JP4577924B2 - 酸化亜鉛を含有するスパッタリングターゲットの製造方法 - Google Patents
酸化亜鉛を含有するスパッタリングターゲットの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4577924B2 JP4577924B2 JP18359699A JP18359699A JP4577924B2 JP 4577924 B2 JP4577924 B2 JP 4577924B2 JP 18359699 A JP18359699 A JP 18359699A JP 18359699 A JP18359699 A JP 18359699A JP 4577924 B2 JP4577924 B2 JP 4577924B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxide
- color unevenness
- zinc oxide
- preventing agent
- sputtering target
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18359699A JP4577924B2 (ja) | 1999-06-29 | 1999-06-29 | 酸化亜鉛を含有するスパッタリングターゲットの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18359699A JP4577924B2 (ja) | 1999-06-29 | 1999-06-29 | 酸化亜鉛を含有するスパッタリングターゲットの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001011613A JP2001011613A (ja) | 2001-01-16 |
| JP2001011613A5 JP2001011613A5 (enExample) | 2006-07-20 |
| JP4577924B2 true JP4577924B2 (ja) | 2010-11-10 |
Family
ID=16138593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18359699A Expired - Fee Related JP4577924B2 (ja) | 1999-06-29 | 1999-06-29 | 酸化亜鉛を含有するスパッタリングターゲットの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4577924B2 (enExample) |
Families Citing this family (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101260509A (zh) | 2002-08-02 | 2008-09-10 | 出光兴产株式会社 | 溅射靶、烧结体及利用它们制造的导电膜、有机el元件及其所用的衬底 |
| DE10306925A1 (de) * | 2003-02-19 | 2004-09-02 | GfE Gesellschaft für Elektrometallurgie mbH | PVD-Beschichtungsmaterial |
| CN1918672B (zh) * | 2004-03-09 | 2012-10-03 | 出光兴产株式会社 | 薄膜晶体管、薄膜晶体管基板、液晶显示装置、溅射靶、透明导电膜、透明电极及它们的制造方法 |
| JP4428698B2 (ja) | 2004-03-31 | 2010-03-10 | 出光興産株式会社 | 酸化インジウム−酸化セリウム系スパッタリングターゲット及び透明導電膜及び透明導電膜の製造方法 |
| JP4504271B2 (ja) * | 2005-06-30 | 2010-07-14 | 出光興産株式会社 | 酸化インジウム−酸化亜鉛系焼結体ターゲットの製造方法 |
| JP5169313B2 (ja) * | 2007-03-09 | 2013-03-27 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnO蒸着材の製造方法 |
| JP5018553B2 (ja) * | 2007-03-09 | 2012-09-05 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnO蒸着材及びその製造方法並びにそれにより形成されたZnO膜 |
| JP5018552B2 (ja) * | 2007-03-09 | 2012-09-05 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnO蒸着材及びその製造方法並びにそれにより形成されたZnO膜 |
| JP5082927B2 (ja) * | 2007-03-09 | 2012-11-28 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnO蒸着材の製造方法 |
| US8231812B2 (en) | 2007-09-27 | 2012-07-31 | Mitsubishi Materials Corporation | ZnO vapor deposition material, process for producing the same, and ZnO film |
| JP5418750B2 (ja) * | 2007-09-27 | 2014-02-19 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnO蒸着材とその製造方法、およびそのZnO膜形成方法 |
| JP5418747B2 (ja) * | 2007-09-27 | 2014-02-19 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnO蒸着材とその製造方法、およびそのZnO膜形成方法 |
| JP5418749B2 (ja) * | 2007-09-27 | 2014-02-19 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnO蒸着材とその製造方法、およびそのZnO膜形成方法 |
| JP5418748B2 (ja) * | 2007-09-27 | 2014-02-19 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnO蒸着材とその製造方法、およびそのZnO膜形成方法 |
| JP5516838B2 (ja) * | 2007-09-27 | 2014-06-11 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnO蒸着材の製造方法 |
| JP2009102698A (ja) * | 2007-10-24 | 2009-05-14 | Mitsubishi Materials Corp | 透明導電膜形成用スパッタリングターゲットおよびこのターゲットを用いて形成された透明導電膜 |
| JP5299662B2 (ja) * | 2007-10-26 | 2013-09-25 | 三菱マテリアル株式会社 | 透明導電膜およびこの透明導電膜を形成するためのスパッタリングターゲット |
| JP5376116B2 (ja) * | 2007-10-30 | 2013-12-25 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnO蒸着材とその製造方法 |
| JP5376117B2 (ja) * | 2007-10-30 | 2013-12-25 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnOスパッタリングターゲットとその製造方法 |
| JP5292130B2 (ja) * | 2009-02-27 | 2013-09-18 | 太平洋セメント株式会社 | スパッタリングターゲット |
| JP5741325B2 (ja) * | 2011-08-29 | 2015-07-01 | 三菱マテリアル株式会社 | スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート |
| JP5760857B2 (ja) * | 2011-08-29 | 2015-08-12 | 三菱マテリアル株式会社 | スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート |
| JP2013047361A (ja) * | 2011-08-29 | 2013-03-07 | Mitsubishi Materials Corp | スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート |
| JP6343695B2 (ja) * | 2017-03-01 | 2018-06-13 | Jx金属株式会社 | 酸化インジウム−酸化亜鉛系(izo)スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
| CN113292315A (zh) * | 2021-05-12 | 2021-08-24 | 先导薄膜材料(广东)有限公司 | 一种稀土掺杂氧化铟锌粉体及其制备方法、应用 |
| CN116288181B (zh) * | 2022-09-09 | 2024-12-13 | 长沙壹纳光电材料有限公司 | 一种镧系金属掺杂izo靶材及其制备方法与应用 |
| CN115925410B (zh) * | 2023-01-31 | 2023-07-18 | 郑州大学 | 镨掺杂氧化铟锌溅射靶材及其制备方法 |
| CN117088679A (zh) * | 2023-08-09 | 2023-11-21 | 芜湖映日科技股份有限公司 | 一种高密度低迁移率的氧化铟锌稀土掺杂靶材的制备方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08264021A (ja) * | 1995-03-26 | 1996-10-11 | Gunze Ltd | 透明導電膜 |
| JPH1088332A (ja) * | 1996-09-11 | 1998-04-07 | Asahi Glass Co Ltd | スパッタリングターゲットおよび透明導電膜とその製造方法 |
| JPH10106810A (ja) * | 1996-09-30 | 1998-04-24 | Hitachi Ltd | ZnOセラミックス抵抗体及びその製造方法 |
| JPH11232698A (ja) * | 1998-02-17 | 1999-08-27 | Mitsubishi Chemical Corp | 光学的情報記録用媒体及びその製造方法 |
-
1999
- 1999-06-29 JP JP18359699A patent/JP4577924B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001011613A (ja) | 2001-01-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4577924B2 (ja) | 酸化亜鉛を含有するスパッタリングターゲットの製造方法 | |
| JP2001011613A5 (enExample) | ||
| JPH10158827A (ja) | Ito焼結体およびitoスパッタリングターゲット | |
| KR100358974B1 (ko) | 정특성 반도체 자기의 제조방법 | |
| CN105008579A (zh) | ZnO-Al2O3-MgO溅射靶及其制备方法 | |
| JP6677058B2 (ja) | Sn−Zn−O系酸化物焼結体とその製造方法 | |
| JP4196805B2 (ja) | 酸化インジウム系ターゲットおよびその製造方法 | |
| JP6044552B2 (ja) | 酸化スズ質耐火物およびその製造方法 | |
| JP2007008780A (ja) | Izoスパッタリングターゲットの製造方法 | |
| JP5720726B2 (ja) | 酸化亜鉛焼結体およびその製造方法 | |
| JP3632781B2 (ja) | 酸化物焼結体 | |
| JP2977214B2 (ja) | チタン酸バリウム系セラミック原料の混合・粉砕方法 | |
| JPH09111444A (ja) | 酸化インジウム−酸化亜鉛系焼結体ターゲットの製造方法 | |
| TWI748971B (zh) | Sn-Zn-O系氧化物燒結體及其製造方法 | |
| US3316184A (en) | Barium titanate ceramic composition | |
| CN117859768B (zh) | 复合抗病毒剂及其制备方法、保护釉、瓷砖及其制备方法 | |
| JP3617345B2 (ja) | 酸化物系セラミック焼結体の製造方法 | |
| JPH0544428B2 (enExample) | ||
| JP3755159B2 (ja) | 酸化物焼結体 | |
| JP4504271B2 (ja) | 酸化インジウム−酸化亜鉛系焼結体ターゲットの製造方法 | |
| WO2014083909A1 (ja) | 酸化亜鉛系スパッタリングターゲットの製造方法 | |
| JP2623188B2 (ja) | バリスタ及びその製造方法 | |
| JP3180971B2 (ja) | ジルコニアセラミックスおよびその製造方法 | |
| JP2018177551A (ja) | Zn−Sn−O系酸化物焼結体とその製造方法 | |
| JP4665526B2 (ja) | 酸化インジウムを含有するスパッタリングターゲットの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060602 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060606 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081218 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090106 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090226 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100105 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100302 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100817 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100824 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130903 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130903 Year of fee payment: 3 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |