JP4563986B2 - 実質的に透過性のプロセス層にマークを備える基板、デバイス製造方法 - Google Patents
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Description
− 放射線の整列ビームの放射線を反射するための比較的高反射率の領域、および
− この整列ビームの放射線を少ししか反射しないための比較的低反射率の領域を含む基板に関する。
− 放射線の投影ビームを供給するための放射線システム;
− 所望のパターンに従ってこの投影ビームをパターン化するのに役立つパターニング手段を支持するための支持構造体;
− 基板を保持するための基板テーブル;および
− このパターン化したビームをこの基板の目標部分上に投影するための投影システムを含む投影装置で処理してもよい。
− マスク。マスクの概念は、リソグラフィでよく知られ、二値、交互位相シフト、および減衰位相シフトのようなマスク型、並びに種々のハイブリッドマスク型を含む。そのようなマスクを放射線ビーム中に置くと、このマスク上のパターンに従って、このマスクに入射する放射線の選択透過(透過性マスクの場合)または選択反射(反射性マスクの場合)を生ずる。マスクの場合、この支持構造体は、一般的にマスクテーブルであり、それがこのマスクを入射放射線ビームの中の所望の位置に保持できること、およびもし望むなら、それをこのビームに対して動かせることを保証する。
− プログラム可能ミラーアレイ。そのような装置の一例は、粘弾性制御層および反射面を有するマトリックスアドレス可能面である。そのような装置の背後の基本原理は、(例えば)この反射面のアドレス指定された領域が入射光を回折光として反射し、一方アドレス指定されない領域が入射光を未回折光として反射するということである。適当なフィルタを使って、上記未回折光を反射ビームから濾過して取除き、回折光だけを後に残すことができ;この様にして、このビームがマトリックスアドレス可能面のアドレス指定パターンに従ってパターン化されるようになる。プログラム可能ミラーアレイの代替実施例は、極小ミラーのマトリックス配置を使用し、適当な局部電界を印加することにより、または圧電作動手段を使うことにより、それらの各々を軸線周りに個々に傾斜することができる。やはり、これらのミラーは、マトリックスアドレス可能で、アドレス指定したミラーが入射放射線ビームをアドレス指定されないミラーの方へ異なる方向に反射し;この様にして、反射ビームをこれらのマトリックスアドレス可能ミラーのアドレス指定パターンに従ってパターン化する。必要なマトリックスアドレス指定は、適当な電子手段を使って行える。上に説明した両方の場合に、パターニング手段は、一つ以上のプログラム可能ミラーアレイを含むことができる。ここで言及したようなミラーアレイについての更なる情報は、例えば、米国特許US5,296,891およびUS5,523,193、並びにPCT特許出願WO98/38597およびWO98・33096から集めることができ、それらを参考までにここに援用する。プログラム可能ミラーアレイの場合、上記支持構造体は、例えば、必要に応じて固定または可動でもよい、フレームまたはテーブルとして具体化してもよい。
− プログラム可能LCDアレイ。そのような構成の例は、米国特許US5,229,872で与えられ、それを参考までにここに援用する。上記のように、この場合の支持構造体は、例えば、必要に応じて固定または可動でもよい、フレームまたはテーブルとして具体化してもよい。
簡単のために、この本文の残りは、ある場所で、マスクおよびマスクテーブルを伴う例を具体的に指向するかも知れないが;しかし、そのような場合に議論する一般原理は、上に示すようなパターニング手段の広い文脈で見るべきである。
− 放射線の整列ビームの放射線を反射するための比較的高反射率の領域、および
− この整列ビームの放射線を少ししか反射しないための比較的低反射率の領域;を含む基板に於いて、この比較的低反射率の領域がこの整列ビームの放射線を散乱し且つ吸収するための散乱構造体を含むことを特徴とする基板で達成される。
− 透過性層に整列マークを含み、少なくとも部分的に放射線感応材料の層で覆われた基板を基板テーブルに用意する工程;− 比較的高反射率の領域と比較的低反射率の領域を含むこれらの整列マークを放射線の整列ビームでもって基準に整列する工程;
− 放射線システムを使って放射線の投影ビームを作る工程;
− この投影ビームにその断面にパターンを与えるためにパターニング手段を使う工程;および
