JP2001011613A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2001011613A5 JP2001011613A5 JP1999183596A JP18359699A JP2001011613A5 JP 2001011613 A5 JP2001011613 A5 JP 2001011613A5 JP 1999183596 A JP1999183596 A JP 1999183596A JP 18359699 A JP18359699 A JP 18359699A JP 2001011613 A5 JP2001011613 A5 JP 2001011613A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- powder
- hours
- oxide
- sintered
- mixed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18359699A JP4577924B2 (ja) | 1999-06-29 | 1999-06-29 | 酸化亜鉛を含有するスパッタリングターゲットの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18359699A JP4577924B2 (ja) | 1999-06-29 | 1999-06-29 | 酸化亜鉛を含有するスパッタリングターゲットの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001011613A JP2001011613A (ja) | 2001-01-16 |
| JP2001011613A5 true JP2001011613A5 (enExample) | 2006-07-20 |
| JP4577924B2 JP4577924B2 (ja) | 2010-11-10 |
Family
ID=16138593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18359699A Expired - Fee Related JP4577924B2 (ja) | 1999-06-29 | 1999-06-29 | 酸化亜鉛を含有するスパッタリングターゲットの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4577924B2 (enExample) |
Families Citing this family (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101002492B1 (ko) * | 2002-08-02 | 2010-12-17 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 스퍼터링 타겟, 소결체, 이들을 사용하여 제조한 도전막,유기 el 소자, 및 이것에 사용하는 기판 |
| DE10306925A1 (de) * | 2003-02-19 | 2004-09-02 | GfE Gesellschaft für Elektrometallurgie mbH | PVD-Beschichtungsmaterial |
| KR101101456B1 (ko) | 2004-03-09 | 2012-01-03 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 박막 트랜지스터, 박막 트랜지스터 기판, 이들의 제조방법, 이들을 사용한 액정 표시 장치, 관련된 장치 및방법, 및 스퍼터링 타깃, 이것을 사용하여 성막한 투명도전막, 투명 전극, 및 관련된 장치 및 방법 |
| JP4428698B2 (ja) | 2004-03-31 | 2010-03-10 | 出光興産株式会社 | 酸化インジウム−酸化セリウム系スパッタリングターゲット及び透明導電膜及び透明導電膜の製造方法 |
| JP4504271B2 (ja) * | 2005-06-30 | 2010-07-14 | 出光興産株式会社 | 酸化インジウム−酸化亜鉛系焼結体ターゲットの製造方法 |
| JP5018553B2 (ja) * | 2007-03-09 | 2012-09-05 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnO蒸着材及びその製造方法並びにそれにより形成されたZnO膜 |
| JP5018552B2 (ja) * | 2007-03-09 | 2012-09-05 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnO蒸着材及びその製造方法並びにそれにより形成されたZnO膜 |
| JP5169313B2 (ja) * | 2007-03-09 | 2013-03-27 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnO蒸着材の製造方法 |
| JP5082927B2 (ja) * | 2007-03-09 | 2012-11-28 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnO蒸着材の製造方法 |
| JP5516838B2 (ja) * | 2007-09-27 | 2014-06-11 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnO蒸着材の製造方法 |
| JP5418747B2 (ja) * | 2007-09-27 | 2014-02-19 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnO蒸着材とその製造方法、およびそのZnO膜形成方法 |
| JP5418750B2 (ja) * | 2007-09-27 | 2014-02-19 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnO蒸着材とその製造方法、およびそのZnO膜形成方法 |
| JP5418748B2 (ja) * | 2007-09-27 | 2014-02-19 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnO蒸着材とその製造方法、およびそのZnO膜形成方法 |
| JP5418749B2 (ja) * | 2007-09-27 | 2014-02-19 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnO蒸着材とその製造方法、およびそのZnO膜形成方法 |
| EP2508497B1 (en) | 2007-09-27 | 2015-11-04 | Mitsubishi Materials Corporation | ZnO vapor deposition material and process for producing the same |
| JP2009102698A (ja) * | 2007-10-24 | 2009-05-14 | Mitsubishi Materials Corp | 透明導電膜形成用スパッタリングターゲットおよびこのターゲットを用いて形成された透明導電膜 |
| JP5299662B2 (ja) * | 2007-10-26 | 2013-09-25 | 三菱マテリアル株式会社 | 透明導電膜およびこの透明導電膜を形成するためのスパッタリングターゲット |
| JP5376117B2 (ja) * | 2007-10-30 | 2013-12-25 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnOスパッタリングターゲットとその製造方法 |
| JP5376116B2 (ja) * | 2007-10-30 | 2013-12-25 | 三菱マテリアル株式会社 | ZnO蒸着材とその製造方法 |
| JP5292130B2 (ja) * | 2009-02-27 | 2013-09-18 | 太平洋セメント株式会社 | スパッタリングターゲット |
| JP5741325B2 (ja) * | 2011-08-29 | 2015-07-01 | 三菱マテリアル株式会社 | スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート |
| JP2013047361A (ja) * | 2011-08-29 | 2013-03-07 | Mitsubishi Materials Corp | スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート |
| JP5760857B2 (ja) * | 2011-08-29 | 2015-08-12 | 三菱マテリアル株式会社 | スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート |
| JP6343695B2 (ja) * | 2017-03-01 | 2018-06-13 | Jx金属株式会社 | 酸化インジウム−酸化亜鉛系(izo)スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
| CN113292315A (zh) * | 2021-05-12 | 2021-08-24 | 先导薄膜材料(广东)有限公司 | 一种稀土掺杂氧化铟锌粉体及其制备方法、应用 |
| CN116288181B (zh) * | 2022-09-09 | 2024-12-13 | 长沙壹纳光电材料有限公司 | 一种镧系金属掺杂izo靶材及其制备方法与应用 |
| CN115925410B (zh) * | 2023-01-31 | 2023-07-18 | 郑州大学 | 镨掺杂氧化铟锌溅射靶材及其制备方法 |
| CN117088679A (zh) * | 2023-08-09 | 2023-11-21 | 芜湖映日科技股份有限公司 | 一种高密度低迁移率的氧化铟锌稀土掺杂靶材的制备方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08264021A (ja) * | 1995-03-26 | 1996-10-11 | Gunze Ltd | 透明導電膜 |
| JPH1088332A (ja) * | 1996-09-11 | 1998-04-07 | Asahi Glass Co Ltd | スパッタリングターゲットおよび透明導電膜とその製造方法 |
| JPH10106810A (ja) * | 1996-09-30 | 1998-04-24 | Hitachi Ltd | ZnOセラミックス抵抗体及びその製造方法 |
| JPH11232698A (ja) * | 1998-02-17 | 1999-08-27 | Mitsubishi Chemical Corp | 光学的情報記録用媒体及びその製造方法 |
-
1999
- 1999-06-29 JP JP18359699A patent/JP4577924B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2001011613A5 (enExample) | ||
| JP4577924B2 (ja) | 酸化亜鉛を含有するスパッタリングターゲットの製造方法 | |
| CN101648807A (zh) | 锆钛酸钡钙基压电陶瓷及其制备方法 | |
| US5565392A (en) | High strength porcelain and method therefor | |
| JPS61191562A (ja) | アルミナ系耐摩耗性材料 | |
| JP2933616B2 (ja) | アルミナ基焼結体及びその製造方法 | |
| US7294598B2 (en) | Dielectric oxide materials | |
| CN1331803C (zh) | (Ba1-x-ySrxYy)TiO3基电介质陶瓷材料及其制备方法 | |
| JP2679449B2 (ja) | 正の抵抗温度係数を有する半導体磁器及びその製造方法 | |
| JPH03126664A (ja) | ペロブスカイト型酸化物磁器およびその製造方法 | |
| JP2506368B2 (ja) | アルミナ系セラミックスの製造方法 | |
| JPH0234516A (ja) | Tl−Ba−Ca−Cu−O系超電導セラミックスの製造法 | |
| JP3447971B2 (ja) | 誘電体磁器組成物 | |
| JP3243873B2 (ja) | 誘電体磁器組成物 | |
| JPS6392069A (ja) | 圧電セラミツク薄板焼結体の製造方法 | |
| JPS5788030A (en) | Manufacture of barium titanate | |
| JPH0238368A (ja) | 窒化アルミニウム焼結体の製造方法 | |
| JPH0784349B2 (ja) | ネオジウムを含む誘電体セラミックスの製造方法 | |
| JPS6141859B2 (enExample) | ||
| JPH0238540B2 (enExample) | ||
| JPH04275967A (ja) | 押出成形用坏土の調製方法 | |
| JPH0579624B2 (enExample) | ||
| JPH01131048A (ja) | 超伝導磁器組成物 | |
| JPS61186265A (ja) | 窒化けい素焼結体およびその製造方法 | |
| JPH04305903A (ja) | 非磁性基板の製造方法 |