side.
  • the thickness of each refractive index film is 1 to 26 nm, more preferably 2 to 15 nm for the first refractive index film 321, and preferably 1 to 1000 nm, more preferably 60 to 75 nm for the second refractive index film 322.
  • the refractive index film 323 of the layer is 1 to 30 nm, more preferably 5 to 20 nm
  • the refractive index film 324 of the fourth layer is 1 to 1000 nm, more preferably 60 to 70 nm
  • the refractive index film 325 of the fifth layer is 2 to 2 nm.
  • the refractive index film 326 of the sixth layer is 41 to 95 nm, more preferably 10 to 25 nm, and more preferably 25 to 55 nm.
  • the first laminated film 23 has a first refractive index film 231 of 3 to 15 nm, a second refractive index film 232 of 45 to 90 nm, more preferably 60 to 75 nm, and a third refractive index film 233. 2 to 16 nm, more preferably 5 to 16 nm, the fourth refractive index film 234 is 1 to 110 nm, more preferably 55 to 70 nm, and the fifth refractive index film 235 is 12 to 28 nm, more preferably 12 to 25 nm.
  • the sixth-layer refractive index film 236 has a thickness of 19 to 52 nm, more preferably 25 to 35 nm.
  • the first refractive index film 321 is 1 to 18 nm, more preferably 2 to 15 nm
  • the second refractive index film 322 is 26 to 100 nm, more preferably 60 to 75 nm.
  • the refractive index film 323 of the eye is 1 to 21 nm, more preferably 5 to 20 nm
  • the refractive index film 324 of the fourth layer is 20 to 105 nm, more preferably 60 to 70 nm
  • the refractive index film 325 of the fifth layer is 11 to 32 nm. More preferably, the refractive index film 326 of the sixth layer is 11 to 25 nm, and 25 to 70 nm, more preferably 25 to 55 nm.
  • the film thickness of the first transparent electrode 24 is 60 to 120 nm (excluding 120 nm), particularly 90 to 110 nm, the following thickness is preferable.
  • the first refractive index film 231 is 1 to 12 nm, more preferably 2 to 12 nm
  • the second refractive index film 232 is 23 to 110 nm, more preferably 60 to 70 nm.
  • the refractive index film 233 of the eye is 7 to 24 nm, more preferably 7 to 20 nm
  • the refractive index film 234 of the fourth layer is 35 to 103 nm, more preferably 55 to 70 nm
  • the refractive index film 235 of the fifth layer is 8 to 23 nm.
  • the refractive index film 236 of the sixth layer is 10 to 23 nm, and 1 to 55 nm, more preferably 25 to 40 nm.
  • the first refractive index film 321 is 1 to 20 nm, more preferably 2 to 15 nm
  • the second refractive index film 322 is 20 to 106 nm, more preferably 60 to 75 nm.
  • the refractive index film 323 of the eye is 1 to 24 nm, more preferably 10 to 20 nm
  • the refractive index film 324 of the fourth layer is 1 to 120 nm, more preferably 60 to 70 nm
  • the refractive index film 325 of the fifth layer is 8 to 33 nm.
  • the refractive index film 326 of the sixth layer is 20 to 74 nm, more preferably 30 to 55 nm.
  • the first laminated film 23 has a first refractive index film 231 of 1 to 26 nm, more preferably 2 to 15 nm, and a second refractive index film 232 of 1 to 1000 nm, more preferably 60 to 75 nm.
  • the refractive index film 233 of the eye is 1 to 30 nm, more preferably 5 to 20 nm
  • the refractive index film 234 of the fourth layer is 1 to 1000 nm, more preferably 60 to 70 nm
  • the refractive index film 235 of the fifth layer is 2 to 41 nm.
  • the refractive index film 236 of the sixth layer is 10 to 25 nm, and more preferably 40 to 55 nm.
  • the first refractive index film 321 is 1 to 26 nm, more preferably 2 to 15 nm
  • the second refractive index film 322 is 1 to 1000 nm, more preferably 60 to 75 nm.
  • the refractive index film 323 of the eye is 1 to 30 nm, more preferably 5 to 20 nm
  • the refractive index film 324 of the fourth layer is 1 to 1000 nm, more preferably 60 to 70 nm
  • the refractive index film 325 of the fifth layer is 2 to 41 nm.
  • the refractive index film 326 of the sixth layer is 6 to 95 nm, more preferably 40 to 55 nm.
  • the thickness of the fourth refractive index film 324 is preferably 200 nm or less, and more preferably 150 nm or less.
  • the film thickness of the second transparent electrode 33 is preferably 10 to 30 nm, more preferably 15 to 25 nm, and particularly preferably 18 to 22 nm.
  • the first substrate portion 2 has the first laminated film 23 having a predetermined configuration
  • the second substrate portion 3 has the second laminated film 32 having a predetermined configuration.
  • the transmittance of light having wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm can be increased to 87% or more.
  • the fluctuation value represented by the difference between the maximum value and the minimum value of the light transmittance in the wavelength range of 400 to 700 nm can be 10% or less, preferably 5% or less.
  • the refractive index of the quartz substrate is about 1.46
  • the refractive index of the ITO film is Since it is about 2, sufficient transmittance cannot always be obtained due to the difference in refractive index.
  • the first laminated film 23 is provided on the first substrate unit 2
  • the second laminated film 32 is provided on the second substrate unit 3, the first laminated film 23
  • the difference in refractive index between the first substrate body 21 and the first transparent electrode 24, and the second can be effectively relaxed, the transmittance of the entire liquid crystal panel 1 can be improved, and fluctuations in the transmittance can also be suppressed.
  • the productivity can be sufficient.
  • the transmittance of light of each of the R, G, and B wavelengths is not sufficiently high, and fluctuations thereof. May not be sufficiently suppressed. If the number of layers of the refractive index film in the first laminated film 23 and the second laminated film 32 is six, the transmittance of light of each of the colors of R, G, and B can be sufficiently increased, and the variation thereof is also sufficient. Can be suppressed. In the present invention, the number of layers may be larger as long as the above number of layers is satisfied. However, if the number of layers is excessively large, the production process may increase and the productivity may decrease. There is.
  • the number of refractive index films is six.
  • the transmittance of light of each of the R, G, and B wavelengths and fluctuations thereof cannot be sufficiently suppressed.
  • the film thickness of the refractive index film exceeds the above range, the transmittance of light of each of the colors of R, G, and B cannot be sufficiently increased, and the fluctuation may not be sufficiently suppressed.
  • productivity decreases as the film formation time increases.
  • the first substrate body 21 and the second substrate body 31 are not necessarily limited as long as they are made of a translucent material.
  • crystallized glass can be used, but the transmittance is high.
  • a quartz substrate is preferably used because of its low thermal expansion.
  • these thicknesses are not necessarily limited, but generally 0.5 to 2.5 mm is preferable.
  • the first substrate body 21 and the second substrate body 31 can be made of different materials and thicknesses.
  • the high refractive index films (refractive index films 231, 233 and 235) of the first laminated film 23 and the high refractive index films (refractive index films 321, 323 and 325) of the second laminated film 32 have a refractive index of 1. 9 to 2.5.
  • examples of such materials include tantalum oxide (refractive index: 2.0 to 2.2), titanium oxide (refractive index: 2.2 to 2.5), and zirconium oxide (refractive index: 1.9 to 2. 0) and at least one selected from high refractive index materials such as hafnium oxide (refractive index: 1.95 to 2.15).
  • tantalum oxide having excellent heat resistance is preferable from the viewpoint of suppressing deterioration due to heat treatment when forming the first transparent electrode 24 and the second transparent electrode 33, particularly the ITO film.
  • the high refractive index film of a total of 6 layers may be made of the same high refractive index material, or may be made of different high refractive index materials.
  • each of the six layers of the high refractive index film may be a single layer film or a multilayer film. In the case of a multilayer film, each layer constituting the multilayer film can be made of the high refractive index material described above.
  • the low refractive index films (refractive index films 232, 234, 236) of the first laminated film 23 and the low refractive index films (refractive index films 322, 324, 326) of the second laminated film 32 have a refractive index of 1. 2 to 1.5.
  • Examples of such a material include at least selected from low-refractive index materials such as silicon oxide (refractive index: 1.44 to 1.48) and magnesium fluoride (refractive index: 1.35 to 1.41). The thing which consists of 1 type is mentioned.
  • the total of six layers of the low refractive index film may be made of the same low refractive index material or different low refractive index materials as in the case of the high refractive index film.
  • the low refractive index film having a total of six layers may be a single layer film or a multilayer film. In the case of a multilayer film, each layer constituting the multilayer film can be made of the low refractive index material described above.
  • the total film thickness of the first laminated film 23, that is, the total film thickness from the first refractive index film 231 to the sixth refractive index film 236 is preferably 150 to 250 nm.
  • the total film thickness of the second laminated film 32, that is, the total film thickness from the first refractive index film 321 to the sixth refractive index film 326 is preferably 150 to 250 nm. If each total film thickness is 150 nm or more, it is possible to effectively improve the transmittance of light of each of the colors of R, G, and B, and it is possible to effectively suppress the variation. Further, if the total film thickness is 250 nm, the transmittance and the like can be sufficiently improved.
  • the total film thickness of the first laminated film 23 is more preferably 180 to 230 nm, and further preferably 190 to 220 nm.
  • the total film thickness of the second laminated film 32 is more preferably 200 to 230 nm, and further preferably 210 to 220 nm.
  • the total film thickness of the second refractive index film 232 and the fifth refractive index film 235 in the first laminated film 23 is preferably 55 to 110 nm. Further, the total film thickness of the second refractive index film 322 and the fifth refractive index film 325 in the second laminated film 32 is preferably 60 to 110 nm.
  • a total of six layers it is roughly divided into a first to third-layer refractive index film group and a fourth to sixth-layer refractive index film group. It is done.
  • Total film of the second refractive index film as the intermediate layer in the first to third refractive index film groups and the fifth refractive index film as the intermediate layer in the fourth to sixth refractive index film groups By setting the thickness within the above range, the transmittance of light of each wavelength of R, G, and B is effectively improved while suppressing the decrease in productivity due to the increase in film formation time, and the variation is also effective. Can be suppressed.
  • the total film thickness of the second refractive index film 232 and the fifth refractive index film 235 in the first laminated film 23 is more preferably 65 to 100 nm, and further preferably 75 to 90 nm.
  • the total film thickness of the second refractive index film 322 and the fifth refractive index film 325 in the second laminated film 32 is more preferably 70 to 100 nm, and further preferably 80 to 90 nm.
  • the total film thickness of the high-refractive index films that are odd-numbered layers of the first laminated film 23, that is, the first refractive index film 231, the third refractive index film 233, and the fifth refractive index film 235 The total film thickness is preferably 10 to 65 nm. Further, the total film thickness of the high-refractive index films as the odd-numbered layers of the second laminated film 32, that is, the first refractive index film 321, the third refractive index film 323, and the fifth refractive index film.
  • the total film thickness of 325 is preferably 10 to 65 nm.
  • the total film thickness of the high refractive index films in the first laminated film 23 and the second laminated film 32 is more preferably 20 to 55 nm, and further preferably 30 to 45 nm.
  • the total film thickness of 236 is preferably 130 to 205 nm.
  • the total film thickness of 326 is preferably 150 to 205 nm.
  • the total film thickness of the low refractive index films of the first laminated film 23 is more preferably 140 to 195 nm, and further preferably 150 to 185 nm. Further, the total film thickness of the low refractive index films of the second laminated film 32 is more preferably 160 to 195 nm, and further preferably 170 to 185 nm.
  • the refractive index film 236 that is the sixth layer of the first laminated film 23 preferably has a surface roughness of 0.5 nm or less on the surface on the second substrate unit 3 side.
  • the refractive index film 326 serving as the sixth layer of the second stacked film 32 preferably has a surface roughness of 0.5 nm or less on the surface on the first substrate portion 2 side.
  • the first transparent electrode 24 and the second transparent electrode 33 are preferably ITO films.
  • the film thickness of the first transparent electrode 24 and the second transparent electrode 33 is not necessarily limited, but the film thickness of the first transparent electrode 24 is preferably 10 to 165 nm, and the film of the second transparent electrode 33 The thickness is preferably 10 to 30 nm.
  • each color of R, G, and B can be obtained by providing the first laminated film 23 and the second laminated film 32. It is possible to effectively improve the transmittance of light having a wavelength of and to effectively suppress fluctuations thereof.
  • the first alignment film 25 and the second alignment film 34 can be, for example, a film obtained by rubbing (orienting) a polyimide organic compound, a vapor deposition film obtained by obliquely depositing an inorganic material such as silicon oxide, or the like. .
  • the film thicknesses of the first alignment film 25 and the second alignment film 34 are not necessarily limited, but the film thickness of the first alignment film 25 is preferably 40 to 80 nm, more preferably 50 to 70 nm, The thickness of the second alignment film 34 is preferably 15 to 55 nm, and more preferably 25 to 45 nm.
  • the film thicknesses of the first alignment film 25 and the second alignment film 34 are in such a range, by providing the first stacked film 23 and the second stacked film 32, the R, G, and B It is possible to effectively improve the transmittance of light of each color wavelength, and to effectively suppress fluctuations thereof.
  • the liquid crystal part 4 can be composed of liquid crystal molecules mixed with one or several types of nematic liquid crystal, and is sealed between the first substrate part 2 and the second substrate part 3 and has a first orientation.
  • the film 25 and the second alignment film 34 are aligned.
  • Such a liquid crystal panel 1 is the same as the conventional liquid crystal panel except that the first laminated film 23 is provided on the first substrate unit 2 and the second laminated film 32 is provided on the second substrate unit 3.
  • the first laminated film 23 is formed on the first substrate body 21 by a known sputtering method with a high refractive index film (refractive index films 231, 233, 235) and a low refractive index film (refractive index films 232, 234, 236).
  • the second laminated film 32 is formed on the second substrate body 31 by a known sputtering method with a high refractive index film (refractive index films 321, 323, 325) and a low refractive index film (refractive index films 322, 324). 326) and three layers alternately, for a total of six layers.
  • Examples of the sputtering method include a DC (direct current) sputtering method, an AC (alternating current) sputtering method, a high frequency sputtering method, and a magnetron sputtering method.
  • a vacuum deposition method can also be used.
  • Examples of the vacuum deposition method include an ion plating method and an ion assist method.
  • the DC magnetron sputtering method, the AC magnetron sputtering method, the ion plating method, and the ion assist method are preferable because the process is stable, the film formation on a large area is easy, and the film thickness control accuracy is stable. .
  • tantalum oxide, titanium oxide, zirconium oxide, and hafnium oxide as the high refractive index film for example, a target composed of a metal element constituting these metal oxides is used, and a gas containing oxygen is used as a sputtering gas. It can be easily formed by a reactive sputtering method. Further, the silicon oxide layer as the low refractive index film can be easily formed by reactive sputtering using, for example, silicon carbide as a target and a gas containing oxygen as a sputtering gas.
  • the target may be doped with a known dopant such as Al, Si, Zn or the like as long as it does not contradict the spirit of the present invention.
  • the first transparent electrode 24 and the first alignment film 25 are sequentially formed on the first laminated film 23 by a known method.
  • the first substrate portion 2 can be formed by stacking.
  • the second transparent electrode 33 and the second alignment film 34 are further formed on the second laminated film 32 by a known method.
  • Such a liquid crystal panel 1 is arranged and used inside a liquid crystal projector. As shown in FIG. 1, light from the light source is incident on the liquid crystal panel 1 on the first substrate unit 2 side, and the incident light is modulated by the liquid crystal panel 1 and emitted from the second substrate unit 3 side. And finally projected onto the projection object arranged outside by the projection lens.
  • the brightness is improved because the liquid crystal panel 1 is excellent in the transmittance of light of each wavelength of R, G, and B, and its fluctuation is also suppressed.
  • power consumption can also be reduced, giving consideration to the environment.
  • the liquid crystal panels 1 of Examples 1 to 3 are manufactured as described below.
  • the liquid crystal panel 1 (Comparative Example 1) that does not have the first laminated film 23 and the second laminated film 32 and the liquid crystal panel 1 (Comparative Example 2) that has only the second laminated film 32 are manufactured. To do.
  • the liquid crystal panels 1 of Examples 1 to 3 have optimum film configurations when the thickness of the first transparent electrode 24 is 145 nm, 100 nm, and 20 nm, respectively.
  • the optimum film configuration is such that the transmittance of light with wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm in the liquid crystal panel 1 is 87% or more.
  • the optimum film configuration was determined under the following conditions.
  • the first substrate body 21 is a quartz substrate (thickness 1.2 mm, refractive index 1.47), the first transparent electrode 24 is an ITO film (refractive index 1.88), and the first alignment film 25 is a polyimide film (
  • the second substrate body 31 is a quartz substrate (thickness 1.2 mm, refractive index 1.47), and the second transparent electrode 33 is an ITO film (thickness 20 nm, refractive index). 1.88), the second alignment film 34 was a polyimide film (thickness 36 nm, refractive index 1.56), and the liquid crystal part 4 was a nematic liquid crystal (thickness 2.5 ⁇ m, refractive index 1.57).
  • Each of the first laminated film 23 and the second laminated film 32 has a six-layer structure, the high refractive index film is tantalum oxide (refractive index 2.14), and the low refractive index film is silicon oxide (refractive index 1.. 46).
  • Example 1 The liquid crystal panel 1 is manufactured based on the optimum film configuration (see Table 1, first laminated film, second laminated film) when the thickness of the first transparent electrode 24 is 145 nm. That is, on the quartz substrate as the first substrate body 21, a total of 6 layers of a tantalum oxide film as a high refractive index film and a silicon oxide film as a low refractive index film are alternately formed by the following method. A first laminated film is formed by laminating to a predetermined film thickness. Further, an ITO film is formed as the first transparent electrode 24 on the first laminated film 23 by a sputtering method, and a first alignment film 25 is formed to form the first substrate unit 2.
  • Table 1 first laminated film, second laminated film
  • a tantalum oxide film as a high-refractive index film and a silicon oxide film as a low-refractive index film are alternately arranged on a quartz substrate as the second substrate body 31 in a total of 6 layers,
  • a second laminated film 32 is formed by laminating to a predetermined film thickness.
  • an ITO film is formed as the second transparent electrode 33 on the second laminated film 32 by a sputtering method, and a second alignment film 34 is formed to form the second substrate unit 3.
  • liquid crystal is sealed between the first substrate unit 2 and the second substrate unit 3 to form the liquid crystal unit 4, and the liquid crystal panel 1 is manufactured.
  • the thickness of each part was the same as the above conditions.
  • a Ta target as a sputtering target is placed on the cathode in the vacuum chamber, and after the vacuum chamber is evacuated to 2.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa or less, oxygen gas 60 sccm and argon gas 140 sccm are introduced as sputtering gas. .
  • the pressure at this time is 3.0 ⁇ 10 ⁇ 1 Pa.
  • reactive sputtering is performed using a DC pulse power source, thereby forming a tantalum oxide film on a quartz substrate or an object on which a refractive index film is sequentially formed as an object to be processed installed in a vacuum chamber.
  • the film thickness of the tantalum oxide film is mainly adjusted by adjusting the sputtering time.
  • a Si target as a sputtering target is placed on the cathode in the vacuum chamber, and after the vacuum chamber is evacuated to 2.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa or less, argon gas 210 sccm and oxygen gas 190 sccm are introduced as sputtering gas. .
  • the pressure at this time is 3.4 ⁇ 10 ⁇ 1 Pa.
  • a silicon oxide film is formed on a quartz substrate as a processing target placed in a vacuum chamber, on which a refractive index film is sequentially formed. Note that the thickness of the silicon oxide film is mainly adjusted by adjusting the sputtering time.
  • Example 2 The liquid crystal panel 1 is produced based on the optimum film configuration (see Table 1, first laminated film, second laminated film) when the thickness of the first transparent electrode 24 is 100 nm.
  • the liquid crystal panel 1 is manufactured in the same manner as in Example 1 except that the film configuration is as described above.
  • Example 3 The liquid crystal panel 1 is produced based on the optimum film configuration (see Table 1, first laminated film, second laminated film) when the thickness of the first transparent electrode 24 is 20 nm.
  • the liquid crystal panel 1 is manufactured in the same manner as in Example 1 except that the film configuration is as described above.
  • the liquid crystal panel 1 is manufactured without providing the first laminated film 23 and the second laminated film 32. That is, the first transparent electrode 24 and the first alignment film 25 are directly laminated on the first substrate body 21 to form the first substrate unit 2, and the second transparent electrode is formed on the second substrate body 31. 33 and the second alignment film 34 are directly laminated to form the second substrate unit 3, and thereafter, the liquid crystal panel 1 is manufactured in the same manner as in Example 1.
  • the film thickness of the second transparent electrode 33 is 145 nm.
  • the liquid crystal panel 1 is manufactured by providing only the second laminated film 32 without providing the first laminated film 23. That is, the first transparent electrode 24 and the first alignment film 25 are directly stacked on the first substrate body 21 to form the first substrate unit 2, and the second stacked film 32 is formed on the second substrate body 31. Then, the second transparent electrode 33 and the second alignment film 34 are laminated to form the second substrate unit 3, and thereafter, the liquid crystal panel 1 is manufactured in the same manner as in Example 1.
  • the structure of the second laminated film 32 is that described in Example 1 of Japanese Patent No. 4499180.
  • the transmittance of the liquid crystal panel 1 of the example and the comparative example is evaluated.
  • the transmittance is evaluated using, for example, a Hitachi U4000 self-recording spectrophotometer. The results are shown in FIG.
  • permeability of a low wavelength range and a high wavelength range will be less than 87%, It turns out that the fluctuation
  • the liquid crystal panel 1 of Comparative Example 2 provided with only the second laminated film 32 is improved in overall transmittance as compared with the liquid crystal panel 1 of Comparative Example 1, but still has a low wavelength region and a high wavelength region. It can be seen that the transmittance is less than 87%, and the variation in transmittance between the medium wavelength region and other regions is large.
  • the transmission is 87% or more at each of the wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm. It can be seen that the rate can be obtained. In addition, it can be seen that in the liquid crystal panels 1 of Examples 1 to 3, the transmittance fluctuation value is 4% or less in the wavelength range of 400 to 750 nm.
  • the liquid crystal panel 1 of Example 1 (when the thickness of the first transparent electrode 24 is 145 nm), the liquid crystal panel 1 of Example 2 (when the thickness of the first transparent electrode 24 is 100 nm), Based on each film configuration of the liquid crystal panel 1 of Example 3 (when the thickness of the first transparent electrode 24 is 20 nm), the film thickness of each refractive index film of the first laminated film 23 and the second laminated film 32 The allowable range (minimum value, maximum value) was calculated.
  • the allowable range is expressed by the difference between the maximum value and the minimum value of the light transmittance in the wavelength range of 400 to 750 nm, and the light transmittance of wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm is 87% or more. A range in which the fluctuation value was 10% or less was determined. Further, the allowable range is the above when only the thickness of one refractive index film is changed from the basic configuration (basic thickness) and the thickness of all other refractive index films is set as the basic configuration (basic thickness). The range that satisfies the conditions was determined.
  • Table 2 shows the permissible range (minimum value, maximum value) of the film thickness of each refractive index film, the transmittance (450 nm, 550 nm, 650 nm) and the fluctuation value at the minimum and maximum values for the liquid crystal panel 1 of Example 1.
  • Tables 3 and 4 show the results of the liquid crystal panel 1 of Example 2 and the liquid crystal panel 1 of Example 3.
  • the thickness of the second refractive index film 322 of the second laminated film 32 (indicated as 2L in FIG. 5) is in the range of 1 to 1000 nm. The result when changed is shown.
  • the refractive index films having the same layer number regardless of the thickness of the first transparent electrode 24 have substantially similar optimum film thicknesses (basic film thicknesses).
  • the allowable range from the optimum film thickness is basically within a certain range for the refractive index films having the same layer number. I understand. Therefore, as the allowable range of each refractive index film irrespective of the thickness of the first transparent electrode 24, the minimum value and maximum value of each refractive index film shown in Tables 2 to 4 are adopted, and can do.
  • each refractive index film in the first laminated film 23 is 1 to 26 nm for the first refractive index film 231, 1 to 1000 nm for the second refractive index film 232, and the third refractive index film 233 for the third layer. 1 to 30 nm, the fourth refractive index film 234 is 1 to 1000 nm, the fifth refractive index film 235 is 2 to 41 nm, and the sixth refractive index film 236 is 1 to 95 nm.
  • the thickness of each refractive index film in the second laminated film 32 is 1 to 26 nm for the first refractive index film 321, 1 to 1000 nm for the second refractive index film 322, and the third refractive index film 323 for the third layer. 1 to 30 nm, the fourth refractive index film 324 is 1 to 1000 nm, the fifth refractive index film 325 is 2 to 41 nm, and the sixth refractive index film 326 is 6 to 95 nm.
  • each refractive index film in the first laminated film 23 is 2 to 15 nm for the first refractive index film 231, 60 to 75 nm for the second refractive index film 232, and the third refractive index film 233. 5 to 20 nm, the fourth refractive index film 234 is 55 to 70 nm, the fifth refractive index film 235 is 10 to 25 nm, and the sixth refractive index film 236 is 25 to 55 nm.
  • each refractive index film in the second laminated film 32 is 2 to 15 nm for the first refractive index film 321, 60 to 75 nm for the second refractive index film 322, and the third refractive index film 323 for the third layer. 5 to 20 nm, the fourth refractive index film 324 is 60 to 70 nm, the fifth refractive index film 325 is 10 to 25 nm, and the sixth refractive index film 326 is 25 to 55 nm.
  • Refractive index film 323... 3rd refractive index film, 324... 4th refractive index film, 325... 5th refractive index film, 326... 6th refractive index film), 33.
  • the transparent electrode of the second alignment film 34 ... the entire description, claims, drawings and abstract of Japanese Patent Application No. 2010-269502 filed on Dec. 2, 2010 Reference is hereby made to the disclosure of the specification of the present invention.

Abstract

　Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色の波長の光の透過率に優れ、その変動が抑制されると共に、生産性に優れる液晶プロジェクタ用液晶パネルを提供する。　液晶プロジェクタ用液晶パネルは、第１の積層膜を有する第１の基板部と、該第１の基板部に対向して配置され、第２の積層膜を有する第２の基板部と、第１の基板部と第２の基板部との間に配置される液晶部とを有する。第１の積層膜、第２の積層膜は、いずれも高屈折率膜と低屈折率膜とが交互に６層積層され、各屈折率膜の膜厚は、液晶プロジェクタ用液晶パネルの波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの光の透過率が８７％以上となるように所定の膜厚とされている。

Description

液晶プロジェクタ用液晶パネル、および液晶プロジェクタ
　本発明は、液晶プロジェクタ用液晶パネル、および液晶プロジェクタに関する。
　従来、画像情報をスクリーン等の被投影物に投影するために液晶プロジェクタが用いられている。液晶プロジェクタは空間変調素子としての液晶パネルを有し、この液晶パネルに光源からの光を照射して変調し、投影レンズによって外部の被投影物に投影している。
　液晶パネルは、例えば薄膜トランジスタ基板に対向して微小間隔をおいて対向基板が配置され、これらの間に液晶部が配置されたものである。薄膜トランジスタ基板には、各画素部に電圧の印加により液晶を配向させる表示電極が形成され、対向基板には全面に共通電極が形成されている。対向基板は、例えばガラス基板等の基板本体上にいわゆるブラックマトリクスと呼ばれる遮光性部材が形成され、さらに遮光性部材を覆うようにして略全面に共通電極としてＩＴＯ(Indium Tin Oxide)膜が形成されている（例えば、特許文献１参照）。
　このような液晶パネルについては、液晶プロジェクタの明るさを向上させて性能に優れたものとするとともに、消費電力を低減して環境に配慮したものとするために、透過率の向上が求められている。また、特定波長の光の透過率に優れるだけでは液晶プロジェクタとしての使用に適さないことから、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色の波長の光の透過率に優れることが求められる。さらに、各色の波長の光の透過率に優れるとしても、これらの透過率に大きな差がある場合には液晶プロジェクタとしての使用に適さないことから、透過率の変動も少ないことが求められる。また、量産性の観点から、製造工程の増加が少ないことも求められる。
　このような課題を解決するものとして、例えば液晶パネルの対向基板に積層膜を設けることが知られている。積層膜は、対向基板の基板本体側から高屈折率膜と低屈折率膜とが交互に６層積層されたものであり、各屈折率膜の膜厚が所定の膜厚とされている（例えば、特許文献２参照）。
日本特開平８－３３８９９１号公報 日本特許第４４９９１８０号公報
　しかしながら、液晶プロジェクタについては、さらに明るさを向上させて性能に優れたものとするとともに、消費電力を低減して環境に配慮したものとすることが求められている。上記したように、対向基板については、所定の積層膜を設けることにより透過率等が向上することが知られているが、液晶パネルとしたときの透過率等については必ずしも明らかになっておらず、また積層膜を対向基板側だけでなく、薄膜トランジスタ基板側にも設けた場合の効果や、そのときの屈折率膜の層数や膜厚の影響等についても明らかになっていない。
　本発明は、上記した課題を解決するためになされたものであって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率に優れ、その変動が抑制されるとともに、生産性も良好な液晶プロジェクタ用液晶パネルを提供することを目的としている。また、本発明は、このような液晶プロジェクタ用液晶パネルを用いた高い性能を有する液晶プロジェクタを提供することを目的としている。
　本発明の液晶プロジェクタ用液晶パネルは、第１の基板部と、この第１の基板部に対向して配置される第２の基板部と、これら第１の基板部と第２の基板部との間に配置される液晶部とを有し、波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および６５０ｎｍの光の透過率が８７％以上であることを特徴とする。
　第１の基板部は、第１の基板本体の各画素部の少なくとも表示部となる部分に、第１の積層膜、第１の透明電極、および第１の配向膜が順に積層されている。第２の基板部は、第２の基板本体上に、第２の積層膜、第２の透明電極、および第２の配向膜が順に積層されている。
　第１の積層膜は、屈折率が１．９～２．５の高屈折率膜と屈折率が１．２～１．５の低屈折率膜とが第１の基板本体側から交互に計６層積層されてなり、かつ各屈折率膜の膜厚は１層目が１～２６ｎｍ、２層目が１～１０００ｎｍ、３層目が１～３０ｎｍ、４層目が１～１０００ｎｍ、５層目が２～４１ｎｍ、６層目が１～９５ｎｍである。なお、この６層目は６～９５ｎｍが好ましい。
　第２の積層膜は、屈折率が１．９～２．５の高屈折率膜と屈折率が１．２～１．５の低屈折率膜とが第２の基板本体側から交互に計６層積層されてなり、かつ各屈折率膜の膜厚は１層目が１～２６ｎｍ、２層目が１～１０００ｎｍ、３層目が１～３０ｎｍ、４層目が１～１０００ｎｍ、５層目が２～４１ｎｍ、６層目が６～９５ｎｍである。
　本発明の液晶プロジェクタは、被投影物に投影するための画像情報を形成する液晶パネルを有するものであり、この液晶パネルが上記した本発明の液晶プロジェクタ用液晶パネルであることを特徴とする。
　本発明の液晶プロジェクタ用液晶パネルによれば、対向する１対の基板部の双方に所定の積層膜を設けることで、良好な生産性を維持しつつ、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率を向上させ、その変動も抑制することができる。これにより、液晶プロジェクタに好適なものとすることができる。
　本発明の液晶プロジェクタによれば、上記した本発明の液晶プロジェクタ用液晶パネルを用いることで、明るさを向上させて性能を向上させるとともに、消費電力を低減して環境に配慮したものとすることができる。
本発明の液晶パネルの一例を示す一部拡大断面図。 図１に示す液晶パネルの第１の基板部を示す断面図。 図１に示す液晶パネルの第２の基板部を示す断面図。 実施例１～３および比較例１、２の液晶パネルの透過率を示すグラフ。 屈折率膜（実施例３、第２の積層膜の２層目）の膜厚と透過率との関係を示すグラフ。
　以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
　図１は、実施形態の液晶プロジェクタ用液晶パネル（以下、単に液晶パネルという）の一例を示す断面図である。なお、図１には、略１画素部分を拡大して示している。液晶パネル１は、第１の基板部２と、この第１の基板部２に対向して配置される第２の基板部３と、これら第１の基板部２と第２の基板部３との間に配置される液晶部４とを有している。
　第１の基板部２は、第１の基板本体２１を有し、その内側、すなわち第２の基板部３に対向する主面側に画素部を有している。各画素部には、薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor：TFT)素子等の駆動素子２２が設けられるとともに、少なくとも表示部となる部分に、第１の積層膜２３、表示電極となる第１の透明電極２４、および第１の配向膜２５が順に積層されている。通常、第１の基板部２としては、薄膜トランジスタ基板が好適に用いられる。
　なお、図示しないが、十分な透過率が得られる場合には、第１の基板本体２１と第１の積層膜２３との間に下地膜等を設けたり、第１の積層膜２３上に保護膜等を設けたりすることができる。また、図示しないが、十分な透過率が得られる場合には、第１の基板本体２１の外側に液晶パネル１を空気中の粉塵等から保護するための防塵ガラスを設けることもできる。
　第２の基板部３は、第２の基板本体３１を有し、その内側、すなわち第１の基板部２に対向する主面側に、第２の積層膜３２、共通電極となる第２の透明電極３３、および第２の配向膜３４が順に積層されている。なお、図示しないが、十分な透過率が得られる場合には、第２の基板本体３１と第２の積層膜３２との間に下地膜等を設けたり、第２の積層膜３２上に保護膜等を設けたりすることができる。また、図示しないが、十分な透過率が得られる場合には、第２の基板本体３１の外側に液晶パネル１を空気中の粉塵等から保護するための防塵ガラスを設けることもできる。
　第２の基板本体３１の内側には、例えばブラックマトリクスと呼ばれる遮光性部材３５が設けられていてもよい。遮光性部材３５は、例えば図１に示されるように、第２の積層膜３２を一様な平面状とし、この第２の積層膜３２上に積層することができる。また、図示しないが、例えば第２の基板本体３１上に遮光性部材３５を直接積層し、この周囲を囲むように第２の積層膜３２を設けることもできる。
　第１の積層膜２３は、図２に示すように、屈折率が１．９～２．５（波長５８９ｎｍでの屈折率、以下同様）の高屈折率膜（屈折率膜２３１、２３３、２３５）と屈折率が１．２～１．５の低屈折率膜（屈折率膜２３２、２３４、２３６）とが第１の基板本体２１側から交互に計６層積層されている。各屈折率膜の膜厚は、１層目の屈折率膜２３１が１～２６ｎｍ、より好ましくは２～１５ｎｍ、２層目の屈折率膜２３２が１～１０００ｎｍ、より好ましくは６０～７５ｎｍ、３層目の屈折率膜２３３が１～３０ｎｍ、より好ましくは５～２０ｎｍ、４層目の屈折率膜２３４が１～１０００ｎｍ、より好ましくは５５～７０ｎｍ５層目の屈折率膜２３５が２～４１ｎｍ、より好ましくは１０～２５ｎｍ、６層目の屈折率膜２３６が１～９５ｎｍ、より好ましくは６～９５ｎｍ、特に好ましくは２５～５５ｎｍである。また、通常、生産性等の観点から、第１の積層膜２３における２層目の屈折率膜２３２および４層目の屈折率膜２３４の膜厚は、それぞれ２００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましい。