− この放射線のパターン化したビームをこの放射線感応材料の層の目標部分上に投影する工程を含む方法に於いて、この比較的低反射率の領域がこの整列ビームを散乱し且つ吸収するための散乱構造体を含むことを特徴とする方法が提供される。
− 放射線(例えば、UVまたはEUV放射線)の投影ビームPBを供給するための放射線システムEx、IL。この特別の場合、放射線システムが放射線源LAも含む;
− マスクMA(例えば、レチクル)を保持するためのマスクホルダを備え、およびこのマスクを部材PLに関して正確に位置決めするために第1位置決め手段に結合された第1物体テーブル(マスクテーブル)MT;− 基板W(例えば、レジストを塗被したシリコンウエハ)を保持するための基板ホルダを備え、およびこの基板を部材PLに関して正確に位置決めするために第2位置決め手段に結合された第2物体テーブル(基板テーブル)WT;並びに− マスクMAの被照射部分を基板Wの目標部分C(例えば、一つ以上のダイを含む)上に結像するための、投影システム(“レンズ”)PL(例えば、屈折性または反射屈折性システム、ミラーグループまたはフィールド偏向器のアレイ)を含む。
ここに描くように、この装置は、透過型である(即ち、透過性のマスクを有する)。しかし、一般的に、それは、例えば、(反射性のマスクを備える)反射型でもよい。その代りに、この装置は、上に言及した種類のプログラム可能ミラーアレイのような、他の種類のパターニング手段を使ってもよい。
1.ステップモードでは、マスクテーブルMTを本質的に固定して保持し、全マスク像を目標部分C上に一度に(即ち、単一“フラッシュ”で)投影する。次に基板テーブルWTをxおよび/またはy方向に移動して異なる目標部分CをビームPBで照射できるようにする;
2.走査モードでは、与えられた目標部分Cを単一“フラッシュ”では露出しないことを除いて、本質的に同じシナリオを適用する。その代りに、マスクテーブルMTが与えられた方向(所謂“走査方向”、例えば、y方向)に速度νで動き得て、それで投影ビームPBがマスク像の上を走査させられ;同時に、基板テーブルWTがそれと共に同じまたは反対方向に速度V=Mνで動かされ、このMはレンズPLの倍率(典型的には、M=1/4または1/5)である。この様にして、比較的大きい目標部分Cを、解像度について妥協する必要なく、露出することができる。
図3は、図2の整列マークのサブ格子、例えば、P1.a、の一部の平面図を描く。図示してあるのは、Y方向に格子周期のある格子を形成する四つの高反射率領域3および三つの低反射率領域1である。この低反射率領域1は、X方向に小さいサイズ、例えば、2μmより小さい周期、例えば、1.14μmの格子周期のある格子の形を有する散乱構造体を備える。低反射率領域での散乱構造体の機能は、この低反射率領域の入射する整列ビームの放射線を散乱且つ吸収して、この低反射率領域を横切る放射線が基板表面から反射し、このマークへ戻って整列ビームの高反射率領域によって反射された部分と干渉し、整列信号の攪乱を起すことを防ぐようにすることである。この低反射率領域の格子の方向は、高反射率領域の格子の方向と実質的に垂直であるように選択して、この低反射率領域から回折した整列ビームの部分が高反射率領域から回折したビームの部分と異なる方向に回折するようにする。この低反射率領域から回折した整列ビームの部分は、整列システムが特定の方向の回折にしか感応しないので、この整列システムに達しないだろう。従って、低反射率領域からの回折は、整列システムを妨害しないだろう。低反射率領域の格子の周期も高反射率領域に設けた格子の周期より小さい。従って、マークの法線での回折の角度は大きく、低反射率領域から回折した放射線が整列システムを妨害する機会は更に最小になるだろう。この高反射率領域は、50〜100%の反射率を有してもよく、低反射率領域は、0〜10%の反射率を有してもよい。例えば、銅デュアルダマスクの層は、4%の反射率を有してもよい。
図5は、この発明の第2実施例による図2の整列マークのサブ格子の一部の平面図を描く。二つの高反射率領域3および一つの低反射率領域5を示す。この第2実施例は、大抵の部材を第1実施例と共有し、違いは、高反射率領域3を形成する格子の線がこの高反射率領域3の中間に低反射率領域21を有することによって二つに分割されていることである。この低反射率領域21は、高反射率領域3の格子を形成する線と平行である。この追加の低反射率領域は、整列ビームの高次の回折を増し、それは、高次がマークの位置のよい情報を与えるので、有利である。図示するように、高反射率領域3は、中間に一つの低反射率領域21を有することによって二つに分割されている。高次の回折を改善し、従って整列の精度を改善するために、この高反射率領域を三つ、四つまたは五つの部分に分割することが可能である。
