JP2506368B2 - アルミナ系セラミックスの製造方法 - Google Patents
アルミナ系セラミックスの製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、例えばスパークプラグ用碍子材、集積回路
用基板等に好適な高熱伝導、高耐電圧のアルミナ（Al2O
3）系セラミックスの製造方法に関するものである。
用基板等に好適な高熱伝導、高耐電圧のアルミナ（Al2O
3）系セラミックスの製造方法に関するものである。
［従来の技術］ 従来はアルミナ焼結体を製造する場合、まず、アルミ
ナ原料に焼結助剤としてマグネシア（MgO）シリカ（SiO
2），カルシア（CaO）やカオリン，タルク等を１種もし
くは２種以上混合する。その混合粉末に分散媒として
水、水と分散剤、もしくはエタノール等の有機溶媒を加
え、ボールミルで数時間以上混合する。そして、その
後、乾燥、成形、焼成を順次行う。
ナ原料に焼結助剤としてマグネシア（MgO）シリカ（SiO
2），カルシア（CaO）やカオリン，タルク等を１種もし
くは２種以上混合する。その混合粉末に分散媒として
水、水と分散剤、もしくはエタノール等の有機溶媒を加
え、ボールミルで数時間以上混合する。そして、その
後、乾燥、成形、焼成を順次行う。
従来のアルミナ焼結体の製造方法は上述したようなも
のであるが、この方法で製造された焼結体の組織は、ア
ルミナのコランダム結晶粒とガラスの粒界層であるた
め、熱伝導率が低く、耐電圧も低いという問題がある。
また、出発原料の粒径分布が広く、平均粒径が大きいた
め、混合が不均一となり、焼結体の結晶粒の粒径分布が
広く、巨大粒子も含み、これも低熱伝導、低耐電圧の原
因となっている。
のであるが、この方法で製造された焼結体の組織は、ア
ルミナのコランダム結晶粒とガラスの粒界層であるた
め、熱伝導率が低く、耐電圧も低いという問題がある。
また、出発原料の粒径分布が広く、平均粒径が大きいた
め、混合が不均一となり、焼結体の結晶粒の粒径分布が
広く、巨大粒子も含み、これも低熱伝導、低耐電圧の原
因となっている。
［発明が解決しようとする問題点］ この発明は上記の実情に鑑みてなされたもので、出発
原料を微粒かつ均一に混合分散させることができるとと
もに焼結体組織において、結晶粒径を小さく均一に分布
させることができ、かつ粒界から従来のガラス質成分を
無くすことができ、これにより熱伝導率及び耐電圧の低
下を防ぐことができるアルミナ系セラミックスの製造方
法を提供することを目的とするものである。
原料を微粒かつ均一に混合分散させることができるとと
もに焼結体組織において、結晶粒径を小さく均一に分布
させることができ、かつ粒界から従来のガラス質成分を
無くすことができ、これにより熱伝導率及び耐電圧の低
下を防ぐことができるアルミナ系セラミックスの製造方
法を提供することを目的とするものである。
［問題点を解決するための手段］ 上記目的を達成するために第１の発明は、アルミナ系
セラミックスを製造するに際し、先ず、第１の工程とし
て、アルミナ・希土類酸化物（Y2O3,La2O3,CeO2等）を
構成する希土類元素とアルミニウムの混合溶液を作成す
る。その為に、アルミニウム溶液としては、塩化アルミ
ニウム（AlCl3）のようなアルミニウムを含む化合物及
び金属アルミニウムの水溶液もしくはアルコール溶液を
用い、希土類元素も同様なものを用いる。以上２種類を
混合した混合溶液と沈殿形成液とを混合して共沈体を形
成し、乾燥後、400〜1200℃で仮焼する。
セラミックスを製造するに際し、先ず、第１の工程とし
て、アルミナ・希土類酸化物（Y2O3,La2O3,CeO2等）を
構成する希土類元素とアルミニウムの混合溶液を作成す
る。その為に、アルミニウム溶液としては、塩化アルミ
ニウム（AlCl3）のようなアルミニウムを含む化合物及
び金属アルミニウムの水溶液もしくはアルコール溶液を
用い、希土類元素も同様なものを用いる。以上２種類を
混合した混合溶液と沈殿形成液とを混合して共沈体を形
成し、乾燥後、400〜1200℃で仮焼する。
次に第２の工程として、この第１の工程で得られた仮
焼物を原料とし、目的とするアルミナ・希土類酸化物の
組成比になるよう、残りのアルミナ及び必要ならば助剤
粉末を乾式法で混合する。
焼物を原料とし、目的とするアルミナ・希土類酸化物の
組成比になるよう、残りのアルミナ及び必要ならば助剤
粉末を乾式法で混合する。
そして、この第２の工程で得られた粉末を成形し、焼
成する。
成する。
以上の手順により、アルミナに希土類元素を添加した
アルミナ系セラミックスが得られる。
アルミナ系セラミックスが得られる。
また、第２の発明は、アルミナ系セラミックスを製造
するに際し、まず、第１の工程としてアルミニウムとア
ルミナ・希土類酸化物（Y2O3,La2O3,CeO2等）を構成す
る希土類元素との水溶液あるいはアルコール溶液による
混合液を作成し、この混合液を加熱することによって加
水分解を行ない、ゾルを生成する。そして、このゾルを
乾燥した後、400〜1200℃で仮焼する。
するに際し、まず、第１の工程としてアルミニウムとア
ルミナ・希土類酸化物（Y2O3,La2O3,CeO2等）を構成す
る希土類元素との水溶液あるいはアルコール溶液による
混合液を作成し、この混合液を加熱することによって加
水分解を行ない、ゾルを生成する。そして、このゾルを
乾燥した後、400〜1200℃で仮焼する。
次に、第２の工程として、この第１の工程で得られた
仮焼物を原料とし、目的とするアルミナ・希土類酸化物
の組成比になるよう、残りのアルミナ及び必要ならば助
剤粉末を乾式法で混合する。
仮焼物を原料とし、目的とするアルミナ・希土類酸化物
の組成比になるよう、残りのアルミナ及び必要ならば助
剤粉末を乾式法で混合する。
そして、この第２の工程で得られた粉末を成形し、焼
結する。
結する。
以上の手順により、アルミナに希土類元素を添加した
アルミナ系セラミックスが得られる。
アルミナ系セラミックスが得られる。
［作用］ 上記第1,第２の発明によれば、アルミナ、希土類酸化
物が均一に分散され、凝集が極めて少なくかつ微粒（サ
ブミクロン級）な粉末が得られる。そのため、焼結体組
織では、希土類元素とアルミナが反応して希土類元素と
アルミナのガーネット構造等の複合酸化物が形成され、
コランダム粒子の中に均一に分散されている。また、結
晶粒は小さく均一に分布し、気孔が大変少なく、緻密に
なっている。
物が均一に分散され、凝集が極めて少なくかつ微粒（サ
ブミクロン級）な粉末が得られる。そのため、焼結体組
織では、希土類元素とアルミナが反応して希土類元素と
アルミナのガーネット構造等の複合酸化物が形成され、
コランダム粒子の中に均一に分散されている。また、結
晶粒は小さく均一に分布し、気孔が大変少なく、緻密に
なっている。
このように、結晶粒の粒径が均一で高融点の粒界にア
ルミナ複合酸化物が均一に分散していることにより、粒
界での絶縁破壊を抑制し、熱伝導率を大幅に向上するこ
とができる。
ルミナ複合酸化物が均一に分散していることにより、粒
界での絶縁破壊を抑制し、熱伝導率を大幅に向上するこ
とができる。
［発明の実施例］ 以下、第1,第２の発明の実施例について説明する。
まず、第１の発明の製造方法の基本的な工程について
説明すると、イットリウム溶液（水溶液またはアルコー
ル溶液）を作成するための化合物としては、塩化イット
リウム、硝酸イットリウム、および金属イットリウム等
があげられる。
説明すると、イットリウム溶液（水溶液またはアルコー
ル溶液）を作成するための化合物としては、塩化イット
リウム、硝酸イットリウム、および金属イットリウム等
があげられる。
上記のようなイットリウム溶液を含む混合液は、沈殿
形成液と混合される。これにより、共沈体は乾燥後、40
0〜1200℃で仮焼される。
形成液と混合される。これにより、共沈体は乾燥後、40
0〜1200℃で仮焼される。
このようにして得られた仮焼物に、アルミナ粉末を添
加し、所定の組成状態とするものであるが、このアルミ
ナ粉末は望ましくはサブミクロン級のものを使用する。
そして、この混合粉末は成形し1000〜1700℃の温度範囲
で焼結する。この焼結温度が1000℃より低いと焼結が不
十分であり、1700℃を超えると粒子が粗大化する。
加し、所定の組成状態とするものであるが、このアルミ
ナ粉末は望ましくはサブミクロン級のものを使用する。
そして、この混合粉末は成形し1000〜1700℃の温度範囲
で焼結する。この焼結温度が1000℃より低いと焼結が不
十分であり、1700℃を超えると粒子が粗大化する。
次に、第２の発明の製造方法の基本的な工程について
説明すると、この第２の発明の製造方法は、イットリウ
ム溶液を含む混合液を加水分解することにより、共沈体
の代りにゾルを形成する点で先の第１の発明の製造方法
と異なり、それ以外の点は同じである。
説明すると、この第２の発明の製造方法は、イットリウ
ム溶液を含む混合液を加水分解することにより、共沈体
の代りにゾルを形成する点で先の第１の発明の製造方法
と異なり、それ以外の点は同じである。
なお、この場合、上記仮焼温度が400℃より低いと凝
集が顕著となり、水酸化物やその他の不純物が残存する
ようになり、また、1200℃を越えると粒子が粗大化する
傾向にある。
集が顕著となり、水酸化物やその他の不純物が残存する
ようになり、また、1200℃を越えると粒子が粗大化する
傾向にある。
［実施例１］ まず、第１図，第２図を参照して第１の発明の一実施
例を詳細に説明する。
例を詳細に説明する。
第１図は第１の発明の一実施例の製造工程を示す図で
ある。なお、以下の説明では、アルミナ・イットリア系
の組成を例に説明する。
ある。なお、以下の説明では、アルミナ・イットリア系
の組成を例に説明する。
まずアルミニウム・イットリウム混合溶液（Al2O3・5
0mol％Y2O3）をつくるために、アルミナ原料として例え
ば塩化アルミニウム（AlCl3）水溶液（1.2mol/l）200ml
を作り、第２成分として例えば塩化イットリウム（YC
l3）（0.8mol/l）300mlを作り、これらを混合した（第
１図のステップS1参照）。そこに沈殿形成液として濃度
25％のアンモニア水（NH3水）を用意した。そして、こ
のアンモニア水と上記混合溶液を各々ビュレットに入
れ、3lの水の中へ各各滴下していき、Al3+とY3+の水酸
化共沈体を得た（第１図のステップS2参照）。その時、
pHが６〜11になるよう、好ましくは７〜９になるよう
に、滴下速度を制御しなければならない。このような方
法で沈殿物を作成し、沈殿が終了したら、この水溶液を
溶液と沈殿物に分離するために、デカンテーションを行
なう。まず、この水溶液をろ紙を敷いたビフネルロート
に注ぎ込み、アスピレータを用いてろ過する。これが終
了したら、この沈殿物を取り出し、これに水を加えて充
分攪拌し、水洗し、そして、また、デカンテーションを
行なう。これを繰り返し、洗浄する（第１図ステップS3
参照）。その後、これを乾燥させ（第１図のステップS
4）、800℃で４時間仮焼して（Al0.5Y0.5）酸化物粉末
を作成した（第１図のステップS5参照）。この粉末の平
均粒径は0.1μｍであった。
0mol％Y2O3）をつくるために、アルミナ原料として例え
ば塩化アルミニウム（AlCl3）水溶液（1.2mol/l）200ml
を作り、第２成分として例えば塩化イットリウム（YC
l3）（0.8mol/l）300mlを作り、これらを混合した（第
１図のステップS1参照）。そこに沈殿形成液として濃度
25％のアンモニア水（NH3水）を用意した。そして、こ
のアンモニア水と上記混合溶液を各々ビュレットに入
れ、3lの水の中へ各各滴下していき、Al3+とY3+の水酸
化共沈体を得た（第１図のステップS2参照）。その時、
pHが６〜11になるよう、好ましくは７〜９になるよう
に、滴下速度を制御しなければならない。このような方
法で沈殿物を作成し、沈殿が終了したら、この水溶液を
溶液と沈殿物に分離するために、デカンテーションを行
なう。まず、この水溶液をろ紙を敷いたビフネルロート
に注ぎ込み、アスピレータを用いてろ過する。これが終
了したら、この沈殿物を取り出し、これに水を加えて充
分攪拌し、水洗し、そして、また、デカンテーションを
行なう。これを繰り返し、洗浄する（第１図ステップS3
参照）。その後、これを乾燥させ（第１図のステップS