　第２の積層膜３２も、図３に示すように、屈折率が１．９～２．５の高屈折率膜（屈折率膜３２１、３２３、３２５）と屈折率が１．２～１．５の低屈折率膜（屈折率膜３２２、３２４、３２６）とが第２の基板本体３１側から交互に計６層積層されている。各屈折率膜の膜厚は、１層目の屈折率膜３２１が１～２６ｎｍ、より好ましくは２～１５ｎｍ、２層目の屈折率膜３２２が１～１０００ｎｍ、より好ましくは６０～７５ｎｍ、３層目の屈折率膜３２３が１～３０ｎｍ、より好ましくは５～２０ｎｍ、４層目の屈折率膜３２４が１～１０００ｎｍ、より好ましくは６０～７０ｎｍ、５層目の屈折率膜３２５が２～４１ｎｍ、より好ましくは１０～２５ｎｍ、６層目の屈折率膜３２６が６～９５ｎｍ、より好ましくは２５～５５ｎｍである。
　なお、上記構成の中でも、第１の透明電極２４の膜厚が１２０～１６５ｎｍの場合、特に１３５～１５５ｎｍの場合は、以下の厚みの構成が好ましい。第１の積層膜２３は、１層目の屈折率膜２３１が３～１５ｎｍ、２層目の屈折率膜２３２が４５～９０ｎｍ、より好ましくは６０～７５ｎｍ、３層目の屈折率膜２３３が２～１６ｎｍ、より好ましくは５～１６ｎｍ、４層目の屈折率膜２３４が１～１１０ｎｍ、より好ましくは５５～７０ｎｍ、５層目の屈折率膜２３５が１２～２８ｎｍ、より好ましくは１２～２５ｎｍ、６層目の屈折率膜２３６が１９～５２ｎｍ、より好ましくは２５～３５ｎｍである。第２の積層膜３２は、１層目の屈折率膜３２１が１～１８ｎｍ、より好ましくは２～１５ｎｍ、２層目の屈折率膜３２２が２６～１００ｎｍ、より好ましくは６０～７５ｎｍ、３層目の屈折率膜３２３が１～２１ｎｍ、より好ましくは５～２０ｎｍ、４層目の屈折率膜３２４が２０～１０５ｎｍ、より好ましくは６０～７０ｎｍ、５層目の屈折率膜３２５が１１～３２ｎｍ、より好ましくは１１～２５ｎｍ、６層目の屈折率膜３２６が２５～７０ｎｍ、より好ましくは２５～５５ｎｍである。
　第１の透明電極２４の膜厚が６０～１２０ｎｍ（但し１２０ｎｍを除く）の場合、特に９０～１１０ｎｍの場合は、以下の厚みの構成が好ましい。第１の積層膜２３は、１層目の屈折率膜２３１が１～１２ｎｍ、より好ましくは２～１２ｎｍ、２層目の屈折率膜２３２が２３～１１０ｎｍ、より好ましくは６０～７０ｎｍ、３層目の屈折率膜２３３が７～２４ｎｍ、より好ましくは７～２０ｎｍ、４層目の屈折率膜２３４が３５～１０３ｎｍ、より好ましくは５５～７０ｎｍ、５層目の屈折率膜２３５が８～２３ｎｍ、より好ましくは１０～２３ｎｍ、６層目の屈折率膜２３６が１～５５ｎｍ、より好ましくは２５～４０ｎｍである。第２の積層膜３２は、１層目の屈折率膜３２１が１～２０ｎｍ、より好ましくは２～１５ｎｍ、２層目の屈折率膜３２２が２０～１０６ｎｍ、より好ましくは６０～７５ｎｍ、３層目の屈折率膜３２３が１～２４ｎｍ、より好ましくは１０～２０ｎｍ、４層目の屈折率膜３２４が１～１２０ｎｍ、より好ましくは６０～７０ｎｍ、５層目の屈折率膜３２５が８～３３ｎｍ、より好ましくは１０～２５ｎｍ、６層目の屈折率膜３２６が２０～７４ｎｍ、より好ましくは３０～５５ｎｍである。
　第１の透明電極２４の膜厚が１０～６０ｎｍ（但し６０ｎｍを除く）の場合、特に１０～３０ｎｍの場合は、以下の厚みの構成が好ましい。第１の積層膜２３は、１層目の屈折率膜２３１が１～２６ｎｍ、より好ましくは２～１５ｎｍ、２層目の屈折率膜２３２が１～１０００ｎｍ、より好ましくは６０～７５ｎｍ、３層目の屈折率膜２３３が１～３０ｎｍ、より好ましくは５～２０ｎｍ、４層目の屈折率膜２３４が１～１０００ｎｍ、より好ましくは６０～７０ｎｍ、５層目の屈折率膜２３５が２～４１ｎｍ、より好ましくは１０～２５ｎｍ、６層目の屈折率膜２３６が６～９５ｎｍ、より好ましくは４０～５５ｎｍである。第２の積層膜３２は、１層目の屈折率膜３２１が１～２６ｎｍ、より好ましくは２～１５ｎｍ、２層目の屈折率膜３２２が１～１０００ｎｍ、より好ましくは６０～７５ｎｍ、３層目の屈折率膜３２３が１～３０ｎｍ、より好ましくは５～２０ｎｍ、４層目の屈折率膜３２４が１～１０００ｎｍ、より好ましくは６０～７０ｎｍ、５層目の屈折率膜３２５が２～４１ｎｍ、より好ましくは１０～２５ｎｍ、６層目の屈折率膜３２６が６～９５ｎｍ、より好ましくは４０～５５ｎｍである。通常、生産性等の観点から、第１の積層膜２３における２層目の屈折率膜２３２および４層目の屈折率膜２３４、第２の積層膜３２における２層目の屈折率膜３２２および４層目の屈折率膜３２４の膜厚は、それぞれ２００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましい。
　第２の透明電極３３の膜厚は、１０～３０ｎｍが好ましく、１５～２５ｎｍであるとさらに好ましく、１８～２２ｎｍであると特に好ましい。　
　このような液晶パネル１によれば、第１の基板部２に所定の構成の第１の積層膜２３を有するとともに、第２の基板部３に所定の構成の第２の積層膜３２を有することから、従来の一方の基板部のみに積層膜を有するものに比べて、各色の光の透過率を向上させることができ、また各色の透過率の変動も抑制することができる。
　具体的には、波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および６５０ｎｍの光の透過率を８７％以上にすることができる。また、波長が４００～７００ｎｍの範囲における光の透過率の最大値と最小値との差で表される変動値を１０％以下、好ましくは５％以下とすることができる。なお、変動値は、例えば波長が４００～７００ｎｍの範囲における光の透過率の最大値が９０％、最小値が８６％の場合、９０％－８６％＝４％として求めることができる。
　例えば、従来のように基板本体としての石英基板に透明電極としてのＩＴＯ(Indium Tin Oxide)膜を直接積層した場合、石英基板の屈折率が約１．４６であり、またＩＴＯ膜の屈折率が２程度であることから、これらの屈折率の違いにより必ずしも十分な透過率が得られない。また、液晶パネルを構成する一対の石英基板の一方のみに透過率を向上させるための積層膜を設けることが知られているが、一対の石英基板の双方に積層膜を設ける場合の効果や、各積層膜における個々の屈折率膜の最適な膜厚等については必ずしも明確となっていない。
　上記した液晶パネル１によれば、第１の基板部２に第１の積層膜２３を設け、第２の基板部３に第２の積層膜３２を設けるとともに、第１の積層膜２３、第２の積層膜３２のそれぞれの層数および各屈折率膜の膜厚を所定のものとすることで、第１の基板本体２１と第１の透明電極２４との屈折率の違い、および第２の基板本体３１と第２の透明電極３３との屈折率の違いを有効に緩和して、液晶パネル１全体としての透過率を向上させるとともに、透過率の変動も抑制することができる。また、従来の液晶パネルに比較して必ずしも大きな製造工程の追加はないことから、生産性についても十分とすることができる。
　第１の積層膜２３または第２の積層膜３２における屈折率膜の層数が６層未満の場合、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率が十分に高くならず、その変動も十分に抑制できないおそれがある。第１の積層膜２３、第２の積層膜３２における屈折率膜の層数は６層あればＲ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率を十分に高くでき、その変動も十分に抑制できる。本発明では、上記の層数を満たしていればそれ以上の層数を有していてもよい、しかし、層数が過度に多い場合には、製造工程が増加し、生産性が低下するおそれがある。
　また、第１の積層膜２３または第２の積層膜３２における１～６層目のいずれかの屈折率膜の膜厚が上記範囲外の場合、屈折率膜の層数が６層であっても必ずしもＲ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率を十分に高くすることができず、その変動も十分に抑制することができない。また、屈折率膜の膜厚が上記範囲を超える場合、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率を十分に高くすることができず、その変動も十分に抑制することができないおそれがあり、また成膜時間の増加に伴って生産性が低下するおそれがある。
　第１の基板本体２１、第２の基板本体３１は、透光性材料からなるものであれば必ずしも限定されるものではなく、例えば結晶化ガラスを用いることもできるが、高透過率であること、また低熱膨張であるという理由から石英基板が好適に用いられる。また、これらの厚さについても、必ずしも限定されるものではないが、一般に０．５～２．５ｍｍが好ましい。なお、第１の基板本体２１と第２の基板本体３１とは、互いに異なる材料、厚さとすることができる。
　第１の積層膜２３の高屈折率膜（屈折率膜２３１、２３３、２３５）、第２の積層膜３２の高屈折率膜（屈折率膜３２１、３２３、３２５）は、屈折率が１．９～２．５のものである。このようなものとしては、例えば酸化タンタル（屈折率：２．０～２．２）、酸化チタン（屈折率：２．２～２．５）、酸化ジルコニウム（屈折率：１．９～２．０）、および酸化ハフニウム（屈折率：１．９５～２．１５）等の高屈折率材料の中から選ばれる少なくとも１種からなるものが挙げられる。これらの中でも、第１の透明電極２４、第２の透明電極３３、特にＩＴＯ膜を形成する際の熱処理による劣化を抑制する観点から、耐熱性に優れる酸化タンタルが好ましい。
　なお、計６層の高屈折率膜は、互いに同一の高屈折率材料からなるものであってもよいし、異なる高屈折率材料からなるものであってもよい。また、計６層の高屈折率膜の各層は、それぞれ単層膜であってもよいし、多層膜であってもよい。多層膜の場合、この多層膜を構成する各層は上記した高屈折率材料からなるものとすることができる。
　第１の積層膜２３の低屈折率膜（屈折率膜２３２、２３４、２３６）、第２の積層膜３２の低屈折率膜（屈折率膜３２２、３２４、３２６）は、屈折率が１．２～１．５のものである。このようなものとしては、酸化シリコン（屈折率：１．４４～１．４８）、およびフッ化マグネシウム（屈折率：１．３５～１．４１）等の低屈折率材料の中から選ばれる少なくとも１種からなるものが挙げられる。
　なお、計６層の低屈折率膜についても、高屈折率膜と同様、互いに同一の低屈折率材料からなるものであってもよいし、異なる低屈折率材料からなるものであってもよい。また、計６層ある低屈折率膜は、それぞれ単層膜であってもよいし、多層膜であってもよい。多層膜の場合、この多層膜を構成する各層は上記した低屈折率材料からなるものとすることができる。