図6は、この発明の第3実施例によるマークの高反射率領域部分の詳細平面図を示す。この高反射率領域は、正方形面から構成され、各正方形は、第1および第2方向に反復し、且つ上記第1および第2方向に平行な辺を有する。ここに示すように、2種類の正方形面、大きい物23と小さいもの25があり、それらが反復して高反射率領域3を形成する。この正方形のサイズは、このマスクから基板上に露出する構造体のサイズに匹敵し、正方形の三つ以上のサイズがあってもよい。マークの高反射率領域の正方形と露出すべき構造体のサイズが匹敵することは、露出すべき構造体による回折がその場合マークの高反射率領域による回折に類似するので有利である。この類似回折の利点は、類似回折によるビームがこの投影システムを通る類似の光路を横切り、従って投影システムで同じ収差を受けることである。これらの収差によって生ずる位置ずれは、整列マークと露出すべき構造体に対して同じであり、位置のより良い整列に繋がるだろう。これらの正方形のサイズは、0.05から0.5μmまでの範囲内でよい。この第3実施例も整列マークの低反射率領域に散乱構造体を何も使わずに、例えば、図2の整列マークの高反射率領域3に直接使ってもよい。この発明は、オーバレイを測定するために適したマークに使うこともでき;その場合、このマークは、大きい正方形の形を有してもよい。その場合、その正方形は、露出すべき構造体のサイズに匹敵するサイズを有する多数の小さい正方形を含む。
Ex ビーム拡大器
IL 照明システム
LA 放射線源
MA マスク、パターニング手段
P1 整列マーク
P2 整列マーク
PB 投影ビーム
W 基板
WT 基板テーブル
1 低反射率領域
3 高反射率領域
5 散乱構造体
23 矩形領域
25 矩形領域
Claims (10)
- 基板に重なる実質的に透過性のプロセス層にマークを備え、
該マークが、
− 放射線ビームを反射するための比較的高反射率の領域、および
− 前記放射線ビームを少ししか反射しないための比較的低反射率の領域
を含み、
前記低反射率領域が前記放射線ビームを散乱し且つ吸収するための散乱構造体を含み、該散乱構造体は、X方向に格子周期のある第1格子から形成されており、
前記高反射率領域は、前記X方向に垂直なY方向に格子周期のある第2格子から形成されており、
前記高反射領域を形成する第2格子の線と線との間の空間に、前記第1格子から形成される散乱構造体が位置することを特徴とする基板。 - 前記第1格子の格子周期が前記第2格子の格子周期より小さい請求項1記載の基板。
- 前記第1格子の格子周期が2μm未満である請求項1または2記載の基板。
- 前記低反射率領域が0から10%までの範囲内の反射率を有する請求項1ないし3のいずれかに記載の基板。
- 前記高反射率領域が50から100%までの範囲内の反射率を有する請求項1ないし4
のいずれかに記載の基板。 - − 透過性層に比較的高反射率の領域と比較的低反射率の領域を含むマークを含み、少なくとも部分的に放射線感応材料の層で覆われた基板を基板テーブルに準備する工程、
− 前記基板を整列するために、前記マークに放射線ビームを照射する工程、
− 放射線システムを使って放射線の投影ビームを作る工程、
− 前記投影ビームにその断面にパターンを与えるためにパターニング手段を使う工程、
および
− 前記パターン化した投影ビームを前記放射線感応材料の層の目標部分上に投影する工程を含むデバイス製造方法に於いて、
前記低反射率領域が前記放射線ビームを散乱し且つ吸収するための散乱構造体を含み、該散乱構造体は、X方向に格子周期のある第1格子から形成されており、
前記高反射率領域は、前記X方向に垂直なY方向に格子周期のある第2格子から形成されており、
前記高反射領域を形成する第2格子の線と線との間の空間に、前記第1格子から形成される散乱構造体が位置することを特徴とする方法。 - 前記第1格子の格子周期が前記第2格子の格子周期より小さい請求項6記載の方法。
- 前記第1格子の格子周期が2μm未満である請求項6または7記載の方法。
- 前記低反射率領域が0から10%までの範囲内の反射率を有する請求項6ないし8のいずれかに記載の方法。
- 前記高反射率領域が50から100%までの範囲内の反射率を有する請求項6ないし9のいずれかに記載の方法。
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