4）、800℃で４時間仮焼して（Al0.5Y0.5）酸化物粉末
を作成した（第１図のステップS5参照）。この粉末の平
均粒径は0.1μｍであった。
該粉末10gとアルミナ粉末（平均粒径0.25μｍ）38gを
混ぜ、Al2O3・5mol％Y2O3の組成比になるように、ボー
ルミルで一昼夜（24時間）混合する。このとき、助剤と
してMgO粉末も0.1mol％添加した。但し、この助剤は必
ずしも添加する必要はない。そして、この混合粉末に結
合剤としてPVA（ポリビニルアルコール）水溶液を加え
て造粒し、60メッシュのふるいを通して粒径を50μｍ程
度の造粒二次粒子を作成した。そして、この造粒二次粒
子を、プレス機により成形圧800kg/cm2〜1000kg/cm2で
φ30-t3のペレットに成形した。この成形体を1400℃〜1
700℃大気雰囲気で２時間焼成し、Al2O3-Y2O3焼結体を
得た（第１図ステップS6参照）。
混ぜ、Al2O3・5mol％Y2O3の組成比になるように、ボー
ルミルで一昼夜（24時間）混合する。このとき、助剤と
してMgO粉末も0.1mol％添加した。但し、この助剤は必
ずしも添加する必要はない。そして、この混合粉末に結
合剤としてPVA（ポリビニルアルコール）水溶液を加え
て造粒し、60メッシュのふるいを通して粒径を50μｍ程
度の造粒二次粒子を作成した。そして、この造粒二次粒
子を、プレス機により成形圧800kg/cm2〜1000kg/cm2で
φ30-t3のペレットに成形した。この成形体を1400℃〜1
700℃大気雰囲気で２時間焼成し、Al2O3-Y2O3焼結体を
得た（第１図ステップS6参照）。
得られたAl2O3-Y2O3焼結体の密度を水銀アルキメデス
法で測定すると、3.99であった。
法で測定すると、3.99であった。
表１はこの実施例の方法によって製造されたセラミッ
クスと従来の方法によって製造されたセラミックスとの
特性を比較して示すものである。
クスと従来の方法によって製造されたセラミックスとの
特性を比較して示すものである。
ここで、熱伝導率は、φ10mm-t2mmのテストピースを
使ってレーザフラッシュ法により評価した。また、耐電
圧は、φ20mm-t1mmのテストピースを使って第２図に示
すような装置で評価した。図において、１はテストピー
ス、２は電極、３はシリコーンオイル、４はプローブ、
５は定電圧電源、６は発振器、７はコイル、８は高電圧
プローブ、９はオシロスコープである。
使ってレーザフラッシュ法により評価した。また、耐電
圧は、φ20mm-t1mmのテストピースを使って第２図に示
すような装置で評価した。図において、１はテストピー
ス、２は電極、３はシリコーンオイル、４はプローブ、
５は定電圧電源、６は発振器、７はコイル、８は高電圧
プローブ、９はオシロスコープである。
実施例のテストピースD,E,Fの組成比は、次表２のよ
うになっている。
うになっている。
ここで、テストピースＤは、上記の説明で使ったもの
である。テストピースＥは、アルミナ・イットリア系で
あることはテストピースＤと同じであるが、組成比が異
なる。テストピースＦは、組成比はテストピースＤと同
じであるが、組成がアルミナ・酸化ランタン系となって
いる。
である。テストピースＥは、アルミナ・イットリア系で
あることはテストピースＤと同じであるが、組成比が異
なる。テストピースＦは、組成比はテストピースＤと同
じであるが、組成がアルミナ・酸化ランタン系となって
いる。
従来例のテストピースＡは、次のようにして作られた
ものである。まず、市販のアルミナ粉末95mol％に二酸
化ケイ素粉末2mol％、酸化カルシウム粉末2mol％、酸化
マグネシウム粉末1mol％を加える。これをポリエチレン
ポットに入れ、このポットにはさらにアルミナボール、
水を適量入れ、一昼夜混合する。そして、その混合スラ
リーを乾燥、粉砕し、そこへ結合剤としてPVA（ポリビ
ニルアルコール）を加え、造粒粉末を得る。この粉末を
圧力800kg/cm2〜1200kg/cm2で成形し、大気圧雰囲気に
おいて、1600℃で焼成する。
ものである。まず、市販のアルミナ粉末95mol％に二酸
化ケイ素粉末2mol％、酸化カルシウム粉末2mol％、酸化
マグネシウム粉末1mol％を加える。これをポリエチレン
ポットに入れ、このポットにはさらにアルミナボール、
水を適量入れ、一昼夜混合する。そして、その混合スラ
リーを乾燥、粉砕し、そこへ結合剤としてPVA（ポリビ
ニルアルコール）を加え、造粒粉末を得る。この粉末を
圧力800kg/cm2〜1200kg/cm2で成形し、大気圧雰囲気に
おいて、1600℃で焼成する。
従来例のテストピースＢは、市販のアルミナ粉末95mo
l％とイットリア粉末4.9mol％に助剤としてマグネシア
粉末0.1mol％を加え、これを従来例Ａと同様に混合、乾
燥、粉砕、造粒、成形、焼成して得たものである。
l％とイットリア粉末4.9mol％に助剤としてマグネシア
粉末0.1mol％を加え、これを従来例Ａと同様に混合、乾
燥、粉砕、造粒、成形、焼成して得たものである。
従来例のテストピースＣは、アルミナ95mol％、酸化
ランタン（La2O3）4.9mol％、マグネシア0.1mol％を加
え、従来例Ｂと同様に作成したものである。
ランタン（La2O3）4.9mol％、マグネシア0.1mol％を加
え、従来例Ｂと同様に作成したものである。
表１から明らかなようにこの実施例によれば、同じ組
成比ならば、従来例に比べ最適焼成温度を約50℃低くす
ることができる。また、熱伝導率、耐電圧共に、大幅に
向上させることができる。これは、焼結体において、気
孔が減少し、緻密化が計られ、異常粒成長も無く、結晶
粒径がそろっていることによるものと考えられる。
成比ならば、従来例に比べ最適焼成温度を約50℃低くす
ることができる。また、熱伝導率、耐電圧共に、大幅に
向上させることができる。これは、焼結体において、気
孔が減少し、緻密化が計られ、異常粒成長も無く、結晶
粒径がそろっていることによるものと考えられる。
従来例のテストピースＡは、従来よく用いられたガラ
スフラックスを添加しているため、粒界に低融点ガラス
相が形成され、低熱伝導、低耐電圧になる。従来例のテ
ストピースB,Cは、Y2O3,La2O3等の希土類酸化物粉体の
粒径が大きいため、または、アルミナ粉末との分散が不
均一なため、異常粒成長を起こしたり、気孔率が大きい
ため、性能が向上しなかった。
スフラックスを添加しているため、粒界に低融点ガラス
相が形成され、低熱伝導、低耐電圧になる。従来例のテ
ストピースB,Cは、Y2O3,La2O3等の希土類酸化物粉体の
粒径が大きいため、または、アルミナ粉末との分散が不
均一なため、異常粒成長を起こしたり、気孔率が大きい
ため、性能が向上しなかった。
この実施例のテストピースD,E,Fでは、Y2O3,La2O3等
が微粒で得られるだけでなく、アルミナと均一に混合で
きたことにより性能を向上できたと考えられる。また、
焼結体の粒界層には、従来の低融点ガラス層でなく、高
融点のアルミナ複合酸化物が形成されていることが粒界
での絶縁破壊を防いでいると思われる。
が微粒で得られるだけでなく、アルミナと均一に混合で
きたことにより性能を向上できたと考えられる。また、
焼結体の粒界層には、従来の低融点ガラス層でなく、高
融点のアルミナ複合酸化物が形成されていることが粒界
での絶縁破壊を防いでいると思われる。
なお、アルミニウム溶液としては、塩化アルミニウム
以外に、硝酸アルミニウム、その他アルミニウムを含む
化合物または金属アルミニウムを溶かしたものも良いこ
とは勿論である。
以外に、硝酸アルミニウム、その他アルミニウムを含む
化合物または金属アルミニウムを溶かしたものも良いこ
とは勿論である。
また、イットリウム溶液としても、塩化イットリウム
以外に硝酸イットリウムその他イットリウムを含む化合
物または金属イットリウムを溶かしたものでも良いこと
は勿論である。
以外に硝酸イットリウムその他イットリウムを含む化合
物または金属イットリウムを溶かしたものでも良いこと
は勿論である。
さらに、沈殿形成液もアンモニア水以外に炭酸アンモ
ニウム、苛性アルカリ、しゅう酸、しゅう酸アンモニウ
ム、ヘキサメチレンテトラミン、等でも良いことは勿論
である。
ニウム、苛性アルカリ、しゅう酸、しゅう酸アンモニウ
ム、ヘキサメチレンテトラミン、等でも良いことは勿論
である。
［実施例２］ 次に、第３図を参照しながら、第２の発明の一実施例
を詳細に説明する。
を詳細に説明する。
第３図は、第２の発明の一実施例の製造工程を示す図
である。なお、以下の説明では、アルミナ・イットリア
系の組成を例に説明する。
である。なお、以下の説明では、アルミナ・イットリア
系の組成を例に説明する。
まず、アルミニウム・イットリウム混合溶液（Al2O3
・50mol％Y2O3）をつくるために、アルミナ原料として
例えば塩化アルミニウム（AlCl3）水溶液（1.2mol/l）2
00mlを作り、第２成分として例えば、塩化イットリウム
（YCl3）（0.8mol/l）300mlを作り、これらを混合した
（第３図のステップS1参照）。この混合水溶液は100℃
で100時間保持する。そして、上記混合水溶液の加水分
解を行ない、Y3+およびAl3+を含むゾルが得られるよう
にする（第３図のステップS2参照）。このようにして得
られたゾルは、洗浄した後、さらに乾燥し、この乾燥後
に800℃で仮焼して、（Al0.5Y0.5）の酸化物粉末を作成
した（第３図のステップS3・４・５参照）。この粉末の
平均粒径は0.1μｍであった。
・50mol％Y2O3）をつくるために、アルミナ原料として
例えば塩化アルミニウム（AlCl3）水溶液（1.2mol/l）2
00mlを作り、第２成分として例えば、塩化イットリウム
（YCl3）（0.8mol/l）300mlを作り、これらを混合した
（第３図のステップS1参照）。この混合水溶液は100℃
で100時間保持する。そして、上記混合水溶液の加水分
解を行ない、Y3+およびAl3+を含むゾルが得られるよう
にする（第３図のステップS2参照）。このようにして得
られたゾルは、洗浄した後、さらに乾燥し、この乾燥後
に800℃で仮焼して、（Al0.5Y0.5）の酸化物粉末を作成
した（第３図のステップS3・４・５参照）。この粉末の
平均粒径は0.1μｍであった。
該粉末10gとアルミナ粉末（平均粒径0.25μｍ）38gを
混ぜ、Al2O3・5mol％Y2O3の組成比になるように、ボー
ルミルで一昼夜混合する。このとき、助剤としてMgO粉
末も0.1mol％添加した。但し、この助剤は必ずしも添加
する必要はない。
混ぜ、Al2O3・5mol％Y2O3の組成比になるように、ボー
ルミルで一昼夜混合する。このとき、助剤としてMgO粉
末も0.1mol％添加した。但し、この助剤は必ずしも添加
する必要はない。
この混合粉末に混合剤としてPVA（ポリビニルアルコ
ール）水溶液を加えて造粒し、60メッシュのふるいを通
して粒径を50μｍ程度の造粒二次粒子を作成した。そし
て、この造粒二次粒子をプレス機により成形圧800kg/cm
2〜1000kg/cm2でφ30-t3のペレットに成形した。この成
形体を1400℃〜1700℃大気雰囲気で２時間焼成し、Al2O
3-Y2O3焼結体を得た（第３図ステップS6参照）。
ール）水溶液を加えて造粒し、60メッシュのふるいを通
して粒径を50μｍ程度の造粒二次粒子を作成した。そし
て、この造粒二次粒子をプレス機により成形圧800kg/cm
2〜1000kg/cm2でφ30-t3のペレットに成形した。この成
形体を1400℃〜1700℃大気雰囲気で２時間焼成し、Al2O
3-Y2O3焼結体を得た（第３図ステップS6参照）。
得られたAl2O3-Y2O3焼結体の密度を水銀アルキメデス
法で測定すると、3.99であった。
法で測定すると、3.99であった。
なお、アルミニウム溶液としては、塩化アルミニウム
以外に、硝酸アルミニウム、その他アルミニウムを含む
化合物またはアルミニウムアルコキシドでもよく、イッ
トリウム溶液についても同様である。
以外に、硝酸アルミニウム、その他アルミニウムを含む
化合物またはアルミニウムアルコキシドでもよく、イッ
トリウム溶液についても同様である。
以上詳述した実施例２においても、上述したようなテ
ストピースD,E,Fを作って、焼成温度、熱伝導率、耐電
圧を評価したところ、先の実施例１と同じ結果が得られ
た。
ストピースD,E,Fを作って、焼成温度、熱伝導率、耐電
圧を評価したところ、先の実施例１と同じ結果が得られ
た。
［発明の効果］ 以上述べたようにこの発明に係るアルミナ系セラミッ
クスの製造方法によれば、アルミナ系セラミックスの熱
伝導率と耐電圧の向上を図ることができる。
クスの製造方法によれば、アルミナ系セラミックスの熱
伝導率と耐電圧の向上を図ることができる。
第１図は第１の発明に係るアルミナ系セラミックスの製
造方法の一実施例の工程を示す図、第２図は耐電圧の測
定構成を示す回路図、第３図は第２の発明に係るアルミ
ナ系セラミックスの製造方法の一実施例の工程を示す図
である。
造方法の一実施例の工程を示す図、第２図は耐電圧の測
定構成を示す回路図、第３図は第２の発明に係るアルミ
ナ系セラミックスの製造方法の一実施例の工程を示す図
である。
フロントページの続き (72)発明者 ▲吉▼田 一郎 刈谷市昭和町１丁目１番地 日本電装株 式会社内 (72)発明者 白崎 信一 茨城県新治郡桜村竹園３の610の201
Claims (2)
- 【請求項１】希土類とアルミニウムとの混合溶液を作
り、これと沈殿形成液とを混合して共沈体を形成し、乾
燥後、400℃〜1200℃で仮焼する第１の工程、 この第１の工程で得られた仮焼物に目的とする組成比に
なるようアルミナ粉末を混合する第２の工程、 この第２の工程で得られた粉末を成形して1000℃〜1700
℃で焼成する第３の工程、 とからなることを特徴とするアルミナ系セラミックスの
製造方法。 - 【請求項２】希土類とアルミニウムとの混合溶液を作
り、これを加熱して加水分解することによってゾルを生
成し、このゾルを乾燥後、400℃〜1200℃で仮焼する第
１の工程、 この第１の工程で得られた仮焼物に目的とする組成比に
なるようアルミナ粉末を混合する第２の工程、 この第２の工程で得られた粉末を成形して1000℃〜1700
℃で焼成する第３の工程、 とからなることを特徴とするアルミナ系セラミックスの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62132204A JP2506368B2 (ja) | 1987-05-28 | 1987-05-28 | アルミナ系セラミックスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62132204A JP2506368B2 (ja) | 1987-05-28 | 1987-05-28 | アルミナ系セラミックスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63297263A JPS63297263A (ja) | 1988-12-05 |
| JP2506368B2 true JP2506368B2 (ja) | 1996-06-12 |
Family
ID=15075825
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62132204A Expired - Lifetime JP2506368B2 (ja) | 1987-05-28 | 1987-05-28 | アルミナ系セラミックスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2506368B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4605829B2 (ja) * | 1998-05-25 | 2011-01-05 | 京セラ株式会社 | 高強度、高硬度アルミナセラミックス及びその製造方法 |
-
1987
- 1987-05-28 JP JP62132204A patent/JP2506368B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63297263A (ja) | 1988-12-05 |
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