　第１の積層膜２３の合計膜厚、すなわち１層目の屈折率膜２３１から６層目の屈折率膜２３６までの合計膜厚は１５０～２５０ｎｍが好ましい。また、第２の積層膜３２の合計膜厚、すなわち１層目の屈折率膜３２１から６層目の屈折率膜３２６までの合計膜厚は１５０～２５０ｎｍが好ましい。それぞれの合計膜厚が１５０ｎｍ以上であれば、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率を効果的に向上させることができ、その変動も効果的に抑制することができる。また、それぞれの合計膜厚が２５０ｎｍもあれば十分に透過率等を向上させることができ、これを超えるとかえって成膜時間が増加し、生産性が低下するおそれがある。第１の積層膜２３の合計膜厚は、より好ましくは１８０～２３０ｎｍであり、さらに好ましくは１９０～２２０ｎｍである。第２の積層膜３２の合計膜厚は、より好ましくは２００～２３０ｎｍであり、さらに好ましくは２１０～２２０ｎｍである。
　第１の積層膜２３における２層目の屈折率膜２３２と５層目の屈折率膜２３５との合計膜厚は５５～１１０ｎｍが好ましい。また、第２の積層膜３２における２層目の屈折率膜３２２と５層目の屈折率膜３２５との合計膜厚は６０～１１０ｎｍが好ましい。高屈折率膜と低屈折率膜とが交互に３層ずつ計６層積層される場合、１～３層目の屈折率膜群と、４～６層目の屈折率膜群とに大きく分けられる。１～３層目の屈折率膜群における中間層である２層目の屈折率膜と、４～６層目の屈折率膜群における中間層である５層目の屈折率膜との合計膜厚を上記範囲内とすることで、成膜時間の増加による生産性の低下を抑制しつつ、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率を効果的に向上させ、その変動も効果的に抑制することができる。第１の積層膜２３における２層目の屈折率膜２３２と５層目の屈折率膜２３５との合計膜厚は、６５～１００ｎｍがより好ましく、７５～９０ｎｍがさらに好ましい。また、第２の積層膜３２における２層目の屈折率膜３２２と５層目の屈折率膜３２５との合計膜厚は、７０～１００ｎｍがより好ましく、８０～９０ｎｍがさらに好ましい。
　第１の積層膜２３の奇数層目となる高屈折率膜の合計膜厚、すなわち１層目の屈折率膜２３１、３層目の屈折率膜２３３、および５層目の屈折率膜２３５の合計膜厚は、１０～６５ｎｍが好ましい。また、第２の積層膜３２の奇数層目となる高屈折率膜の合計膜厚、すなわち１層目の屈折率膜３２１、３層目の屈折率膜３２３、および５層目の屈折率膜３２５の合計膜厚は、１０～６５ｎｍが好ましい。このようなものとすることで、成膜時間の増加による生産性の低下を抑制しつつ、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率を効果的に向上させ、その変動も効果的に抑制することができる。第１の積層膜２３、第２の積層膜３２における高屈折率膜の合計膜厚は、それぞれ２０～５５ｎｍがより好ましく、３０～４５ｎｍがさらに好ましい。
　一方、第１の積層膜２３の偶数層目となる低屈折率膜の合計膜厚、すなわち２層目の屈折率膜２３２、４層目の屈折率膜２３４、および６層目の屈折率膜２３６の合計膜厚は、１３０～２０５ｎｍが好ましい。また、第２の積層膜３２の偶数層目となる低屈折率膜の合計膜厚、すなわち２層目の屈折率膜３２２、４層目の屈折率膜３２４、および６層目の屈折率膜３２６の合計膜厚は、１５０～２０５ｎｍが好ましい。このようなものとすることで、成膜時間の増加による生産性の低下を抑制しつつ、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率を効果的に向上させ、その変動も効果的に抑制することができる。第１の積層膜２３の低屈折率膜の合計膜厚は、１４０～１９５ｎｍがより好ましく、１５０～１８５ｎｍがさらに好ましい。また、第２の積層膜３２の低屈折率膜の合計膜厚は、１６０～１９５ｎｍがより好ましく、１７０～１８５ｎｍがさらに好ましい。
　第１の積層膜２３の６層目となる屈折率膜２３６は、第２の基板部３側となる表面の表面粗さが０．５ｎｍ以下であることが好ましい。同様に、第２の積層膜３２の６層目となる屈折率膜３２６は、第１の基板部２側となる表面の表面粗さが０．５ｎｍ以下であることが好ましい。上記表面の表面粗さを０．５ｎｍ以下とすることで、ＩＴＯ膜を積層した場合のこれらの界面における透過率の低下を効果的に抑制することができる。なお、表面粗さは、ＪＩＳ　Ｂ０６０１に準拠して測定されるものである。
　第１の透明電極２４、第２の透明電極３３は、それぞれＩＴＯ膜が好ましい。第１の透明電極２４、第２の透明電極３３の膜厚は必ずしも限定されるものではないが、第１の透明電極２４の膜厚は１０～１６５ｎｍが好ましく、第２の透明電極３３の膜厚は１０～３０ｎｍが好ましい。第１の透明電極２４、第２の透明電極３３の膜厚がこのような範囲内の場合、第１の積層膜２３、第２の積層膜３２を設けることにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率を効果的に向上させ、その変動も効果的に抑制することができる。
　第１の配向膜２５、第２の配向膜３４は、例えばポリイミド系の有機化合物をラビング（配向）処理した膜や、酸化シリコン等の無機材料を斜方蒸着した蒸着膜等とすることができる。第１の配向膜２５、第２の配向膜３４の膜厚は必ずしも限定されるものではないが、第１の配向膜２５の膜厚は、４０～８０ｎｍが好ましく、５０～７０ｎｍがより好ましく、第２の配向膜３４の膜厚は、１５～５５ｎｍが好ましく、２５～４５ｎｍがより好ましい。第１の配向膜２５、第２の配向膜３４の膜厚がこのような範囲内にある場合、第１の積層膜２３、第２の積層膜３２を設けることにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率を効果的に向上させ、その変動も効果的に抑制することができる。
　液晶部４は、一種または数種のネマティック液晶を混合した液晶分子からなるものとすることができ、第１の基板部２と第２の基板部３との間に封入され、第１の配向膜２５、第２の配向膜３４によって配向されている。
　このような液晶パネル１は、第１の基板部２に第１の積層膜２３を設けるとともに、第２の基板部３に第２の積層膜３２を設けることを除き、従来の液晶パネルと同様にして製造することができる。第１の積層膜２３は、第１の基板本体２１上に公知のスパッタリング法により高屈折率膜（屈折率膜２３１、２３３、２３５）と低屈折率膜（屈折率膜２３２、２３４、２３６）とを交互に３層ずつ計６層積層することにより製造することができる。同様に、第２の積層膜３２は、第２の基板本体３１上に公知のスパッタリング法により高屈折率膜（屈折率膜３２１、３２３、３２５）と低屈折率膜（屈折率膜３２２、３２４、３２６）とを交互に３層ずつ計６層積層することにより製造することができる。
　スパッタリング法としては、例えば、ＤＣ（直流）スパッタリング方式、ＡＣ（交流）スパッタリング方式、高周波スパッタリング方式、マグネトロンスパッタリング方式が挙げられる。また、スパッタリング法以外に真空蒸着法も使用でき、真空蒸着法としては、イオンプレーティング法、イオンアシスト法などがある。一般的にプロセスが安定し、大面積への成膜が容易であること、および膜厚制御精度の安定性から、ＤＣマグネトロンスパッタリング法、ＡＣマグネトロンスパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト法が好ましい。
　高屈折率膜としての酸化タンタル、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウムについては、例えばターゲットとしてこれらの金属酸化物を構成する金属元素からなるものを用い、スパッタガスとして酸素を含有するガスを用い、反応性スパッタリング法により容易に形成することができる。また、低屈折率膜としての酸化シリコン層については、例えばターゲットとして炭化ケイ素を用い、スパッタガスとして酸素を含有するガスを用い、反応性スパッタリング法により容易に形成することができる。なお、ターゲットには、Ａｌ、Ｓｉ、Ｚｎ等公知のドーパントが本発明の趣旨に反しない限度においてドープされていてもよい。
　第１の基板本体２１上に第１の積層膜２３が形成されたものについては、さらに第１の積層膜２３上に公知の方法により第１の透明電極２４、第１の配向膜２５を順に積層して、第１の基板部２とすることができる。一方、第２の基板本体３１上に第２の積層膜３２が形成されたものについては、さらに第２の積層膜３２上に公知の方法により第２の透明電極３３、第２の配向膜３４を順に積層して、第２の基板部３とすることができる。その後、例えば第１の基板部２と第２の基板部３とを対向して配置した後、これらの間に液晶を封入して液晶部４を形成することにより、液晶パネル１とすることができる。
　このような液晶パネル１は、液晶プロジェクタの内部に配置されて使用される。液晶パネル１には、図１に示されるように第１の基板部２側に光源からの光が入射され、この入射した光が液晶パネル１によって変調されて第２の基板部３側から出射され、最終的に投影レンズによって外部に配置された被投影物に投影される。このような液晶パネル１を有する液晶プロジェクタについては、液晶パネル１がＲ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率に優れ、その変動も抑制されているために、明るさが向上してプロジェクタとしての性能に優れると共に、消費電力も低減でき環境に配慮したものとなる。
　以下、本発明について実施例を参照して具体的に説明する。
　計算により求められた第１の積層膜２３および第２の積層膜３２の最適な膜構成に基づいて、以下に示すように実施例１～３の液晶パネル１を作製する。また、比較のために第１の積層膜２３および第２の積層膜３２を有しない液晶パネル１（比較例１）、第２の積層膜３２のみを有する液晶パネル１（比較例２）を作製する。
　ここで、実施例１～３の液晶パネル１は、それぞれ第１の透明電極２４の厚さが１４５ｎｍ、１００ｎｍ、２０ｎｍの場合の最適な膜構成を有するものである。最適な膜構成とは、液晶パネル１における波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および６５０ｎｍの光の透過率が８７％以上となるものである。なお、最適な膜構成は以下の条件により求めた。
