JP4633740B2 - フリップチップqfnパッケージおよびそのための方法 - Google Patents

フリップチップqfnパッケージおよびそのための方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4633740B2
JP4633740B2 JP2006549619A JP2006549619A JP4633740B2 JP 4633740 B2 JP4633740 B2 JP 4633740B2 JP 2006549619 A JP2006549619 A JP 2006549619A JP 2006549619 A JP2006549619 A JP 2006549619A JP 4633740 B2 JP4633740 B2 JP 4633740B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead frame
lead
mounting
leadframe
panel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2006549619A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007518282A (ja
Inventor
ミン シウ、ヘイ
ウォン チョウ、ワイ
ホ、チン−チュン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NXP USA Inc
Original Assignee
NXP USA Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NXP USA Inc filed Critical NXP USA Inc
Publication of JP2007518282A publication Critical patent/JP2007518282A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4633740B2 publication Critical patent/JP4633740B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/93Batch processes
    • H01L24/95Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
    • H01L24/97Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/565Moulds
    • H01L21/566Release layers for moulds, e.g. release layers, layers against residue during moulding
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/02Containers; Seals
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49517Additional leads
    • H01L23/4952Additional leads the additional leads being a bump or a wire
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49537Plurality of lead frames mounted in one device
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49541Geometry of the lead-frame
    • H01L23/49548Cross section geometry
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0556Disposition
    • H01L2224/05568Disposition the whole external layer protruding from the surface
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05573Single external layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16245Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/81Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
    • H01L2224/81001Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector involving a temporary auxiliary member not forming part of the bonding apparatus
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/93Batch processes
    • H01L2224/95Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
    • H01L2224/97Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01015Phosphorus [P]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01029Copper [Cu]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01078Platinum [Pt]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01079Gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • H01L2924/1815Shape
    • H01L2924/1816Exposing the passive side of the semiconductor or solid-state body
    • H01L2924/18161Exposing the passive side of the semiconductor or solid-state body of a flip chip

Description

本発明は、集積回路およびパッケージ集積回路に関し、より詳細には、2つの別々のリードフレームにより形成されたパッケージ集積回路に関する。
集積回路(IC)ダイは、シリコン・ウェハなどの半導体ウェハ上に形成される小型のデバイスである。リードフレームは、通常、ウェハから切り離されたICダイを支持するパドルを含む金属フレームである。リードフレームは、外部電気接続を行うリード・フィンガを有する。すなわち、ダイはダイ・パドルに取り付けられ、次にダイのボンディング・パッドが外部電気接続を行うために、ワイヤ・ボンディングまたはフリップ・チップ・バンプを介してリード・フィンガに接続される。ダイおよびワイヤボンドまたはフリップ・チップ・バンプを保護材料で封止するとパッケージが完成する。パッケージ・タイプにより、外部電気接続は、薄型小型パッケージ(TSOP)におけるようにそのまま使用することもできるし、または例えば、ボール・グリッド・アレイ(BGA)用の球状半田ボールを取り付けることによりさらに処理することができる。これらの端末点により、ダイをプリント基板のような他の回路に電気的に接続することができる。
パッケージICは広く使用されている。さらに、電子デバイスの小型化およびコストの低減が絶えず求められているために、パッケージICがさらに、小型になり、コストも安くなってきている。さらに、高い周波数帯域幅のRFデバイスおよび動作周波数が高いデバイスの場合には、ICパッケージ内の電路をさらに短くする必要がある。従来のワイヤ・ボンディグ相互接続の代わりにフリップ・チップ・ボンディグを使用することができる。
それ故、ICをフリップ・チップ相互接続実装するための安価な方法を提供することは望ましいことである。また、このようなパッケージICのサイズを小さくするための方法も求められている。
本発明は、2つの別々のリードフレームでできている半導体デバイスに関する。このデバイスは、キャビティを画成している周辺部および周辺部から内側に延びる複数のリードを有する第1のリードフレームを備える。第2のリードフレームは、頂面および底面およびダイ受け領域を囲んでいるダイ・パドルを含む。集積回路(IC)は、第2のリードフレームのダイ受け領域内に位置する。ICは、その第1の面の周辺部分上に位置する複数のボンディグ・パッドを含む。第1のリードフレームおよび第2のリードフレームは、第1のリードフレームのリードが、ICの各ボンディグ・パッドに電気的に接続するように互いに対向している。モールド化合物は、第1および第2のリードフレーム間に射出され、第2のリードフレームの頂面およびICの第1の面の中央領域をカバーする。リードの少なくとも底面は露出している。
本発明は、さらに、半導体デバイスを実装するための方法を提供する。この方法は、
キャビティを形成している周辺部と周辺部から内側に延びる複数のリードを有する第1のリードフレームを供給するステップであって、第1のリードフレームが第1および第2の側面を有するステップと、
第1のテープを第1のリードフレームの第1の側面に貼付するステップと、
ダイ受け領域を有するダイ・パドルを含む第2のリードフレームを供給するステップであって、ダイ・パドルが頂面および底面を有するステップと、
第2のテープを第2のリードフレームの底面に貼付するステップと、
ダイ・パドルのダイ受け領域に集積回路(IC)を取り付けるステップであって、ICがその周辺部の周囲に複数のボンディグ・パッドを含む頂面と底面を有し、ダイ受け領域がキャビティである場合に、ICの底面がダイ・パドル内で第2のテープに取り付けられるステップと、
複数のICボンディグ・パッドが、第1のリードフレームの複数の各リードに電気的に接触するように、第1のリードフレーム上に第2のリードフレームを積み重ねるステップと、
少なくとも第2のリードフレームの頂面、ICの頂面、および電気的接点上にモールド化合物を形成するステップと、
第1のリードフレームの第1の側面、および第2のリードフレームの底面が露出するように、第1および第2のリードフレームから第1および第2のテープを除去するステップとを含む。
本発明は、さらに、複数の半導体デバイスを実装するための方法を提供する。この方法は、
第1のリードフレーム・パネルを供給するステップであって、第1のリードフレーム・パネルが複数の第1のリードフレームを有し、第1のリードフレームのそれぞれが、キャビティを形成している周辺部と周辺部から内側に延びる複数のリードを有し、第1のリードフレーム・パネルが、第1および第2の側面を有するステップと、
第1のテープを第1のリードフレーム・パネルの第1の側面に貼付するステップと、
第2のリードフレーム・パネルを供給するステップであって、第2のリードフレーム・パネルが複数の第2のリードフレームを含み、第2のリードフレームのそれぞれがダイ受け領域を有するダイ・パドルを含み、第2のリードフレーム・パネルが頂面および底面を有するステップと、
第2のテープを第2のリードフレーム・パネルの底面に貼付するステップと、
第2のリードフレーム・パネルの第2のリードフレームのダイ・パドルの各ダイ受け領域内に複数の集積回路(IC)を設置するステップであって、各ICがその周辺部の周囲に複数のボンディグ・パッドを有する頂面と底面を有し、ICの底面が第2のテープに取り付けられるステップと、
ICのボンディグ・パッドが、第1のリードフレームの各リードと接触し、それによりICと第1のリードフレームとを電気的に接続するように、第1および第2のリードフレーム・パネルを対向して設置するステップと、
モールド化合物が、少なくとも第2のリードフレーム・パネルの頂面、ICの頂面および電気接続をカバーするように、第1および第2のリードフレーム・パネル間にモールド化合物を形成するステップと、
第1のリードフレーム・パネルの第1の側面および第2のリードフレーム・パネルの底面が露出するように、第1および第2のリードフレーム・パネルから第1および第2のテープを除去するステップと、
複数の第1および第2のリードフレームをリードフレーム・パネルから個々の実装デバイスに分離する個片状化動作を実行するステップとを含む。
添付の図面を参照しながら読めば、本発明の好ましい実施形態の下記の詳細な説明をよりよく理解することができるだろう。本発明を説明するために、図面に現在の好ましい実施形態を示す。しかし、本発明は図の正確な配置および手段に限定されないことを理解されたい。
添付の図面に関連して記述する以下の詳細な説明は、本発明の現在の好ましい実施形態を説明するためのものであり、本発明を実行することができる唯一の形を示すものではない。本発明の精神および範囲内に含まれる異なる実施形態によっても、同じまたは同等の機能を実行することができることを理解されたい。当業者であれば理解できると思うが、本発明は種々のパッケージおよびパッケージ・タイプに適用することができる。
図面中のいくつかのフィーチャは、説明および図面の理解を助けるために拡大してあるが、その素子は必ずしも正確に縮尺されていない。さらに、図の本発明は、クワッド・フラット・ノーリード(QFN)タイプのパッケージで実施されている。しかし、当業者であれば、本発明の詳細、および本発明は、他のパッケージ・タイプに適用することができることを容易に理解することができるだろう。図面全体を通して、類似の素子には類似の参照番号が付けてある。
図1および図2を参照すると、この図は、本発明によるパッケージ型半導体デバイスのある実施形態の拡大頂部および底部斜視図である。図の実施形態の場合には、実装デバイス10は、露出面を有する集積回路(IC)12を含む(図1)。集積回路12は、シリコン・ウェハ上に形成され、シリコン・ウェハからカットされた回路のような当業者であれば周知のタイプのものであってもよい。典型的な回路(ダイ)のサイズは、2mm×2mm〜12mm×12mmの範囲内であり、約3〜約21ミルの範囲内の厚さを有する。実装デバイス10は、QFN(クワッド・フラット・ノーリード)パッケージと呼ばれ、そのサイズは約3×3mm〜約12×12mmの範囲である。しかし、当業者であれば、回路サイズおよびパッケージ・サイズは変化すること、および実装デバイスの形状も変化することを理解することができるだろう。
IC12は、実装デバイス10の底面および側面上に露出しているリード14を通して、他の回路またはデバイスに接続することができる。図1の実施形態の場合には、IC12の底面は露出している。図2は、実装デバイス10の底面である。図の実施形態の場合には、底面上には、グランド面15が露出している。しかし、以下にさらに詳細に説明するように、グランド面15はオプションである。他の実施形態の場合には、底面上にリード14だけが露出している。
ここで図3を参照すると、この図は、第1のリードフレーム・パネル16の一部の拡大平面図である。第1のリードフレーム・パネル16は、第1の接続バー20と接続している複数の第1のリードフレーム18を含む。図の実施形態の場合には、第1のリードフレーム・パネル16は、第1のリードフレーム18の3×3マトリックスを有する。しかし、第1のリードフレーム・パネル16は、もっと多いまたはもっと少ない第1のリードフレーム18を有することができる。第1の各リードフレーム18は、キャビティ22を形成している周辺部(すなわち、第1の接続バー20)および周辺部から内側に延びる複数のリード14を有する。図の鎖線はキャビティ22を示す。図の実施形態は、キャビティ22内に位置するグランド面15を含む。グランド面15は、IC12の共通の電気的アースである。グランド面15は、また、ボード・レベル半田接合部の強度をさらに増大する半田づけ可能な領域を形成する。すでに説明したように、グランド面15はオプションである。第1のリードフレームのリード14のサイズ、形状および数は、IC12のボンディグ・パッドのサイズ、形状および数により決まる。図では、リード14の長さおよび幅がほぼ同じであるが、リード14の長さおよび幅は変えることができる。例えば、電力およびアース用に使用するリードの幅は信号リードの幅より広くすることができる。
第1のリードフレーム・パネル16は、第1および第2の側面を有する。図3は、第1の側面を示す。第1のリードフレーム・パネル16は、また、その周辺部に沿って位置する複数の間に間隔を有する第1の孔部24を含む。好適には、第1のリードフレーム・パネル16は、金属または金属合金でできていて、第1の所定の厚さを有することが好ましい。例えば、第1のリードフレーム・パネル16は、銅から作ることができ、当業者であれば周知のように、切断、スタンピングまたはエッチングにより形成することができる。現在の好ましい実施形態の場合には、第1のリードフレーム・パネル16は錫で予めメッキした銅から作ることができる。
図4は、第1のリードフレーム18の3つの5×5マトリックスを含むもう1つの第1のリードフレーム・パネル17である。その他の点においては、第1のリードフレーム・パネル17は、第1のリードフレーム・パネル16と同じである。実装デバイス10を形成する場合、第1のリードフレーム・パネル17(または16)は、その第1の側面に貼付された第1のテープ26を含む。第1のテープ26は、高温に耐えることができる半導体実装動作の際に通常使用する当業者であれば周知のタイプのものである。第1のテープ26は、第1のリードフレーム・パネル17にこのテープを貼付することができる接着剤または糊が一方の側面上に塗布されている。
図5は、本発明による第2のリードフレーム・パネル30の一部の拡大平面図である。第2のリードフレーム・パネル30は、複数の第2のリードフレーム32を含む。図5は、第2のリードフレーム32の3×3マトリックスを含む第2のリードフレーム・パネル30の一部を示す。しかし、第2のリードフレーム・パネル30は、多数の種々のサイズのマトリックスを含むことができ、マトリックスは3×3に限定されない。第2のリードフレーム32は、第2の接続バー34に接続している。第2の各リードフレーム32は、キャビティまたはダイ受け領域36を囲んでいるダイ・パドルを有する。第2のリードフレーム32は、また、第1および第2の面、すなわち頂面および底面を有し、第2の厚さを有する。ダイ受け領域36は、IC12を収容するようなサイズおよび形状をしている。それ故、IC12が長方形をしている場合には、好適には、ダイ受け領域36も長方形をしていることが好ましい。ダイ受け領域36は、IC12より若干大きくてもよい。図1に示すように、IC12は、ダイ受け領域36内にきちんと収まる。当業者であれば理解することができると思うが、IC12は、市販のダイ設置装置によりダイ受け領域36内に設置することができる。第2のリードフレーム32は、IC12を収容するためのキャビティを有しているが、第2のリードフレーム32は、IC12をダイ・パドル上に設置する(またダイ・パドルに取り付ける)ためのソリッド・ダイ・パドル領域を含むことができる。第1のリードフレーム・パネル16のように、第2のリードフレーム・パネル30も、周辺部に沿って位置する複数の間に間隔を有する第2の孔部38を含む。この孔部38は、パンチングのような任意の適当な方法で形成することができる。以下にさらに詳細に説明するように、第1および第2のリードフレーム・パネル16および30を積み重ねた場合には、第1の孔部24は第2の孔部38と整合する。
図6は、第2のリードフレーム32の3つの5×5マトリックスを有する第2のリードフレーム・パネル31を示す。他の点では、第2のリードフレーム・パネル31は、第2のリードフレーム・パネル30と同じである(図5)。実装デバイス10を形成する際に、第2のリードフレーム・パネル31(または30)は、その底面に貼付されている第2のテープ40を含む。第2のテープ40は、第1のテープ26のように、高温に耐えることができる半導体実装動作の際に通常使用する当業者であれば周知のタイプのものである。第2のテープ40は、第2のリードフレーム・パネル31にこのテープを貼付することができる接着剤または糊が一方の側面上に塗布されている。第2のテープ40は、(以下に説明するように)第2のリードフレーム・パネル30または31の底面をモールド樹脂の滲みから保護する。好ましい実施形態の場合には、第2のテープ40は、また、第2のリードフレーム32のダイ受け領域36の内側にIC12を保持する。
第1のリードフレーム・パネル16のように、好適には、第2のリードフレーム・パネル30は、金属または金属合金で作ることが好ましく、当業者であれば周知のように、切断、スタンピングまたはエッチングにより形成することができる。もっと複雑で高密度のリードフレームの場合には、化学エッチング方法を使用することが好ましい。当業者であれば理解することができると思うが、エッチング方法は、リードフレームの詳細なパターンを形成するためにアートワーク・マスクを使用し、次に、金属のマスクしない部分をエッチングにより除去する。もしある場合には、メッキしない部分をマスクするためにメッキ・マスクが使用され、次に、マスクしていない部分がメッキ工程により金属層でメッキされる。水洗ステップおよび洗浄ステップは、工程間で行われる。このようなマスク、エッチング、メッキ、水洗、および洗浄工程は当業者であれば周知のものである。
図7は、第2のリードフレーム32のダイ受け領域36内にIC12を設置するステップを示す。ダイ受け領域36がキャビティである場合には、IC12はキャビティ内に置かれ、ここで第2のテープ40の面に接着する。すなわち、IC12の底面は、第2のテープ40の糊または接着剤に接着する。ダイ受け領域36が第2のリードフレーム32内のある場所であるが、キャビティでない場合には(すなわち、ソリッド・ダイ・パドルである場合には)、接着剤またはダイ取付材料が、第2のリードフレーム32のダイ・パドルにIC12を固定するために使用される。IC12は、第2のテープ40またはダイ・パドルに接着する第1の面、すなわち底面、およびその周辺部の周囲に間に間隔を有する複数のボンディグ・パッドを有する第2の面、すなわち頂面を有する。すでに説明したように、現在入手できるピック・プレース装置は、集積回路を所定の位置に置くことができる。
第2のリードフレーム・パネル31上にIC12を置いた後で、ボンディグ・パッドが、リード14と電気的に接続するように、またIC12のボンディグ・パッドが、第1のリードフレーム18の各リード14と接触するように、第1および第2のリードフレーム・パネル17および31が対向する形で設置される。図8は、第2の孔部38内に挿入されたガイド・ピン42を含む第2のリードフレーム・パネル31を示す。ガイド・ピン42は、第1のリードフレーム・パネル17の第1の孔部24内に延びて、第1および第2のリードフレーム・パネル17および31を相互に正確に整合するのを助ける。
ここで図9および図10を参照すると、第1および第2のリードフレーム・パネル17および31は、IC12のボンディグ・パッドが、第1のリードフレーム18の各リード14に接触し、それによりIC12と第1のリードフレーム18とが電気的に接続するように対向して設置される。図9は、IC12の頂面上のボンディグ・パッドが、第1のリードフレーム18のリード14と接触するように、第1および第2のリードフレーム・パネル17および31が上下に整合している拡大断面図である。図10は、IC12がリードフレーム18の対応するものと接触状態に置かれ、また成形または封止手順の前に型内に入れられた後のIC12のうちの1つの拡大断面図である。ガイド・ピン42は、第1および第2のリードフレーム・パネル17および31内の第1および第2の孔部24および38を貫通して延びていて、これらパネルを確実に正確に整合する。
リード14は、ボンディグ・パッド44に直接接触することができ、または現在よく行われているように、導電性ボール46が、IC12の各ボンディグ・パッド44と第1のリードフレーム18のリード14の間に配置される。それ故、リード14は、導電性ボール46を通してボンディグ・パッド44と電気的に結合する。好適には、導電性ボール46は、対向して第1および第2のリードフレーム・パネル17および31を設置する前に、ボンディグ・パッド44に取り付けることが好ましい。導電性ボール46は、電気信号を容易に通す任意の材料から形成することができる。しかし、好適には、導電性ボール46は錫の半田から形成することが好ましい。もう1つの適当な材料は金である。導電性ボール46は、電気メッキ、スクリーン印刷法、または金のボール・ボンディグによりボンディグ・パッド44に取り付けることができる。
図15を参照すると、この図は、接続バー20のうちの1つから突き出ているリード14のうちの4本の平面図である。好適には、各リード14は、部分的にエッチングした部分60およびリード14の遠い方の端部の近くにエッチングしたトレンチまたは溝62を含むことが好ましい。トレンチ部分および溝部分62は、リード14に対する導電性ボール46の整合および固定を楽にする。リード14のエッチングした部分60により、ボール46がこの部分に押し付けられた場合、リード14は曲がったり変形することができる。第1のリードフレーム18を錫で予めメッキすると、半田ペーストまたはフラックスを使用しなくても、導電性ボール46のリフローが楽になる。
図10に示すように、2つのリードフレーム・パネル17および31を対向状態に設置した後で、リード14上の予めメッキした錫が溶融し、導電性ボール46により半田接合部を形成するように、積み重ねたリードフレーム17および31をリフロー・オーブンを通過させることができる。このステップはオプションである。何故なら、導電性ボール46とリード14との間の電気接続は、成形または封止ステップ中にモールド化合物(例えば、以下に説明するモールド化合物50)により行うことができるからである。
図10に示すように、2つのリードフレーム・パネル17および31を対向状態で設置した後で、モールド化合物50がリードフレーム・パネル17および31間に射出され、少なくとも第2のリードフレーム・パネル17の頂面、IC12の頂面、および電気接続をカバーするように、第1および第2のリードフレーム・パネル17および31の間にモールド化合物を形成するために成形動作が行われる。モールド化合物50は、パッケージ型電子デバイスで通常使用されるように、プラスチックを含むことができる。頂部および底部の型52および54は、導電性ボール46を通してボンディグ・パッド44とリード14との間に望ましい電気接続が確実に行われるように、第1および第2のリードフレーム・パネル17および31を一緒に押し付ける。図を見れば分かるように、第1および第2のリードフレーム17および31は、相互に電気的に絶縁されている。
図11を参照すると、リードフレーム・パネル17および31間にモールド化合物50を射出することができるようにするために、リードフレーム・パネル17および31の一方または両方の一部をエッチングすることができる。図11は、モールド化合物50のための通路56を形成するために、一部がエッチングされている第2のリードフレーム・パネル31を示す。第1および第2のテープ26および40は、成形または封止工程中に、樹脂またはモールド化合物の滲みを防止する。
図12を参照すると、成形工程が終了した後で、第1のテープ26が第1のリードフレーム・パネル17から除去され、第2のテープ40が第2のリードフレーム・パネル31から除去される。テープ26および40は、手動でも現在市販されている自動装置によっても除去することができる。
次に、第1および第2のリードフレーム18および32は、個々の実装デバイス10を形成するために、図13に示すように、ダイシングまたは個片状化動作を行うことにより、第1および第2のリードフレームの他方から分離される。ダイシングおよび鋸による個片状化工程は、当業者にとって周知のものである。図10の鎖線70は、第1および第2のリードフレーム18および22がカットされる位置を示す。
図14は、完成デバイス10の拡大断面図である。例示としての実施形態の場合には、実装デバイスは、Aで示すように約11ミルの厚さの集積回路12により構成した。第1のリードフレーム18の厚さは、Bで示すように約8ミルであり、導電性ボール46の厚さすなわち直径は、Cで示すように約3ミルであった。3つの厚さA、BおよびC(11+8+3)を合計すると22ミルになる。しかし、成形動作中に上下の型52および54がデバイス10に加える圧力により、デバイス10の全体の厚さは約20ミルになる。すなわち、機械的圧縮力が、リード14上に作用する(また作用し続ける)。部分的エッチ・フィーチャ60を含むリード14の一部は、下方に曲がり、ボンディグ・パッド44に対して導電性ボール46を継続的に押したり、押し付けたりするスプリングバック力を有する。この機械的スプリングバック力は、導電性ボール46、リード14およびボンディグ・パッド44間の接合強度を強化する。
第1および第2のリードフレーム18および32は、異なる厚さのものであってもよい。例えば、多くの熱を発生する電力回路の場合には、ICが取り付けられる第2のリードフレーム32(非キャビティ型ダイ・パドル)をヒート・シンクとして使用することができる。このような場合、好適には、第2の厚さは、第1の厚さよりも厚いことが好ましい。第1のリードフレーム18は、鋸による個片状化を容易にするためにもっと薄くすることができる。別の方法としては、図14に示すように、第2のリードフレーム32を第1のリードフレーム18よりも厚くすることができる。図14は、グランド面15も示す。IC12は、導電性ボール46より直径の小さい導電性ボール58により、グランド面15と電気的に接続することができる。
今までの本発明の好ましい実施形態の説明は、例示と記述のためのものであって、本発明をすべて網羅するものでもなければ、本発明を開示の形式に制限するものでもない。当業者であれば、本発明の広義のコンセプトから逸脱することなしに、上記実施形態を種々に変更することができることを理解することができるだろう。例えば、2つ以上の構成要素部分からなるダイ・パドルを有するような3つ以上の部分を有するリードフレームを形成することができる。それ故、本発明は、開示の特定の実施形態に限定されるものではなく、添付の特許請求の範囲に記載する本発明の精神および範囲に含まれる修正をカバーすることを理解されたい。
本発明のある実施形態によりパッケージ型半導体デバイスの頂部斜視図。 図1のパッケージ型半導体デバイスの底部斜視図。 本発明のある実施形態による第1のリードフレーム・パネルの一部の拡大平面図。 図3の第1のリードフレーム・パネルに貼付されている第1のテープの斜視図。 本発明のある実施形態による第2のリードフレーム・パネルの一部の拡大平面図。 図5の第2のリードフレーム・パネルに貼付されている第2のテープの斜視図。 図5の第2のリードフレーム・パネルのダイ受け領域内に設置されている集積回路ダイの斜視図。 本発明のある実施形態による図5の第2のリードフレーム・パネルの孔部内に挿入されているガイド・ピンの斜視図。 本発明のある実施形態によりスタックされている第1および第2のリードフレーム・パネルの拡大断面図。 本発明のある実施形態による成形ステップを示す拡大断面図。 本発明のある実施形態による第1および第2のリードフレーム・パネルのうちの1つの一部の拡大斜視図。 本発明のある実施形態によるテープ除去手順を示す斜視図。 本発明のある実施形態によるダイシング手順を示す斜視図。 図1の半導体デバイスの拡大断面図。 本発明のある実施形態による図3のリードフレーム・パネルの第1のリードフレームのリード・フィンガーの拡大平面図。

Claims (22)

  1. キャビティを画成している周辺部と前記周辺部から内側に延びる複数のリードとを有し、及び第1および第2の側面を有する第1のリードフレームを設けるステップと、
    第1のテープを前記第1のリードフレームの第1の側面に貼付するステップと、
    ダイ受け領域を有したダイ・パドルを有するとともに、頂面および底面を有する第2のリードフレームを設けるステップと、
    第2のテープを前記第2のリードフレームの底面に貼付するステップと、
    周辺部に沿って複数のボンディグ・パッドを備えた頂面と底面とを有する集積回路(IC)を前記ダイ・パドルのダイ受け領域に取り付けるステップと、
    前記複数のICボンディグ・パッドが、前記第1のリードフレームの前記複数の各リードに電気的に接触するように、前記第1のリードフレーム上に前記第2のリードフレームを積み重ねるステップと、
    少なくとも前記第2のリードフレームの頂面、前記ICの頂面、および前記電気的接点上にモールド化合物を形成するステップと、
    前記第1のリードフレームの第1の側面、および前記第2のリードフレームの底面が露出するように、前記第1および第2のリードフレームから前記第1および第2のテープを除去するステップとを備える、半導体デバイスの実装方法。
  2. 前記ICの各ボンディグ・パッドと前記第1のリードフレームのリードとの間に複数の導電性ボールを介在させるステップをさらに備え、前記第1のリードフレームのリードが前記導電性ボールにより前記ICの各ボンディグ・パッドと接触する請求項1に記載の半導体デバイスの実装方法。
  3. 前記導電性ボールが、前記積み重ねステップの前に、前記ICのボンド・パッドに取り付けられる請求項2に記載の半導体デバイスを実装するための方法。
  4. 前記第1のリードフレームの前記複数のリードの一部が、エッチングされ、前記導電性ボールが、前記リードの前記エッチングされた部分内に収容される請求項3に記載の半導体デバイスの実装方法。
  5. 前記導電性ボールが、前記第1のリードフレームの対応する前記各リードに押し付けられ、それにより、前記リードを曲げ、前記導電性ボールおよび前記リードの接合強度を強化する前記導電性ボール上の前記リードのスプリングバック力を発生させるように、前記第2のリードフレームが、前記第1のリードフレームに押し付けられる請求項4に記載の半導体デバイスの実装方法。
  6. 前記積み重ねステップが、少なくとも1つのガイド・ピンおよび前記第1および第2のリードフレーム内の少なくとも1つの対応する案内孔部により、前記第1および第2のリードフレームを整合するステップをさらに含む請求項1に記載の半導体デバイスの実装方法。
  7. 前記第2のリードフレームのダイ・パドルのダイ受け領域が中央のキャビティを備え、前記ICの前記底面が前記第2のテープに接着するように、前記ICが前記中央キャビティ内に設置され、前記第2のテープが前記第2のリードフレームから除去された場合に、前記ICの底面が露出する請求項1に記載の半導体デバイスの実装方法。
  8. 錫で前記第1のリードフレームを予めメッキするステップをさらに備える請求項1に記載の半導体デバイスの実装方法。
  9. 前記モールド化合物形成ステップは、前記モールド化合物を前記第1および第2のリードフレーム間に射出するステップからなる請求項1に記載の半導体デバイスの実装方法。
  10. 前記第1および第2のリードフレームが、相互に電気的に絶縁している請求項1に記載の半導体デバイスの実装方法。
  11. 前記第1のリードフレームが、前記ダイ受け領域内に位置するグランド面をさらに有し、1つまたは複数の前記ICボンディグ・パッドが、前記グランド面に電気的に接続している請求項10に記載の半導体デバイスの実装方法。
  12. それぞれがキャビティを画成している周辺部と前記周辺部から内側に延びる複数のリードとを有する複数の第1のリードフレームを有するとともに、第1および第2の側面を有する第1のリードフレーム・パネルを設けるステップと、
    第1のテープを前記第1のリードフレーム・パネルの第1の側面に貼付するステップと、
    それぞれがダイ受け領域を有するダイ・パドルを備えた複数の第2のリードフレームを有するとともに頂面および底面を有する第2のリードフレーム・パネルを設けるステップと、
    第2のテープを前記第2のリードフレーム・パネルの底面に貼付するステップと、
    前記第2のリードフレーム・パネルの前記第2のリードフレームのダイ・パドルのダイ受け領域内に、それぞれが周辺部に沿って複数のボンディグ・パッドを有する頂面と底面とを有した複数の集積回路(IC)を設置して、前記ICの底面が前記第2のテープに取り付ける、集積回路を設置するステップと、
    前記ICのボンディグ・パッドが、前記第1のリードフレームの各リードと接触し、それにより前記ICと前記第1のリードフレームとを電気的に接続するように、前記第1および第2のリードフレーム・パネルを対向して設置するステップと、
    前記モールド化合物が、少なくとも前記第2のリードフレーム・パネルの頂面、前記ICの頂面および前記電気接続を被覆するように、前記第1および第2のリードフレーム・パネル間にモールド化合物を形成するステップと、
    前記第1のリードフレームの第1の側面、および前記第2のリードフレームの底面が露出するように、前記第1のリードフレーム・パネルの第1の側面および前記第2のリードフレーム・パネルの底面から前記第1および第2のテープを除去するステップと、
    前記複数の第1および第2のリードフレームを前記リードフレーム・パネルから個々の実装デバイスに分離する個片状化動作を実行するステップとを備える、複数の半導体デバイスを実装するための方法。
  13. 前記ICの各ボンディグ・パッドと前記第1のリードフレームのリードとの間に複数の導電性ボールを介在させるステップをさらに備え、前記第1のリードフレームのリードが、前記導電性ボールにより前記ICの各ボンディグ・パッドと接触する請求項12に記載の半導体デバイスを実装するための方法。
  14. 前記導電性ボールが、前記第1および第2のリードフレーム・パネルを対向状態で設置する前に、前記リードに取り付けられる請求項13に記載の半導体デバイスを実装するための方法。
  15. 前記第1のリードフレームの前記複数のリードの一部がエッチングされ、前記導電性ボールが、前記リードのエッチングされた部分内に配置される請求項14に記載の複数の半導体デバイスを実装するための方法。
  16. 前記導電性ボールが前記リードに押し付けられ、それにより、前記リードを曲げ、前記導電性ボール上に前記リードと前記導電性ボールの間の接合強度を強化するスプリングバック力を発生させるように、前記第1および第2のリードフレームが相互に押し付けられる請求項15に記載の複数の半導体デバイスを実装するための方法。
  17. 前記第1および第2のリードフレーム・パネル内に位置する対応する案内孔部内に設置される一連のガイド・ピンにより、前記第1および第2のリードフレーム・パネルを整合するステップをさらに含む請求項12に記載の複数の半導体デバイスを実装するための方法。
  18. 前記第1および第2のリードフレーム・パネルが、金属または金属合金からなる請求項12に記載の複数の半導体デバイスを実装するための方法。
  19. 第1および第2のリードフレーム・パネルが銅からなる請求項18に記載の複数の半導体デバイスを実装するための方法。
  20. 第1のリードフレーム・パネルが、錫で予めメッキされる請求項19に記載の複数の半導体デバイスを実装するための方法。
  21. 前記モールド化合物形成ステップは、前記第1および第2のリードフレーム・パネル間に前記モールド化合物を射出するステップからなる請求項12に記載の複数の半導体デバイスを実装するための方法。
  22. 前記第1のリードフレーム・パネルの第1のリードフレームが、それぞれ前記ダイ受け領域内に位置するグランド面を備え、1つまたは複数のICボンディグ・パッドが、前記グランド面に電気的に接続している請求項12に記載の複数の半導体デバイスを実装するための方法。
JP2006549619A 2004-01-07 2005-01-03 フリップチップqfnパッケージおよびそのための方法 Expired - Fee Related JP4633740B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/752,866 US6867072B1 (en) 2004-01-07 2004-01-07 Flipchip QFN package and method therefor
PCT/US2005/001202 WO2005067526A2 (en) 2004-01-07 2005-01-03 Flipchip qfn package and method therefore

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007518282A JP2007518282A (ja) 2007-07-05
JP4633740B2 true JP4633740B2 (ja) 2011-02-16

Family

ID=34274886

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006549619A Expired - Fee Related JP4633740B2 (ja) 2004-01-07 2005-01-03 フリップチップqfnパッケージおよびそのための方法

Country Status (6)

Country Link
US (2) US6867072B1 (ja)
JP (1) JP4633740B2 (ja)
KR (1) KR101120733B1 (ja)
CN (1) CN100378934C (ja)
TW (1) TWI348768B (ja)
WO (1) WO2005067526A2 (ja)

Families Citing this family (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7288833B2 (en) * 2000-09-13 2007-10-30 Carsem (M) Sdn. Bhd. Stress-free lead frame
US7138707B1 (en) * 2003-10-21 2006-11-21 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package including leads and conductive posts for providing increased functionality
KR100593739B1 (ko) * 2004-09-09 2006-06-28 삼성전자주식회사 바디-소스 접속을 갖는 모스 전계효과 트랜지스터 및 그제조방법
US8067823B2 (en) * 2004-11-15 2011-11-29 Stats Chippac, Ltd. Chip scale package having flip chip interconnect on die paddle
US7880313B2 (en) * 2004-11-17 2011-02-01 Chippac, Inc. Semiconductor flip chip package having substantially non-collapsible spacer
US20070130759A1 (en) * 2005-06-15 2007-06-14 Gem Services, Inc. Semiconductor device package leadframe formed from multiple metal layers
KR101146973B1 (ko) * 2005-06-27 2012-05-22 페어차일드코리아반도체 주식회사 패키지 프레임 및 그를 이용한 반도체 패키지
US7250685B2 (en) * 2005-08-09 2007-07-31 Stats Chippac Ltd. Etched leadframe flipchip package system
US8120153B1 (en) 2005-09-16 2012-02-21 University Of Central Florida Research Foundation, Inc. High-temperature, wirebondless, injection-molded, ultra-compact hybrid power module
US8399968B2 (en) * 2005-11-18 2013-03-19 Stats Chippac Ltd. Non-leaded integrated circuit package system
US8288200B2 (en) * 2005-11-30 2012-10-16 Diodes Inc. Semiconductor devices with conductive clips
US7875530B2 (en) * 2005-12-02 2011-01-25 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing semiconductor device
US7638861B2 (en) * 2005-12-08 2009-12-29 Fairchild Semiconductor Corporation Flip chip MLP with conductive ink
US8120149B2 (en) * 2006-01-24 2012-02-21 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit package system
JP2007207921A (ja) * 2006-01-31 2007-08-16 Stanley Electric Co Ltd 表面実装型光半導体デバイスの製造方法
US20070176271A1 (en) * 2006-02-01 2007-08-02 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit package system having die-attach pad with elevated bondline thickness
US8003443B2 (en) * 2006-03-10 2011-08-23 Stats Chippac Ltd. Non-leaded integrated circuit package system with multiple ground sites
TW200741902A (en) * 2006-04-17 2007-11-01 Siliconware Precision Industries Co Ltd Semiconductor package and, chip carrier thereof and method for fabricating the same
US7812437B2 (en) 2006-05-19 2010-10-12 Fairchild Semiconductor Corporation Flip chip MLP with folded heat sink
US20070281397A1 (en) * 2006-05-31 2007-12-06 Wai Yew Lo Method of forming semiconductor packaged device
US8062934B2 (en) * 2006-06-22 2011-11-22 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit package system with ground bonds
US20080157302A1 (en) * 2006-12-27 2008-07-03 Lee Seungju Stacked-package quad flat null lead package
DE112007003268B4 (de) * 2007-01-16 2015-09-17 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Halbleiterpacken und/oder Halbleiterpackung
US20080241991A1 (en) * 2007-03-26 2008-10-02 National Semiconductor Corporation Gang flipping for flip-chip packaging
CN101308832B (zh) * 2007-05-17 2010-06-16 南茂科技股份有限公司 用于无引线封装的引线框、其封装结构及其制造方法
US20090045491A1 (en) * 2007-08-15 2009-02-19 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Semiconductor package structure and leadframe thereof
US7615407B1 (en) * 2008-07-02 2009-11-10 National Semiconductor Corporation Methods and systems for packaging integrated circuits with integrated passive components
TWI383478B (zh) * 2008-09-23 2013-01-21 Radiative semiconductor package and its lead frame and design method
US8252634B2 (en) * 2009-06-19 2012-08-28 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit packaging system with a leadframe having radial-segments and method of manufacture thereof
US8400784B2 (en) * 2009-08-10 2013-03-19 Silergy Technology Flip chip package for monolithic switching regulator
US8796843B1 (en) * 2009-08-12 2014-08-05 Element Six Technologies Us Corporation RF and milimeter-wave high-power semiconductor device
JP2011060927A (ja) * 2009-09-09 2011-03-24 Hitachi Ltd 半導体装置
US8421168B2 (en) * 2009-11-17 2013-04-16 Fairchild Semiconductor Corporation Microelectromechanical systems microphone packaging systems
CN102299083B (zh) 2010-06-23 2015-11-25 飞思卡尔半导体公司 薄半导体封装及其制造方法
CN102332440A (zh) * 2010-07-12 2012-01-25 无锡华润安盛科技有限公司 一种倒装引线框及其封装结构
US8476772B2 (en) 2010-09-09 2013-07-02 Stats Chippac, Ltd. Semiconductor device and method of forming base substrate with recesses for capturing bumped semiconductor die
US8304277B2 (en) 2010-09-09 2012-11-06 Stats Chippac, Ltd. Semiconductor device and method of forming base substrate with cavities formed through etch-resistant conductive layer for bump locking
US20120313234A1 (en) 2011-06-10 2012-12-13 Geng-Shin Shen Qfn package and manufacturing process thereof
US8623711B2 (en) 2011-12-15 2014-01-07 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit packaging system with package-on-package and method of manufacture thereof
US8629567B2 (en) 2011-12-15 2014-01-14 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit packaging system with contacts and method of manufacture thereof
US9219029B2 (en) * 2011-12-15 2015-12-22 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit packaging system with terminals and method of manufacture thereof
US8766102B2 (en) * 2012-10-29 2014-07-01 Kinsus Interconnect Technology Corp. Chip support board structure
US9070657B2 (en) 2013-10-08 2015-06-30 Freescale Semiconductor, Inc. Heat conductive substrate for integrated circuit package
KR102153041B1 (ko) * 2013-12-04 2020-09-07 삼성전자주식회사 반도체소자 패키지 및 그 제조방법
CN103745939B (zh) * 2013-12-05 2017-02-15 通富微电子股份有限公司 封装结构的形成方法
TWI539562B (zh) * 2014-03-31 2016-06-21 Quaternary planar pinless package structure and its manufacturing method
US9082760B2 (en) * 2014-06-16 2015-07-14 Chang Wah Technology Co., Ltd. Dual layered lead frame
JP6679125B2 (ja) * 2016-01-21 2020-04-15 大口マテリアル株式会社 リードフレーム及びこれを用いた半導体装置、並びにそれらの製造方法
JP6623489B2 (ja) * 2016-01-29 2019-12-25 大口マテリアル株式会社 リードフレーム及び半導体装置、並びにそれらの製造方法
JP2017168703A (ja) * 2016-03-17 2017-09-21 東芝メモリ株式会社 半導体装置の製造方法および半導体装置
US11018111B2 (en) 2019-05-27 2021-05-25 Texas Instruments Incorporated Wafer level derived flip chip package
DE112021001878T5 (de) 2020-03-26 2023-01-12 Rohm Co., Ltd. Halbleiterbauteil

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4809135A (en) 1986-08-04 1989-02-28 General Electric Company Chip carrier and method of fabrication
JPS6418246A (en) 1987-07-14 1989-01-23 Shinko Electric Ind Co Lead frame for semiconductor device
US5200362A (en) 1989-09-06 1993-04-06 Motorola, Inc. Method of attaching conductive traces to an encapsulated semiconductor die using a removable transfer film
JP3011510B2 (ja) 1990-12-20 2000-02-21 株式会社東芝 相互連結回路基板を有する半導体装置およびその製造方法
US5262674A (en) 1991-02-04 1993-11-16 Motorola, Inc. Chip carrier for an integrated circuit assembly
US5157480A (en) 1991-02-06 1992-10-20 Motorola, Inc. Semiconductor device having dual electrical contact sites
US5172214A (en) 1991-02-06 1992-12-15 Motorola, Inc. Leadless semiconductor device and method for making the same
US5625235A (en) 1995-06-15 1997-04-29 National Semiconductor Corporation Multichip integrated circuit module with crossed bonding wires
JP4606685B2 (ja) * 1997-11-25 2011-01-05 パナソニック株式会社 回路部品内蔵モジュール
US20010052647A1 (en) * 1998-05-07 2001-12-20 3M Innovative Properties Company Laminated integrated circuit package
US6211462B1 (en) 1998-11-05 2001-04-03 Texas Instruments Incorporated Low inductance power package for integrated circuits
JP3461332B2 (ja) 1999-09-10 2003-10-27 松下電器産業株式会社 リードフレーム及びそれを用いた樹脂パッケージと光電子装置
JP3542311B2 (ja) 2000-01-28 2004-07-14 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
CN1449583A (zh) * 2000-07-25 2003-10-15 Ssi株式会社 塑料封装基底、气腔型封装及其制造方法
US6580165B1 (en) 2000-11-16 2003-06-17 Fairchild Semiconductor Corporation Flip chip with solder pre-plated leadframe including locating holes
US6593545B1 (en) * 2001-08-13 2003-07-15 Amkor Technology, Inc. Laser defined pads for flip chip on leadframe package fabrication method
US6396130B1 (en) 2001-09-14 2002-05-28 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package having multiple dies with independently biased back surfaces
TW523887B (en) * 2001-11-15 2003-03-11 Siliconware Precision Industries Co Ltd Semiconductor packaged device and its manufacturing method
US6677672B2 (en) * 2002-04-26 2004-01-13 Semiconductor Components Industries Llc Structure and method of forming a multiple leadframe semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
WO2005067526A2 (en) 2005-07-28
KR20060123454A (ko) 2006-12-01
CN100378934C (zh) 2008-04-02
CN1914719A (zh) 2007-02-14
KR101120733B1 (ko) 2012-03-23
US7112871B2 (en) 2006-09-26
US6867072B1 (en) 2005-03-15
TW200534492A (en) 2005-10-16
WO2005067526A3 (en) 2005-11-17
TWI348768B (en) 2011-09-11
US20050156291A1 (en) 2005-07-21
JP2007518282A (ja) 2007-07-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4633740B2 (ja) フリップチップqfnパッケージおよびそのための方法
US7205178B2 (en) Land grid array packaged device and method of forming same
US7799611B2 (en) Partially patterned lead frames and methods of making and using the same in semiconductor packaging
US6777265B2 (en) Partially patterned lead frames and methods of making and using the same in semiconductor packaging
US6878570B2 (en) Thin stacked package and manufacturing method thereof
JP5227501B2 (ja) スタックダイパッケージ及びそれを製造する方法
KR101119708B1 (ko) 집적 회로 다이를 패키징하는 방법
US20030203539A1 (en) Partially patterned lead frames and methods of making and using the same in semiconductor packaging
WO2003103038A1 (en) Partially patterned lead frames and methods of making and using the same in semiconductor packaging
US20020182773A1 (en) Method for bonding inner leads of leadframe to substrate
US20020003308A1 (en) Semiconductor chip package and method for fabricating the same
JP3502377B2 (ja) リードフレーム、樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
US7579680B2 (en) Packaging system for semiconductor devices
KR200179419Y1 (ko) 반도체패키지
WO1999056313A1 (fr) Dispositif semi-conducteur et son procede de production
JP2001077273A (ja) リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法
KR20010060879A (ko) 볼 그리드 어레이 패키지와 그 제조 방법
JPH118329A (ja) 半導体パッケージの製造方法
KR20010068515A (ko) 반도체 패키지 및 그 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071017

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20101007

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101019

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101117

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131126

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees