JP4555864B2 - 熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材およびその製造方法 - Google Patents
熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4555864B2 JP4555864B2 JP2007532211A JP2007532211A JP4555864B2 JP 4555864 B2 JP4555864 B2 JP 4555864B2 JP 2007532211 A JP2007532211 A JP 2007532211A JP 2007532211 A JP2007532211 A JP 2007532211A JP 4555864 B2 JP4555864 B2 JP 4555864B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- spray coating
- thermal spray
- color
- coating
- thermal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/02—Pretreatment of the material to be coated, e.g. for coating on selected surface areas
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
- C23C4/06—Metallic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
- C23C4/10—Oxides, borides, carbides, nitrides or silicides; Mixtures thereof
- C23C4/11—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/18—After-treatment
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
Description
(1)白色系のAl2O3−Y2O3複酸化物の溶射皮膜は、光の反射率が高く、そのために良好な熱放射率が求められる分野の被覆部材として相応しいものとは言えない。
(2)白色系の溶射皮膜は、部材の使用環境が、半導体加工装置内部のような高度な清浄性が必要とされるところでは、有彩色のパーティクルが付着するため、必要以上の頻度で洗浄を繰返す必要が生じ、作業効率の低下と製品コストの上昇を招く。
(3)白色系のAl2O3−Y2O3複酸化物の溶射皮膜は、皮膜を構成する溶射粒子の
接触面積が小いため、粒子相互の結合力が弱く、空隙(気孔)の多い多孔質の皮膜となる。そのため、Al2O3−Y2O3複酸化物自体は、優れた耐食性を有するものの、気孔
中に環境の腐食成分(例えば、水分、酸、塩類、ハロゲンガスなど)が侵入しやすく、基材の腐食や皮膜の剥離が起りやすい。
(4)白色系のAl2O3−Y2O3複酸化物の溶射皮膜は、溶射粒子の相互結合力が弱
く、そのため、ブラストエロージョンのような外部からの衝撃を受けると粒子が局部的に脱落しやすく、この部分が皮膜全体の破壊の起点となって、皮膜の耐久性を損ねる。
(5)白色系Al2O3−Y2O3複酸化物の溶射皮膜は、多孔質で粒子間結合力が弱いうえ、溶射熱源中で十分な溶融現象を経ていないことが多い。そのため、弗素ガス、O2ガス、弗化物ガスなどが含まれる環境下におけるプラズマエッチングやプラズマクリーニング処理時において、エッチングされやすく、耐用期間が短い。しかも、プラズマエッチングされた皮膜の粒子は、微細なパーティクルとなって環境を汚染し、半導体加工製品の品質の低下を招く。
(6)また、白色系Al2O3−Y2O3複酸化物の溶射皮膜は、この皮膜を構成する粒子の相互結合力が弱いため、皮膜を機械加工する際、しばしば粒子が脱落し、精密加工ができない。
(1)基材の表面が、マンセル表記でN−7以下の数値で表される低明度の無彩色もしくはマンセル表記でN−7.5以下の数値で表される有彩色のAl2O3−Y2O3からなる色つき複酸化物の溶射皮膜にて被覆されていることを特徴とする熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材。
(2)基材の表面と前記色つき複酸化物からなる溶射皮膜の間に、金属・合金またはサーメット溶射皮膜からなるアンダーコートが設けられている熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材。
(3)前記色つき複酸化物の溶射皮膜は、照射出力:0.1〜8kw、照射速度:1〜30mm/sの電子ビーム照射処理あるいはレーザ出力:0.1〜10kw、照射速度:5〜1000mm/sのレーザー照射処理によって、溶射粉末材料の固有色がもつ明度を下げて、マンセル表記でN-7以下にするかさらにはマンセル表記でV-7.5以下の彩度に下げた色からなる熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材。
(4)前記色つき複酸化物の溶射皮膜は、50〜2000μm厚さである熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材。
(5)上記アンダーコートは、Niおよびその合金、Moおよびその合金、Tiおよびその合金、Alおよびその合金、Mg合金のうちから選ばれるいずれか1種以上の金属もしくは合金またはサーメットを50〜500μmの厚さに形成した金属溶射皮膜である熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材。
(6)基材の表面に直接、またはその基材表面に形成したアンダーコートの表面に、高明度の白色系固有色を有するAl2O3−Y2O3複酸化物の溶射粉末材料を溶射し、次いで、その溶射によって得られた白色系固有色のAl2O3−Y2O3複酸化物溶射皮膜の表面を照射出力:0.1〜8kw、照射速度:1〜30mm/sの電子ビーム照射あるいはレーザ出力:0.1〜10kw、照射速度:5〜1000mm/sのレーザー照射処理することによって、該溶射皮膜表面の色をマンセル表記でN-7以下の数値で表される無彩色もしくはマンセル表記でV-7.5以下の数値で表される有彩色に変化させる熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材の製造方法。
(7)前記電子ビーム照射処理あるいはレーザー照射処理によって、白色系固有色のAl2O3−Y2O3複酸化物溶射皮膜の表面から50μm未満の層を、マンセル表記でN-7以下の数値で表される無彩色もしくはマンセル表記でV-7.5以下の数値で表される有彩色に変化させる熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材の製造方法。
(8)基材の表面に直接、またはその基材表面に形成した金属溶射皮膜からなるアンダーコートの表面に、高明度の白色系固有色をもつAl2O3−Y2O3複酸化物溶射粉末材料を、プラズマ溶射することにより、マンセル表記でN-7以下の数値で表される無彩色もしくはマンセル表記でV-7.5以下の数値で表される有彩色のAl2O3−Y2O3からなる色つき複酸化物溶射皮膜を形成する熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材の製造方法。
(9)前記プラズマ溶射は、大気プラズマ溶射または不活性ガスの減圧プラズマ溶射である熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材の製造方法。
特性、例えば、ハロゲンまたはハロゲン化合物のガス雰囲気中における耐プラズマエロージョン性に優れる。そのため、精密な加工精度と清浄な環境が要求される最近の半導体加工装置用部材として好適であり、半導体加工製品の品質および生産性の向上に大きく貢献できるものである。それに加えて、本発明は、溶射皮膜の表色を灰色のような濃いグレイにしたことで、熱放射特性や耐損傷性に優れると共に、とくに電子ビーム照射あるいはレーザービーム照射の処理を施したものでは皮膜表面が平滑で、皮膜を構成しているAl2O3−Y2O3複酸化物粒子が相互に融合し、緻密な皮膜を形成していることから、摺動特性や耐食性、耐摩耗性等が一段と向上して、工業分野用製品として長期間に亘る使用が可能となる。
熱効率の高い特性が要求される加熱ヒータ類の保護皮膜として有望である。
また、本発明は上記諸特性を有する溶射皮膜被覆部材を電子ビーム照射処理あるいはレーザービーム照射処理の採用によって有利に製造することができる。
図2は、電子ビームを照射した後のAl2O3−Y2O3複酸化物の溶射皮膜の表面および断面を示す電子顕微鏡(SEM−BEI像)写真である。
図3は、Al2O3−Y2O3複酸化物の溶射皮膜断面を模式的に示したもので、図3(a)は電子ビーム照射前、図3(b)は電子ビーム照射後である。
Al2O3−Y2O3複酸化物溶射皮膜は、被溶射体(基材)の表面をブラスト処理によって粗面化した後、その表面に直接、または該基材の表面にまず金属質のアンダーコートを施工し、そのアンダーコートの表面に市販の白色系Al2O3−Y2O3複酸化物の溶射粉末材料をプラズマ溶射法などの方法によって形成させる。この溶射皮膜の外観は当初、溶射粉末材料と同様に白色系の皮膜である。
な電子ビームあるいはレーザービーム照射をしなくても、熱放射特性の改善には有効であり、本発明に適合する色つき溶射皮膜として一応有効である。
本発明は、上述した白色系、即ち、溶射粉末材料に固有の色である白色系のAl2O3−Y2O3複酸化物の溶射皮膜の表面に対し、電子ビームあるいはレーザービーム(以下、電子ビーム等と言う。)により照射処理を行う。例えば、この電子ビーム照射処理は、大気プラズマ溶射法で形成された白色系無彩色のAl2O3−Y2O3複酸化物皮膜、および大気プラズマ溶射熱源をArやN2ガスでシールドしたり、減圧されたArガス雰囲気下でプラズマ溶射して得られるややN値の小さい無彩色(N−7.5)ないし有彩色Al2O3−Y2O3複酸化物皮膜の明度さらには彩度を下げて、表色をさらに濃いものにするのに適用される。この電子ビーム照射等の処理によって、白色系無彩色の溶射皮膜は、N値の小さい、例えば、グレイに、また溶射状態ですでに多少グレイ化しているN値の比較的小さい(N−7.5程度)溶射皮膜では、そのままの色を維持するか、あるいは照射条件によっては、一段と濃い無彩色(N≦7.0)へとそれぞれ変化させるために行う。
照射雰囲気:0.0005Pa
照射出力 :0.1〜8kW
照射速度 :1〜30mm/s
レーザー出力 :0.1〜10kW
レーザービーム面積:0.01〜2500mm2
照射速度 :5〜1000mm/s
発明者らの研究によると、電子ビーム等の照射処理を施したAl2O3−Y2O3複酸化物の溶射皮膜の外観は、色の濃いグレイ(N−5程度)に変化するとともに、その表面を拡大して観察すると、小さな割れが網目状に発生していることが判明した。その表面および断面を電子顕微鏡(SEM−BEI像)で観察した結果を図2(a)および(b)に示す。この網目状の割れは、電子ビーム等によって溶融したAl2O3−Y2O3複酸化物粒子が相互に融合して大きな平滑面を形成した後、冷却する過程において、体積が収縮するために発生したものと考えられる。なお、図2(b)からも分かるように、この網目状の割れは、照射部の表面に限られ、皮膜の内部まで貫通しているものはなく、皮膜の耐食性に影響を与える割れではない。なお、照射部を予熱したり、照射後徐冷することによって、割れのない照射面をつくることができる。
本発明の色つきAl2O3−Y2O3複酸化物溶射皮膜は、プラズマ溶射などによって形成された一般的な従来の白色系Al2O3−Y2O3複酸化物皮膜の物理・化学的特性(例えば、硬く耐摩耗性に優れるほか、耐食性、電気絶縁性を有する)を損うことなく、次のような機能も具備するものである。
(b)電子ビーム等を照射されたAl2O3−Y2O3複酸化物の溶射皮膜の表面は、一旦は完全に溶融し、皮膜を構成する5〜80μm程度のAl2O3−Y2O3複酸化物粒子が相互に融合して一体化するので、溶射皮膜表面近傍(表面から50μm深さまで)の機械的強度が向上し、破壊され難くなる。
(c)電子ビーム等の照射によって、Al2O3−Y2O3複酸化物溶射皮膜の表面は、照射処理前の表面粗さの最大粗さ(Ry)が、16〜32μmであったのに対し、照射処理後は、溶融現象によって最大粗さ(Ry)が、6〜18μm程度と著しく平滑化するので、溶射皮膜特有の未溶融粒子や凸起状に付着している複酸化物粒子が消滅し、そのために摺動特性が向上する。しかも、溶射皮膜表面の機械加工精度が向上して、精度の高い溶射被覆部材を作ることができる。
(d)電子ビーム等が照射されたAl2O3−Y2O3複酸化物の溶射皮膜表面では、溶融現象によって溶射皮膜に存在している気孔、特に皮膜の表面から基材に通じている貫通気孔が消失するので、皮膜のみならず基材の耐食性が飛躍的に向上する。
(e)電子ビーム等を照射されたAl2O3−Y2O3複酸化物溶射皮膜表面は、上記(a)〜(d)の作用効果によって、耐プラズマエロージョン性が著しく向上する。従って、本発明に係る電子ビーム等を照射された色つきAl2O3−Y2O3複酸化物の溶射皮膜は、これを清浄な環境が要求されている半導体製造・検査・加工装置用部材の表面に被覆すると、耐プラズマ侵食性が向上し、自らが環境汚染源となるパーティクルの発生現象が低下する。その結果、本発明によれば環境の清浄化保持に著しい効果を発揮するとともに、装置の洗浄回数の減少に伴う生産性の向上にも大きく寄与する。
この実施例は、電熱線を内蔵した石英ガラス製の保護管の表面に、大気プラズマ溶射法によって、Al2O3−Y2O3複酸化物の溶射皮膜を50μm厚に形成した例、およびその溶射皮膜の表面をさらに電子ビーム照射し、とくに表面の表色を白色系から薄いグレイ(N−6.5程度)もしくは濃いグレイ(N−5程度)に変化させた溶射皮膜を施工した例について、前記保護管の電熱線に電流を通し、溶射皮膜の表面から放出される波長を、JIS R1801規定の分光放射率測定方法を利用して測定した。その結果、白色系のAl2O3−Y2O3複酸化物溶射皮膜の表面からは、0.2〜0.9μm程度の波長が検出されたのに対し、電子ビーム照射によってグレイに変色した色つき溶射皮膜の面からは0.3〜4.2μmの波長を検出することができ、赤外線領域の波長の放出が認められ、加熱ヒータに適用した場合に有効であることが推認できた。