　第１の基板本体２１は石英基板（厚さ１．２ｍｍ、屈折率１．４７）、第１の透明電極２４はＩＴＯ膜（屈折率１．８８）、第１の配向膜２５はポリイミド膜（厚さ６０ｎｍ、屈折率１．５６）、第２の基板本体３１は石英基板（厚さ１．２ｍｍ、屈折率１．４７）、第２の透明電極３３はＩＴＯ膜（厚さ２０ｎｍ、屈折率１．８８）、第２の配向膜３４はポリイミド膜（厚さ３６ｎｍ、屈折率１．５６）、液晶部４はネマティック液晶（厚さ２．５μｍ、屈折率１．５７）とした。また、第１の積層膜２３、第２の積層膜３２はいずれも６層構造とし、高屈折率膜は酸化タンタル（屈折率２．１４）、低屈折率膜は酸化シリコン（屈折率１．４６）とした。
（実施例１）
　第１の透明電極２４の厚さが１４５ｎｍのときの最適な膜構成（表１参照、第１の積層膜、第２の積層膜）に基づいて、液晶パネル１を作製する。すなわち、第１の基板本体２１としての石英基板上に、以下の方法により高屈折率膜としての酸化タンタル膜と、低屈折率膜としての酸化シリコン膜とを交互に３層ずつ計６層、所定の膜厚に積層して第１の積層膜を形成する。さらに、第１の積層膜２３上にスパッタリング法により第１の透明電極２４としてＩＴＯ膜を形成するとともに、第１の配向膜２５を形成して第１の基板部２とする。
　また、第２の基板本体３１としての石英基板上に、以下の方法により高屈折率膜としての酸化タンタル膜と、低屈折率膜としての酸化シリコン膜とを交互に３層ずつ計６層、所定の膜厚に積層して第２の積層膜３２を形成する。さらに、第２の積層膜３２上にスパッタリング法により第２の透明電極３３としてＩＴＯ膜を形成するとともに、第２の配向膜３４を形成して第２の基板部３とする。
　その後、第１の基板部２と第２の基板部３との間に液晶を封入して液晶部４を形成し、液晶パネル１を作製する。なお、各部の厚さは、上記条件と同様とした。
［酸化タンタル膜の形成］
　真空槽内にスパッタターゲットとしてのＴａターゲットをカソード上に設置し、真空槽を２．０×１０－３Ｐａ以下となるまで排気した後、スパッタガスとして酸素ガス６０ｓｃｃｍとアルゴンガス１４０ｓｃｃｍとを導入する。このときの圧力は３．０×１０－１Ｐａである。この状態で、ＤＣパルス電源を用いて反応性スパッタを行うことにより、真空槽内に設置した被処理体としての石英基板あるいは順次屈折率膜が形成されたものに酸化タンタル膜を形成する。なお、酸化タンタル膜の膜厚は、主としてスパッタ時間の調整により行う。
［酸化シリコン膜の形成］
　真空槽内にスパッタターゲットとしてのＳｉターゲットをカソード上に設置し、真空槽を２．０×１０－３Ｐａ以下となるまで排気した後、スパッタガスとしてアルゴンガス２１０ｓｃｃｍと酸素ガス１９０ｓｃｃｍとを導入する。このときの圧力は３．４×１０－１Ｐａとなる。この状態で、ＡＣ電源を用いて反応性スパッタを行うことにより、真空槽内に設置した被処理体としての石英基板に順次屈折率膜が形成されたものに酸化シリコン膜を形成する。なお、酸化シリコン膜の膜厚は、主としてスパッタ時間の調整により行う。
（実施例２）
　第１の透明電極２４の厚さが１００ｎｍのときの最適な膜構成（表１参照、第１の積層膜、第２の積層膜）に基づいて液晶パネル１を作製する。なお、上記膜構成とする以外は実施例１と同様にして液晶パネル１を作製する。
（実施例３）
　第１の透明電極２４の厚さが２０ｎｍのときの最適な膜構成（表１参照、第１の積層膜、第２の積層膜）に基づいて液晶パネル１を作製する。なお、上記膜構成とする以外は実施例１と同様にして液晶パネル１を作製する。
（比較例１）
　第１の積層膜２３および第２の積層膜３２を設けずに液晶パネル１を作製する。すなわち、第１の基板本体２１上に第１の透明電極２４および第１の配向膜２５を直接積層して第１の基板部２とし、また第２の基板本体３１上に第２の透明電極３３および第２の配向膜３４を直接積層して第２の基板部３とし、その後は実施例１と同様にして液晶パネル１を作製する。なお、第２の透明電極３３の膜厚は１４５ｎｍとする。
（比較例２）
　第１の積層膜２３を設けず、第２の積層膜３２のみを設けて液晶パネル１を作製する。すなわち、第１の基板本体２１上に第１の透明電極２４および第１の配向膜２５を直接積層して第１の基板部２とし、第２の基板本体３１上に第２の積層膜３２を介して第２の透明電極３３および第２の配向膜３４を積層して第２の基板部３とし、その後は実施例１と同様にして液晶パネル１を作製する。なお、第２の積層膜３２の構成は、日本特許第４４９９１８０号公報の実施例１に記載されたものである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　次に、実施例および比較例の液晶パネル１について透過率の評価を行う。なお、透過率の評価は、例えば日立Ｕ４０００形自記分光光度計にて行う。結果を図４に示す。
　第１の積層膜２３および第２の積層膜３２の双方を設けなかった比較例１の液晶パネル１については、低波長域および高波長域の透過率が８７％未満となり、また中波長域とその他の領域との透過率の変動も大きくなることがわかる。また、第２の積層膜３２のみを設けた比較例２の液晶パネル１については、比較例１の液晶パネル１に比べて全体的に透過率が向上するものの、依然として低波長域および高波長域の透過率が８７％未満となり、また中波長域とその他の領域との透過率の変動も大きいことがわかる。
　これに対し第１の積層膜２３および第２の積層膜３２の双方を設けた実施例１～３の液晶パネル１については、波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および６５０ｎｍの各点において８７％以上の透過率を得られることがわかる。また、実施例１～３の液晶パネル１については、いずれも波長が４００～７５０ｎｍの範囲において透過率の変動値が４％以下となることがわかる。
　次に、実施例１の液晶パネル１（第１の透明電極２４の厚さが１４５ｎｍの場合）、実施例２の液晶パネル１（第１の透明電極２４の厚さが１００ｎｍの場合）、実施例３の液晶パネル１（第１の透明電極２４の厚さが２０ｎｍの場合）の各膜構成を基本とし、第１の積層膜２３および第２の積層膜３２の各屈折率膜の膜厚の許容範囲（最小値、最大値）を計算により求めた。
　なお、許容範囲は、波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および６５０ｎｍの光の透過率が８７％以上となり、かつ波長が４００～７５０ｎｍの範囲における光の透過率の最大値と最小値の差で表される変動値が１０％以下となる範囲を求めた。また、許容範囲は、１つの屈折率膜の膜厚のみを基本構成（基本膜厚）から変更し、他の全ての屈折率膜の膜厚を基本構成（基本膜厚）としたときに上記条件を満たす範囲を求めた。
　表２に、実施例１の液晶パネル１について、各屈折率膜の膜厚の許容範囲（最小値、最大値）、その最小値および最大値における透過率（４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍ）、変動値を示す。同様に、表３、４には、実施例２の液晶パネル１、実施例３の液晶パネル１の結果を示す。また、図５には、実施例３の液晶パネル１において、第２の積層膜３２の２層目の屈折率膜３２２の膜厚（図５中、２Ｌと表記）を１～１０００ｎｍの範囲で変更したときの結果を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　実施例１～３の結果から明らかなように、第１の透明電極２４の厚さにかかわらず、同一の層番号を有する屈折率膜については、ほぼ類似した最適膜厚（基本膜厚）となることがわかる。また、表２～４から明らかなように、最適膜厚（基本膜厚）からの許容範囲についても、同一の層番号を有する屈折率膜については、基本的に一定程度の範囲内に入ることがわかる。従って、第１の透明電極２４の厚さにかかわらない各屈折率膜の許容範囲としては、表２～４に示される各屈折率膜の最小値と最大値とを採用して以下のものとすることができる。
　第１の積層膜２３における各屈折率膜の膜厚は、１層目の屈折率膜２３１が１～２６ｎｍ、２層目の屈折率膜２３２が１～１０００ｎｍ、３層目の屈折率膜２３３が１～３０ｎｍ、４層目の屈折率膜２３４が１～１０００ｎｍ、５層目の屈折率膜２３５が２～４１ｎｍ、６層目の屈折率膜２３６が１～９５ｎｍである。第２の積層膜３２における各屈折率膜の膜厚は、１層目の屈折率膜３２１が１～２６ｎｍ、２層目の屈折率膜３２２が１～１０００ｎｍ、３層目の屈折率膜３２３が１～３０ｎｍ、４層目の屈折率膜３２４が１～１０００ｎｍ、５層目の屈折率膜３２５が２～４１ｎｍ、６層目の屈折率膜３２６が６～９５ｎｍである。
　より好ましくは、以下のものである。第１の積層膜２３における各屈折率膜の膜厚は、１層目の屈折率膜２３１が２～１５ｎｍ、２層目の屈折率膜２３２が６０～７５ｎｍ、３層目の屈折率膜２３３が５～２０ｎｍ、４層目の屈折率膜２３４が５５～７０ｎｍ、５層目の屈折率膜２３５が１０～２５ｎｍ、６層目の屈折率膜２３６が２５～５５ｎｍである。第２の積層膜３２における各屈折率膜の膜厚は、１層目の屈折率膜３２１が２～１５ｎｍ、２層目の屈折率膜３２２が６０～７５ｎｍ、３層目の屈折率膜３２３が５～２０ｎｍ、４層目の屈折率膜３２４が６０～７０ｎｍ、５層目の屈折率膜３２５が１０～２５ｎｍ、６層目の屈折率膜３２６が２５～５５ｎｍである。
　１…液晶パネル、２…第１の基板部、３…第２の基板部、４…液晶部、２１…第１の基板本体、２３…第１の積層膜（２３１…１層目の屈折率膜、２３２…２層目の屈折率膜、２３３…３層目の屈折率膜、２３４…４層目の屈折率膜、２３５…５層目の屈折率膜、２３６…６層目の屈折率膜）、２４…第１の透明電極、２５…第１の配向膜、３１…第２の基板本体、３２…第２の積層膜（３２１…１層目の屈折率膜、３２２…２層目の屈折率膜、３２３…３層目の屈折率膜、３２４…４層目の屈折率膜、３２５…５層目の屈折率膜、３２６…６層目の屈折率膜）、３３…第２の透明電極、３４…第２の配向膜
　なお、２０１０年１２月２日に出願された日本特許出願２０１０－２６９５０２号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (13)

  1. 　第１の基板本体の各画素部の少なくとも表示部となる部分に、第１の積層膜、第１の透明電極、および第１の配向膜が順に積層された第１の基板部と、前記第１の基板部に対向して配置され、第２の基板本体上に第２の積層膜、第２の透明電極、および第２の配向膜が順に積層された第２の基板部と、前記第１の基板部と前記第２の基板部との間に配置される液晶部とを有し、波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および６５０ｎｍの光の透過率が８７％以上である液晶プロジェクタ用液晶パネルであって、
    　前記第１の積層膜は、屈折率が１．９～２．５の高屈折率膜と屈折率が１．２～１．５の低屈折率膜とが前記第１の基板本体側から交互に計６層積層されてなり、かつ前記屈折率膜の膜厚は１層目が１～２６ｎｍ、２層目が１～１０００ｎｍ、３層目が１～３０ｎｍ、４層目が１～１０００ｎｍ、５層目が２～４１ｎｍ、６層目が１～９５ｎｍであり、
    　前記第２の積層膜は、屈折率が１．９～２．５の高屈折率膜と屈折率が１．２～１．５の低屈折率膜とが前記第２の基板本体側から交互に計６層積層されてなり、かつ前記屈折率膜の膜厚は１層目が１～２６ｎｍ、２層目が１～１０００ｎｍ、３層目が１～３０ｎｍ、４層目が１～１０００ｎｍ、５層目が２～４１ｎｍ、６層目が６～９５ｎｍであることを特徴とする液晶プロジェクタ用液晶パネル。
  2. 　前記第１の積層膜の合計膜厚は１５０～２５０ｎｍ、前記第２の積層膜の合計膜厚は１５０～２５０ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
  3. 　前記第１の積層膜における２層目および５層目の屈折率膜の合計膜厚が５５～１１０ｎｍであり、前記第２の積層膜における２層目および５層目の屈折率膜の合計膜厚が６０～１１０ｎｍであることを特徴とする請求項１または２記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
  4. 　前記第１の積層膜における奇数層目となる高屈折率膜の計３層の合計膜厚が１０～６５ｎｍ、前記第２の積層膜における奇数層目となる高屈折率膜の計３層の合計膜厚が１０～６５ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
  5. 　前記第１の積層膜における偶数層目となる低屈折率膜の計３層の合計膜厚が１３０～２０５ｎｍ、前記第２の積層膜における偶数層目となる低屈折率膜の計３層の合計膜厚が１５０～２０５ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
  6. 　前記第１の透明電極の膜厚が１０～１６５ｎｍ、前記第１の配向膜の膜厚が４０～８０ｎｍ、かつ前記第２の透明電極の膜厚が１０～３０ｎｍ、前記第２の配向膜の膜厚が１５～５５ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
  7. 　前記第１の透明電極の膜厚が１２０～１６５ｎｍであり、
    　前記第１の積層膜における前記屈折率膜の膜厚は、１層目が３～１５ｎｍ、２層目が４５～９０ｎｍ、３層目が２～１６ｎｍ、４層目が１～１１０ｎｍ、５層目が１２～２８ｎｍ、６層目が１９～５２ｎｍであり、
    　前記第２の積層膜における前記屈折率膜の膜厚は、１層目が１～１８ｎｍ、２層目が２６～１００ｎｍ、３層目が１～２１ｎｍ、４層目が２０～１０５ｎｍ、５層目が１１～３２ｎｍ、６層目が２５～７０ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
  8. 　前記第１の透明電極の膜厚が６０～１２０ｎｍ（但し１２０ｎｍを除く）であり、
    　前記第１の積層膜における前記屈折率膜の膜厚は、１層目が１～１２ｎｍ、２層目が２３～１１０ｎｍ、３層目が７～２４ｎｍ、４層目が３５～１０３ｎｍ、５層目が８～２３ｎｍ、６層目が１～５５ｎｍであり、
    　前記第２の積層膜における前記屈折率膜の膜厚は、１層目が１～２０ｎｍ、２層目が２０～１０６ｎｍ、３層目が１～２４ｎｍ、４層目が１～１２０ｎｍ、５層目が８～３３ｎｍ、６層目が２０～７４ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
  9. 　前記第１の透明電極の膜厚が１０～６０ｎｍ（但し６０ｎｍを除く）であり、
    　前記第１の積層膜における前記屈折率膜の膜厚は、１層目が１～２６ｎｍ、２層目が１～１０００ｎｍ、３層目が１～３０ｎｍ、４層目が１～１０００ｎｍ、５層目が２～４１ｎｍ、６層目が６～９５ｎｍであり、
    　前記第２の積層膜における前記屈折率膜の膜厚は、１層目が１～２６ｎｍ、２層目が１～１０００ｎｍ、３層目が１～３０ｎｍ、４層目が１～１０００ｎｍ、５層目が２～４１ｎｍ、６層目が６～９５ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
  10. 　前記高屈折率膜は、酸化タンタル、酸化チタン、酸化ジルコニウム、および酸化ハフニウムからなる群から選ばれる少なくとも１種からなり、前記低屈折率膜は、酸化シリコン、およびフッ化マグネシウムからなる群から選ばれる少なくとも１種からなることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
  11. 　波長が４００～７００ｎｍの範囲における光の透過率の最大値と最小値との差で表される変動値が１０％以下であることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
  12. 　前記第１の基板本体および前記第２の基板本体が石英基板であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
  13. 　被投影物に投影するための画像情報を形成する液晶パネルを有する液晶プロジェクタであって、
    　前記液晶パネルが請求項１乃至１２のいずれか１項記載の液晶プロジェクタ用液晶パネルであることを特徴とする液晶プロジェクタ。
PCT/JP2011/062515 2010-12-02 2011-05-31 液晶プロジェクタ用液晶パネル、および液晶プロジェクタ WO2012073540A1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010269502A JP2014032215A (ja) 2010-12-02 2010-12-02 液晶プロジェクタ用液晶パネル、および液晶プロジェクタ
JP2010-269502 2010-12-02

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2012073540A1 true WO2012073540A1 (ja) 2012-06-07

Family

ID=46171499

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2011/062515 WO2012073540A1 (ja) 2010-12-02 2011-05-31 液晶プロジェクタ用液晶パネル、および液晶プロジェクタ

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP2014032215A (ja)
TW (1) TW201224592A (ja)
WO (1) WO2012073540A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014119475A (ja) * 2012-12-13 2014-06-30 Toray Advanced Film Co Ltd タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムおよびタッチパネル用透明導電性フィルム
US20230043367A1 (en) * 2019-12-16 2023-02-09 Agc Glass Europe Head up display system

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018035005A (ja) * 2016-08-29 2018-03-08 日本電気硝子株式会社 誘電体多層膜付きガラス板の製造方法及び誘電体多層膜付きガラス板

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06342169A (ja) * 1993-04-09 1994-12-13 Fuji Photo Film Co Ltd 光スイッチング素子
JP2005031297A (ja) * 2003-07-10 2005-02-03 Asahi Techno Glass Corp 液晶表示装置の反射防止膜付き透明基板
JP2005173179A (ja) * 2003-12-11 2005-06-30 Hoya Corp 液晶パネル用防塵基板及び液晶パネル用対向基板、並びに透過型液晶表示装置
JP2010266605A (ja) * 2009-05-13 2010-11-25 Asahi Glass Co Ltd 液晶プロジェクタ用基板、およびこれを用いた液晶プロジェクタ用液晶パネル、液晶プロジェクタ

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06342169A (ja) * 1993-04-09 1994-12-13 Fuji Photo Film Co Ltd 光スイッチング素子
JP2005031297A (ja) * 2003-07-10 2005-02-03 Asahi Techno Glass Corp 液晶表示装置の反射防止膜付き透明基板
JP2005173179A (ja) * 2003-12-11 2005-06-30 Hoya Corp 液晶パネル用防塵基板及び液晶パネル用対向基板、並びに透過型液晶表示装置
JP2010266605A (ja) * 2009-05-13 2010-11-25 Asahi Glass Co Ltd 液晶プロジェクタ用基板、およびこれを用いた液晶プロジェクタ用液晶パネル、液晶プロジェクタ

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014119475A (ja) * 2012-12-13 2014-06-30 Toray Advanced Film Co Ltd タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムおよびタッチパネル用透明導電性フィルム
US20230043367A1 (en) * 2019-12-16 2023-02-09 Agc Glass Europe Head up display system

Also Published As

Publication number Publication date
TW201224592A (en) 2012-06-16
JP2014032215A (ja) 2014-02-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7811725B2 (en) Color filter substrate
JP2015099357A (ja) 表示パネル及びその製造方法
US20100020402A1 (en) Multilayer film
JP2014182280A (ja) 表示装置
EP3242342A1 (en) Oled device having optical resonance layer and preparation method therefor, and display
JP5984771B2 (ja) 位相差素子及びその製造方法、液晶表示装置及びその製造方法、並びに投射型画像表示装置
WO2012073540A1 (ja) 液晶プロジェクタ用液晶パネル、および液晶プロジェクタ
JP4432056B2 (ja) 液晶表示素子及びこの液晶表示素子を用いた液晶表示装置
JP4499180B1 (ja) 液晶プロジェクタ用基板、およびこれを用いた液晶プロジェクタ用液晶パネル、液晶プロジェクタ
JP5782812B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス装置および有機エレクトロルミネッセンス素子用対向基板
TW200534007A (en) IPS LCD device having a wider viewing angle
JP2006293013A (ja) 半透過型液晶表示素子用基板及び該基板を備える半透過型液晶表示素子
JP2003177385A5 (ja)
JP2006301510A (ja) 表示パネル用基板および表示パネル
JP2017206392A (ja) ガラス物品
JP2008112032A (ja) 光学フィルタ
TWI718639B (zh) 觸控顯示裝置
JP5370193B2 (ja) 液晶装置およびプロジェクター
TW202109874A (zh) 顯示裝置
JP2005294084A (ja) 透明導電フィルム
JP2020046574A (ja) 液晶装置、液晶装置の製造方法、および電子機器
JP2004062136A (ja) 色調補正フィルタ
JP2006169040A (ja) Ｉｔｏ付きガラス基板およびその製造方法
JP2007178774A (ja) 反射型液晶表示素子の製造方法
JP2015203753A (ja) 液晶表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 11844764

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 11844764

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: JP