この実施例は、SUS304鋼の基材(寸法 幅50mm×長さ50mm×厚さ3.5mm)の片面に、アンダーコートとして80mass%Ni−20mass%Cr合金の大気プラズマ溶射皮膜(厚さ100μm)を形成した後、市販の白色系のAl2O3−Y2O3複酸化物の溶射粉末材料を用いて、大気プラズマ溶射法および実質的に酸素を含まないAr雰囲気の減圧プラズマ溶射法によって、それぞれ250μm厚のトップコートを積層させた。このトップコートの外観色は、大気プラズマ溶射では白色系、減圧プラズマ溶射法では薄いグレイ色(N−7.5程度)を呈していた。その後、これらのトップコートの表面に、電子ビーム照射を行い、これらの溶射試験片について、外観観察、皮膜断面のミクロ組織、気孔率などを調査する一方、熱衝撃試験を行い、電子ビーム照射処理の有無による溶射皮膜の一般性状の変化を調べた。
電子銃の定格出力:6kW
加速電圧 :30〜60kV
ビーム電流 :5〜100mA
ビーム径 :400〜1000μm
照射雰囲気圧 :6.7〜0.27Pa
照射距離 :300〜400mm
この実施例は、SS400鋼の試験片(寸法:幅50mm×長さ100mm×厚さ3.2mm)の片面を、ブラスト処理した後、その処理面に、Al2O3−Y2O3複酸化物の溶射粉末材料を直接、大気プラズマ溶射法によって、膜厚150μmの皮膜を形成した。その後、Al2O3−Y2O3複酸化物溶射皮膜の表面を電子ビーム照射処理を行った。この際、電子ビーム照射の電気出力、照射回数などを変化させて、溶射皮膜表面におけるAl2O3−Y2O3複酸化物粒子の溶融状態(溶融深さ)を制御して、電子ビーム照射の影響が、表面からそれぞれ3μm、5μm、10μm、20μm、30μm、50μmに達する溶射皮膜を準備した。
表2は、塩水噴霧試験結果を要約したものである。この結果から明らかなように、比較例のAl2O3−Y2O3複酸化物溶射皮膜(No.1)には、セラミック溶射特有の気孔が多数に存在しているため、24時間後すでに試験片全面にわたって、赤さびが発生したので、以降の試験は中止した。
この実施例では、実施例2の試験片を用いて、トップピコートのAl2O3−Y2O3複酸化物の電子ビーム照射溶射皮膜の耐摩耗性と、電子ビーム照射処理しない溶射皮膜と比較した。供試した試験装置および試験条件は、下記の通りである。
試験方法:JIS H8503 めっきの耐摩耗試験方法に規定されている往復運動摩耗試験方法を採用した。
試験条件:荷重3.5N、往復速度40回/分を10分(400回)と20分(800回)実施、摩耗面積30×12mm、摩耗試験紙CC320評価は、試験前後における試験片の重量測定を行い、その差から摩耗量を定量して比較した。
この実施例では、電子ビーム照射した本発明に係る濃いグレイの色つきAl2O3−Y2O3複酸化物溶射皮膜の耐弗素ガス性を調査した。基材としてSUS304鋼(寸法:幅30mm×長さ50mm×厚さ3.2mm)の試験片面上に直接、白色系のAl2O3−Y2O3複酸化物の溶射粉末材料を、大気プラズマ溶射して、150μm厚の溶射皮膜を得た。その後、この溶射皮膜を電子ビーム照射処理によって、皮膜表面から5μm深さの範囲を溶融し、緻密化させた。
この実施例では、電子ビーム照射した本発明に係るAl2O3−Y2O3複酸化物溶射皮膜の耐プラズマエロージョン性を調査した。電子ビーム照射試験片としては、実施例5と同じものを用いCF4ガスを60ml/min、O2を2ml/min流れる雰囲気を構成する反応性プラズマエッチング装置を用いて、プラズマ出力80W、照射時間500分の連続処理を行った。なお、比較例の試験片として、大気プラズマ溶射によって形成したAl2O3−Y2O3複酸化物溶射皮膜およびSiO2溶射皮膜を同じ条件で試験した。
この実施例では、SUS304鋼(寸法:幅50mm×長さ60mm×厚さ3.2mm)試験片の片面を、ブラスト処理し、その後、その表面に対し直接、大気プラズマ溶射法によってAl2O3−Y2O3複酸化物を150μmの厚さに成膜したもの、および80mass%Ni−20mass%Cr合金の大気プラズマ溶射によるアンダーコートを150μmの厚さに施工した。その後、そのアンダーコート上に、トップコートとして大気プラズマ溶射法によって、Al2O3−Y2O3複酸化物150μm厚に形成した試験片を準備した。その後、これらのAl2O3−Y2O3複酸化物の溶射皮膜の表面を電子ビーム照射することによって緻密化処理を行った。なお、比較例のAl2O3−Y2O3複酸化物の溶射皮膜として電子ビーム照射しないものも準備し、同じ条件で熱衝撃試験を行い、トップコートの複酸化物溶射皮膜の割れや剥離の有無を調査した。
Claims (9)
- 基材の表面が、マンセル表記でN−7以下の数値で表される低明度の無彩色もしくはマンセル表記でV−7.5以下の数値で表される有彩色のAl2O3−Y2O3からなる色つき複酸化物の溶射皮膜にて被覆されていることを特徴とする熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材。
- 基材の表面と前記色つき複酸化物からなる溶射皮膜の間に、金属・合金またはサーメット溶射皮膜からなるアンダーコートが設けられていることを特徴とする請求項1に記載の熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材。
- 前記色つき複酸化物の溶射皮膜は、照射出力:0.1〜8kw、照射速度:1〜30mm/sの電子ビーム照射処理あるいはレーザ出力:0.1〜10kw、照射速度:5〜1000mm/sのレーザー照射処理によって、溶射粉末材料の固有色がもつ明度を下げて、マンセル表記でN-7以下にするかさらにはマンセル表記でV-7.5以下の彩度に下げた色からなることを特徴とする請求項1または2に記載の熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材。
- 前記色つき複酸化物の溶射皮膜は、50〜2000μm厚さであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材。
- 上記アンダーコートは、Niおよびその合金、Moおよびその合金、Tiおよびその合金、Alおよびその合金、Mg合金のうちから選ばれるいずれか1種以上の金属もしくは合金またはサーメットを50〜500μmの厚さに形成した金属溶射皮膜であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1に記載の熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材。
- 基材の表面に直接、またはその基材表面に形成したアンダーコートの表面に、高明度の白色系固有色を有するAl2O3−Y2O3複酸化物の溶射粉末材料を溶射し、次いで、その溶射によって得られた白色系固有色のAl2O3−Y2O3複酸化物溶射皮膜の表面を照射出力:0.1〜8kw、照射速度:1〜30mm/sの電子ビーム照射あるいはレーザ出力:0.1〜10kw、照射速度:5〜1000mm/sのレーザー照射処理することによって、該溶射皮膜表面の色をマンセル表記でN-7以下の数値で表される無彩色もしくはマンセル表記でV-7.5以下の数値で表される有彩色に変化させることを特徴とする熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材の製造方法。
- 前記電子ビーム照射処理あるいはレーザー照射処理によって、白色系固有色のAl2O3−Y2O3複酸化物溶射皮膜の表面から50μm未満の層を、マンセル表記でN-7以下の数値で表される無彩色もしくはマンセル表記でV-7.5以下の数値で表される有彩色に変化させることを特徴とする請求の範囲項6に記載の熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材の製造方法。
- 基材の表面に直接、またはその基材表面に形成した金属溶射皮膜からなるアンダーコートの表面に、高明度の白色系固有色をもつAl2O3−Y2O3複酸化物溶射粉末材料を、プラズマ溶射することにより、マンセル表記でN-7以下の数値で表される無彩色もしくはマンセル表記でV-7.5以下の数値で表される有彩色のAl2O3−Y2O3からなる色つき複酸化物溶射皮膜を形成することを特徴とする熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材の製造方法。
- 前記プラズマ溶射は、大気プラズマ溶射または不活性ガスの減圧プラズマ溶射であることを特徴とする請求の範囲項8に記載の熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005239522 | 2005-08-22 | ||
JP2005239522 | 2005-08-22 | ||
PCT/JP2006/316783 WO2007023971A1 (ja) | 2005-08-22 | 2006-08-21 | 熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2007023971A1 JPWO2007023971A1 (ja) | 2009-03-05 |
JP4555864B2 true JP4555864B2 (ja) | 2010-10-06 |
Family
ID=37771708
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007532211A Active JP4555864B2 (ja) | 2005-08-22 | 2006-08-21 | 熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材およびその製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20090130436A1 (ja) |
JP (1) | JP4555864B2 (ja) |
KR (1) | KR20080028498A (ja) |
TW (1) | TW200714748A (ja) |
WO (1) | WO2007023971A1 (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4666575B2 (ja) * | 2004-11-08 | 2011-04-06 | 東京エレクトロン株式会社 | セラミック溶射部材の製造方法、該方法を実行するためのプログラム、記憶媒体、及びセラミック溶射部材 |
EP2071049A1 (en) | 2005-07-29 | 2009-06-17 | Tocalo Co. Ltd. | Y2O3 Spray-coated member and production method thereof |
WO2007023976A1 (ja) | 2005-08-22 | 2007-03-01 | Tocalo Co., Ltd. | 耐損傷性等に優れる溶射皮膜被覆部材およびその製造方法 |
JP4571561B2 (ja) | 2005-09-08 | 2010-10-27 | トーカロ株式会社 | 耐プラズマエロージョン性に優れる溶射皮膜被覆部材およびその製造方法 |
US7648782B2 (en) * | 2006-03-20 | 2010-01-19 | Tokyo Electron Limited | Ceramic coating member for semiconductor processing apparatus |
US7850864B2 (en) | 2006-03-20 | 2010-12-14 | Tokyo Electron Limited | Plasma treating apparatus and plasma treating method |
JP2008266724A (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 溶射被膜の表面処理方法及び表面処理された溶射被膜 |
JP4999721B2 (ja) * | 2008-02-05 | 2012-08-15 | トーカロ株式会社 | 優れた外観を有する溶射皮膜被覆部材およびその製造方法 |
JP5415853B2 (ja) * | 2009-07-10 | 2014-02-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 表面処理方法 |
JP5526364B2 (ja) * | 2012-04-16 | 2014-06-18 | トーカロ株式会社 | 白色酸化イットリウム溶射皮膜表面の改質方法 |
CN104428454B (zh) | 2012-06-22 | 2017-11-07 | 苹果公司 | 白色外观阳极化膜及其形成方法 |
GB201216755D0 (en) * | 2012-09-19 | 2012-10-31 | Ceravision Ltd | Crucible for a luwpl |
US9181629B2 (en) * | 2013-10-30 | 2015-11-10 | Apple Inc. | Methods for producing white appearing metal oxide films by positioning reflective particles prior to or during anodizing processes |
US9839974B2 (en) | 2013-11-13 | 2017-12-12 | Apple Inc. | Forming white metal oxide films by oxide structure modification or subsurface cracking |
JP6221818B2 (ja) * | 2014-02-25 | 2017-11-01 | 日本ゼオン株式会社 | グラビア塗工装置 |
US11193195B2 (en) * | 2017-05-24 | 2021-12-07 | Tocalo Co., Ltd. | Component for hot-dip metal plating bath |
CN114438434B (zh) * | 2022-01-12 | 2023-06-23 | 北京理工大学 | 一种多层高反射率隔热涂层及其制备方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6130658A (ja) * | 1984-07-19 | 1986-02-12 | Showa Denko Kk | 溶射基板の表面処理方法 |
JP2001342553A (ja) * | 2000-06-02 | 2001-12-14 | Osaka Gas Co Ltd | 合金保護皮膜形成方法 |
JP2003095649A (ja) * | 2001-07-19 | 2003-04-03 | Ngk Insulators Ltd | イットリア−アルミナ複合酸化物膜の製造方法、イットリア−アルミナ複合酸化物膜、溶射膜、耐蝕性部材および低パーティクル部材 |
Family Cites Families (72)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3663793A (en) * | 1971-03-30 | 1972-05-16 | Westinghouse Electric Corp | Method of decorating a glazed article utilizing a beam of corpuscular energy |
US4000247A (en) * | 1974-05-27 | 1976-12-28 | Nippon Telegraph And Telephone Public Corporation | Dielectric active medium for lasers |
US3990860A (en) * | 1975-11-20 | 1976-11-09 | Nasa | High temperature oxidation resistant cermet compositions |
JPS5833190B2 (ja) * | 1977-10-15 | 1983-07-18 | トヨタ自動車株式会社 | 酸素イオン導伝性固体電解質用安定化ジルコニア |
JPS5941952B2 (ja) * | 1978-04-18 | 1984-10-11 | 株式会社デンソー | 酸素濃度センサ−用ジルコニア焼結体 |
CA1187771A (en) * | 1981-06-10 | 1985-05-28 | Timothy J.M. Treharne | Corrosion inhibition in sintered stainless steel |
US5093148A (en) * | 1984-10-19 | 1992-03-03 | Martin Marietta Corporation | Arc-melting process for forming metallic-second phase composites |
JPS61104062A (ja) * | 1984-10-23 | 1986-05-22 | Tsukishima Kikai Co Ltd | 金属またはセラミツク溶射被膜の封孔処理方法 |
US4997809A (en) * | 1987-11-18 | 1991-03-05 | International Business Machines Corporation | Fabrication of patterned lines of high Tc superconductors |
US4853353A (en) * | 1988-01-25 | 1989-08-01 | Allied-Signal Inc. | Method for preventing low-temperature degradation of tetragonal zirconia containing materials |
US5032248A (en) * | 1988-06-10 | 1991-07-16 | Hitachi, Ltd. | Gas sensor for measuring air-fuel ratio and method of manufacturing the gas sensor |
US5206059A (en) * | 1988-09-20 | 1993-04-27 | Plasma-Technik Ag | Method of forming metal-matrix composites and composite materials |
US5057335A (en) * | 1988-10-12 | 1991-10-15 | Dipsol Chemical Co., Ltd. | Method for forming a ceramic coating by laser beam irradiation |
US5024992A (en) * | 1988-10-28 | 1991-06-18 | The Regents Of The University Of California | Preparation of highly oxidized RBa2 Cu4 O8 superconductors |
US5004712A (en) * | 1988-11-25 | 1991-04-02 | Raytheon Company | Method of producing optically transparent yttrium oxide |
US5128316A (en) * | 1990-06-04 | 1992-07-07 | Eastman Kodak Company | Articles containing a cubic perovskite crystal structure |
US5397650A (en) * | 1991-08-08 | 1995-03-14 | Tocalo Co., Ltd. | Composite spray coating having improved resistance to hot-dip galvanization |
CA2092235C (en) * | 1992-03-30 | 2000-04-11 | Yoshio Harada | Spray-coated roll for continuous galvanization |
US5472793A (en) * | 1992-07-29 | 1995-12-05 | Tocalo Co., Ltd. | Composite spray coating having improved resistance to hot-dip galvanization |
US5366585A (en) * | 1993-01-28 | 1994-11-22 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for protection of conductive surfaces in a plasma processing reactor |
US5432151A (en) * | 1993-07-12 | 1995-07-11 | Regents Of The University Of California | Process for ion-assisted laser deposition of biaxially textured layer on substrate |
US5427823A (en) * | 1993-08-31 | 1995-06-27 | American Research Corporation Of Virginia | Laser densification of glass ceramic coatings on carbon-carbon composite materials |
US5529657A (en) * | 1993-10-04 | 1996-06-25 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus |
US5571366A (en) * | 1993-10-20 | 1996-11-05 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus |
US5685942A (en) * | 1994-12-05 | 1997-11-11 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus and method |
US5562840A (en) * | 1995-01-23 | 1996-10-08 | Xerox Corporation | Substrate reclaim method |
JP2971369B2 (ja) * | 1995-08-31 | 1999-11-02 | トーカロ株式会社 | 静電チャック部材およびその製造方法 |
EP0806488B1 (en) * | 1996-05-08 | 2002-10-16 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Aluminum-chromium alloy, method for its production and its applications |
EP0821395A3 (en) * | 1996-07-19 | 1998-03-25 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus |
GB9616225D0 (en) * | 1996-08-01 | 1996-09-11 | Surface Tech Sys Ltd | Method of surface treatment of semiconductor substrates |
US6120640A (en) * | 1996-12-19 | 2000-09-19 | Applied Materials, Inc. | Boron carbide parts and coatings in a plasma reactor |
JP2991991B2 (ja) * | 1997-03-24 | 1999-12-20 | トーカロ株式会社 | 耐高温環境用溶射被覆部材およびその製造方法 |
JP2991990B2 (ja) * | 1997-03-24 | 1999-12-20 | トーカロ株式会社 | 耐高温環境用溶射被覆部材およびその製造方法 |
DE19719133C2 (de) * | 1997-05-07 | 1999-09-02 | Heraeus Quarzglas | Glocke aus Quarzglas und Verfahren für ihre Herstellung |
JP3449459B2 (ja) * | 1997-06-02 | 2003-09-22 | 株式会社ジャパンエナジー | 薄膜形成装置用部材の製造方法および該装置用部材 |
JP3204637B2 (ja) * | 1998-01-29 | 2001-09-04 | トーカロ株式会社 | 自溶合金溶射被覆部材の製造方法 |
JP3483494B2 (ja) * | 1998-03-31 | 2004-01-06 | キヤノン株式会社 | 真空処理装置および真空処理方法、並びに該方法によって作成される電子写真感光体 |
US6010966A (en) * | 1998-08-07 | 2000-01-04 | Applied Materials, Inc. | Hydrocarbon gases for anisotropic etching of metal-containing layers |
JP4213790B2 (ja) * | 1998-08-26 | 2009-01-21 | コバレントマテリアル株式会社 | 耐プラズマ部材およびそれを用いたプラズマ処理装置 |
EP1138065A1 (de) * | 1998-11-06 | 2001-10-04 | Infineon Technologies AG | Verfahren zum herstellen einer strukturierten metalloxidhaltigen schicht |
US6383964B1 (en) * | 1998-11-27 | 2002-05-07 | Kyocera Corporation | Ceramic member resistant to halogen-plasma corrosion |
US6447853B1 (en) * | 1998-11-30 | 2002-09-10 | Kawasaki Microelectronics, Inc. | Method and apparatus for processing semiconductor substrates |
US6265250B1 (en) * | 1999-09-23 | 2001-07-24 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method for forming SOI film by laser annealing |
JP3510993B2 (ja) * | 1999-12-10 | 2004-03-29 | トーカロ株式会社 | プラズマ処理容器内部材およびその製造方法 |
JP4272786B2 (ja) * | 2000-01-21 | 2009-06-03 | トーカロ株式会社 | 静電チャック部材およびその製造方法 |
EP1642994B8 (en) * | 2000-06-29 | 2017-04-19 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Rare earth oxid powder used in thermal spray coating |
US6509070B1 (en) * | 2000-09-22 | 2003-01-21 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Laser ablation, low temperature-fabricated yttria-stabilized zirconia oriented films |
GB2369206B (en) * | 2000-11-18 | 2004-11-03 | Ibm | Method for rebuilding meta-data in a data storage system and a data storage system |
EP1239055B1 (en) * | 2001-03-08 | 2017-03-01 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Thermal spray spherical particles, and sprayed components |
JP3974338B2 (ja) * | 2001-03-15 | 2007-09-12 | 株式会社東芝 | 赤外線検出素子及び赤外線検出装置 |
US6805968B2 (en) * | 2001-04-26 | 2004-10-19 | Tocalo Co., Ltd. | Members for semiconductor manufacturing apparatus and method for producing the same |
US6777045B2 (en) * | 2001-06-27 | 2004-08-17 | Applied Materials Inc. | Chamber components having textured surfaces and method of manufacture |
JP2003264169A (ja) * | 2002-03-11 | 2003-09-19 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
US6451647B1 (en) * | 2002-03-18 | 2002-09-17 | Advanced Micro Devices, Inc. | Integrated plasma etch of gate and gate dielectric and low power plasma post gate etch removal of high-K residual |
US6918534B2 (en) * | 2002-04-12 | 2005-07-19 | Lockheed Martin Corporation | Collection box with sealed and statically charged mail chute |
US6852433B2 (en) * | 2002-07-19 | 2005-02-08 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Rare-earth oxide thermal spray coated articles and powders for thermal spraying |
JP2004146364A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-05-20 | Ngk Insulators Ltd | 発光素子及びそれを具えるフィールドエミッションディスプレイ |
CN1249789C (zh) * | 2002-11-28 | 2006-04-05 | 东京毅力科创株式会社 | 等离子体处理容器内部件 |
CN100418187C (zh) * | 2003-02-07 | 2008-09-10 | 东京毅力科创株式会社 | 等离子体处理装置、环形部件和等离子体处理方法 |
KR101016913B1 (ko) * | 2003-03-31 | 2011-02-22 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 처리요소용 배리어층 및 그의 형성방법 |
US7571570B2 (en) * | 2003-11-12 | 2009-08-11 | Cooper Technologies Company | Recessed plaster collar assembly |
US7220497B2 (en) * | 2003-12-18 | 2007-05-22 | Lam Research Corporation | Yttria-coated ceramic components of semiconductor material processing apparatuses and methods of manufacturing the components |
KR20060116016A (ko) * | 2004-01-05 | 2006-11-13 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 광확산필름, 면광원장치 및 액정표시장치 |
JP4666576B2 (ja) * | 2004-11-08 | 2011-04-06 | 東京エレクトロン株式会社 | セラミック溶射部材の洗浄方法、該方法を実行するためのプログラム、記憶媒体、及びセラミック溶射部材 |
JP4666575B2 (ja) * | 2004-11-08 | 2011-04-06 | 東京エレクトロン株式会社 | セラミック溶射部材の製造方法、該方法を実行するためのプログラム、記憶媒体、及びセラミック溶射部材 |
US7364807B2 (en) * | 2004-12-06 | 2008-04-29 | General Electric Company | Thermal barrier coating/environmental barrier coating system for a ceramic-matrix composite (CMC) article to improve high temperature capability |
EP2071049A1 (en) * | 2005-07-29 | 2009-06-17 | Tocalo Co. Ltd. | Y2O3 Spray-coated member and production method thereof |
WO2007023976A1 (ja) * | 2005-08-22 | 2007-03-01 | Tocalo Co., Ltd. | 耐損傷性等に優れる溶射皮膜被覆部材およびその製造方法 |
JP4571561B2 (ja) * | 2005-09-08 | 2010-10-27 | トーカロ株式会社 | 耐プラズマエロージョン性に優れる溶射皮膜被覆部材およびその製造方法 |
JP4643478B2 (ja) * | 2006-03-20 | 2011-03-02 | トーカロ株式会社 | 半導体加工装置用セラミック被覆部材の製造方法 |
US7648782B2 (en) * | 2006-03-20 | 2010-01-19 | Tokyo Electron Limited | Ceramic coating member for semiconductor processing apparatus |
US7850864B2 (en) * | 2006-03-20 | 2010-12-14 | Tokyo Electron Limited | Plasma treating apparatus and plasma treating method |
-
2006
- 2006-08-21 KR KR1020087004122A patent/KR20080028498A/ko not_active Application Discontinuation
- 2006-08-21 JP JP2007532211A patent/JP4555864B2/ja active Active
- 2006-08-21 US US11/990,755 patent/US20090130436A1/en not_active Abandoned
- 2006-08-21 WO PCT/JP2006/316783 patent/WO2007023971A1/ja active Application Filing
- 2006-08-22 TW TW095130789A patent/TW200714748A/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6130658A (ja) * | 1984-07-19 | 1986-02-12 | Showa Denko Kk | 溶射基板の表面処理方法 |
JP2001342553A (ja) * | 2000-06-02 | 2001-12-14 | Osaka Gas Co Ltd | 合金保護皮膜形成方法 |
JP2003095649A (ja) * | 2001-07-19 | 2003-04-03 | Ngk Insulators Ltd | イットリア−アルミナ複合酸化物膜の製造方法、イットリア−アルミナ複合酸化物膜、溶射膜、耐蝕性部材および低パーティクル部材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI323294B (ja) | 2010-04-11 |
TW200714748A (en) | 2007-04-16 |
KR20080028498A (ko) | 2008-03-31 |
JPWO2007023971A1 (ja) | 2009-03-05 |
US20090130436A1 (en) | 2009-05-21 |
WO2007023971A1 (ja) | 2007-03-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4555864B2 (ja) | 熱放射特性等に優れる溶射皮膜被覆部材およびその製造方法 | |
JP4555865B2 (ja) | 耐損傷性等に優れる溶射皮膜被覆部材およびその製造方法 | |
JP4398436B2 (ja) | 熱放射特性等に優れるセラミック溶射皮膜被覆部材およびその製造方法 | |
US7494723B2 (en) | Y2O3 spray-coated member and production method thereof | |
JP4603018B2 (ja) | 熱放射性および耐損傷性に優れる酸化イットリウム溶射皮膜被覆部材およびその製造方法 | |
JP4372748B2 (ja) | 半導体製造装置用部材 | |
CN107532272B (zh) | 基材的表面粗化方法、基材的表面处理方法、喷涂覆膜被覆部件及其制造方法 | |
TWI385277B (zh) | Preparation method of black yttrium oxide sputtering film and black yttrium oxide sputtering film coating material | |
JP5001323B2 (ja) | 白色酸化イットリウム溶射皮膜表面の改質方法および酸化イットリウム溶射皮膜被覆部材 | |
JP4051351B2 (ja) | 熱放射性および耐損傷性に優れるy2o3溶射皮膜被覆部材およびその製造方法 | |
JP2004149915A (ja) | 熱遮蔽セラミックコーティング部品とその製造方法 | |
JP5526364B2 (ja) | 白色酸化イットリウム溶射皮膜表面の改質方法 | |
Chwa et al. | Thermal diffusivity and erosion resistance of ZrO2–8 wt.% Y2O3 coatings prepared by a laser hybrid spraying technique | |
KR100801910B1 (ko) | Y2o3 용사 피막 피복 부재 및 그 제조 방법 | |
RU2214475C2 (ru) | Способ нанесения покрытия | |
Prakash et al. | Laser Microtexturing of NiCrAlY Coated Nickel-based Superalloy for Improved Adhesion Bond Strength. | |
Sreedhar et al. | Effect of processing parameters on the laser glazing of plasma-sprayed alumina–titania ceramic | |
Mrdak et al. | Characterization of vacuum plasma spray VPS-W coating deposited on stainless steel substrates | |
Gadow et al. | Product development with thermally sprayed functional coatings on glass and glass ceramics substrates | |
Ibrahim et al. | Laser Surface Annealing of Plasma Sprayed Coatings | |
Scott et al. | Coatings for use on the limiters of a fusion reactor | |
KR20070087219A (ko) | 산화이트륨 용사 피막 피복 부재 및 그 제조 방법 | |
Harada et al. | Y 2 O 3 spray-coated member and production method thereof | |
Willson | Low Pressure Plasma Spraying of Highly Dense NiCrAlY-CuCrAl Coating System on Copper Alloy Substrates | |
Joshi et al. | Influence of Laser Glazing on the Characteristics and Tribological Performance of Plasma and Detonation Sprayed WC-Co Coatings |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100302 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100506 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100713 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100716 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130723 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4555864 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |