JPS61104062A - 金属またはセラミツク溶射被膜の封孔処理方法 - Google Patents

金属またはセラミツク溶射被膜の封孔処理方法

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JPS61104062A
JPS61104062A JP22280784A JP22280784A JPS61104062A JP S61104062 A JPS61104062 A JP S61104062A JP 22280784 A JP22280784 A JP 22280784A JP 22280784 A JP22280784 A JP 22280784A JP S61104062 A JPS61104062 A JP S61104062A
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resistant
corrosion
heat
thermally sprayed
sprayed
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Takeshi Nomura
野村 威
Hideo Shoji
秀雄 庄司
Yoshinori Takahashi
善則 高橋
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Tsukishima Kikai Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/18After-treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、母材(ベースメタル)上に金属またはセラミ
ックを溶射して耐熱性、耐食性または耐摩性波mを形成
する際に生ずる気孔を封止し、溶射物の耐熱性、耐食性
または耐摩性を一層改善する方法に関する。
従来の技術 金属、非鉄金属または非金属の母材の耐熱性、耐食性ま
たは耐摩性を改善するため、母材上に目的に応じて適当
な金属またはセラミックt−溶射しそれらの材料に保謙
被at−形成することは従来から広く行なわれ1いる。
従来の母材に機能被膜を付与する処理技、術、たとえば
溶射技術は、母材の表面にブラスト処理また鉱化学的処
理等の前処理を施し、然る後金14またはセラミックを
プラズマまたはガス溶射法によって溶射するか、或は母
材に対する熱衝@を回避するためあらかじめ溶射された
金属層の上にさらにセラミック或は金属とセラミックを
混合溶射するものであった。
ところが、このような溶射方法では溶射被膜に気孔の発
生が避けられない。すなわち、母材上に耐熱性、耐食性
または耐摩性被膜を形成する場合、上記の目的に適した
材料の粉末が例えばプラズマ等の溶射等により母材上に
溶射されると、粉末は溶融しながら母材に到達し、溶融
材料は「ヌレ」すなわち母材表面の凹凸部に流れついて
固定し、固化して鱗状となシ、層状となるように溶射処
理が行なわれ1、被膜を形成する。そして、溶融した材
料が母材に到達したとき、両者の境界面Kgll化物を
生じ、この酸化物は熱分解して原子状から分子状に変成
し、その際気泡を発生し、その気泡は被膜内部に封入さ
れる。そして一部の気泡は上下に開口、連通して被膜表
面から母材に達する気孔となシ、他の一部は、上方へ開
放して凹部を生成し、これが孔部を形成する。このよう
な気孔は、溶射物が製品となって使用されるとき、そこ
から液体またはガス体の侵入を許す。もしその製品が腐
食性高温敵化性または還元性雰囲気で使用され゛ る場
合、侵入1.た液体またはガス体により母材に損傷を生
じ、溶射被膜はその目的を十分に達成することができな
い。そこで、気孔に溶融材料を注入してこれを封止する
ことが必要になる。
溶射被膜の気孔を封止するため、従来から高分子系溶剤
を溶射面に噴霧することが知られてい名。
しかしながら高分子系材料は、使用に当)、その材料の
融点以上の高温度の雰囲気やその材料を溶解または破壊
するような物理的性質のある雰囲気中では使用すること
ができない。この制限を回避するため溶射の際自溶性金
属を使用することが考えられるが、自溶性金属は気孔の
発生が少ないという利点を持つ反面、溶射後加熱炉にお
いて再溶融の工程を付加する必要があシ、その場合製品
に熱変形を生じ、また、高分子溶剤と同様に(但し 、
それよシは高温であるが)その溶融温度以上では当然使
用することができないため、その対象が限定される。さ
らに自溶性金属自体耐食性および耐摩性の点で使用環境
の制御aを避けられない。
発明が解決しようとする問題点 本発明は、母材上の溶射金属またはセラミック被膜に生
じた気孔を有効に封止すると共に、気孔の封止によって
溶射物から作った製品の使用範囲を狭めることのない金
属またはセラミック溶射被膜の封孔処理方法を提供する
問題点を解決するための手段および作用本発明による気
孔封止方法は、母材の表面にブラスト処理または化学的
処理を施し、ついでその上に耐熱性、耐食性または耐摩
性金属の一種または数種組合わせたものを溶射し、或は
さらにその上に耐熱性、耐食性または耐摩性セラミック
粉末またはセラミック粉末と金属粉末を混合したものを
溶射した後、その表層波膜上に真空式又は局部真空式電
子ビーム若しくはレーザビームにより再溶融し1封孔す
ることにより、被膜に生じた気孔を完全に封止し、溶射
物で作った製品の使用範囲を狭めることなしに、被膜本
来の目的を十分に達成せしめることができる。
実施例 以下図面を参照、シ、実施例に基づいて本発明上説明す
る。
第2図(&)および第2図(b)は、本発明の封孔処理
方法が施され九二種類の金lI4またはセラミック溶射
物の断面構造を示し、lは母材(ベースメタル)、2は
溶射された金属被膜、3はさらにその上に溶射され九セ
ラミックまたはセラミックと金属の混合物の被膜、4は
封孔被膜層である。
母材lは溶射に先立ってブラスト処理または化学的処理
等の前処理が施され、表面を十分に清浄にされる。溶射
金属被膜2の材料としては、耐熱性、耐食性または耐摩
性に富む、タングステン、タンタル、モリブデン、ニッ
ケルクロム、コバルトクロム等のうちから一種またはa
8[適宜選択され、母材l上にプラズマまたはガス溶射
法により溶封され被膜2t−形成する。被膜3は、耐食
性、耐熱性または耐摩性に富む、アルミナ、ジルコニア
、酸化クロム、酸化チタン等のセラミック粉末のうちか
ら選択されたものまたはそれと金属粉末との混合物を溶
射したものであるo4は、以下に説明するように、真空
式または局部真空式電子ビームまたはレーザビームによ
り被膜2または3の上全掃引(スウイープ)することに
より再溶融させる層、すなわち封孔被膜層である。
第1図(a)および第1図缶)は、電子ビーム発生装置
を用いて封孔処理する方法、第3図は封孔処理された板
状の溶射物を示す0 5は電子ビーム発生装置で、偏向機構7を具え、発生し
たビーム6は偏向機構により左右に、例えば、0.01
〜15000 Hzの振動数で振られる。電子ビーム発
生装置5の真下に置かれた溶射物は、左右に振られるビ
ーム面に対して直角に反覆して送られる。その結果溶射
物(板)の表面には平行した帯状の模様が現われる。
第4図は棒状ないし管状溶射物8の封孔処理方法を示す
溶射物8はその軸線がビームの振動面内にあるように設
置され、軸線の周シに回転しながらその表層被膜を再溶
融させる0そして順次軸方向に送られて全長に亘って処
理される0 また、特殊な形状の溶射物の場合もこれに準じて封孔処
理がなされる。
なお上記いずれの場合でも、ビームの焦点を表層被膜材
料に合わせるようにすることによりビームのもつエネル
ギを十分利用することができる0レーザとしてC0wガ
スレーザも使用しうる。また、ビームのエネルギの一部
は表層被膜の下の本゛被膜。
にも及ぶが、表層被膜材料に比し熱容量が大きいため再
溶融しても結果的に損傷とはならない0発明の効果 本発明の封孔処理方法は、上記のように構成されている
ので、大エネルギの電子ビームまたはレーザビームを集
中することにより、溶射時に生じた気孔に対してセラミ
ックや超耐高温材料を再溶融して有効に封止し、それら
が封孔被膜層を形成し、従来の溶射物の欠点である気孔
を完全に除去ρ することができる0そこで、液体やガス体が気孔を通っ
て母材に達することがないので、溶射物の使用範囲を従
来よlit隋的に拡大することが可能になる。
例えば、廃ガス中にCA’ 、 NaC1s Box等
の腐食性物質を含む高温ガス(700〜900℃)に接
触する都市ゴミ焼却炉の廃ガス処理設備の中の熱回収用
熱交換器、腐食性が著しくかつ高硬度のパラVt攪拌処
理する高速ターボミキサ、高温腐食性でかつ耐摩耗性を
要する環境で使用される温度計の保護管、高温、高濃度
の塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、酢酸、苛性ソーダ、硫化
ソーダ、塩素ガス等の蒸溜、濃縮、反応、晶出、乾燥設
備、硬スラリに対する耐摩耗性を要する反応機器、粉塵
に対する耐摩耗性t−要する機器、部品、腐食性ミスト
全含む高温ガスを処理する加熱炉、燃焼炉、流動床燃焼
設備、その他、宇宙船、航空機、自動車、土木機械、繊
維機械、化学機械、製線機械および各棟寛気部品等であ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)および第1図(b)は本発明方法を実施す
る装置の線図的説明図、第2図(a)および第2図(b
)は本発明方法によって処理された溶射物の断面図、第
3図は同じく板状体の斜視図、第4図は管または棒状体
に対する処理方法を示す斜視図である01、・、母材 
   2・・・溶射金属被膜5、・、電子ビーム発生装

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、金属、非鉄金属または非金属の母材の表面にブラス
    ト処理または化学的処理を施し、ついでその上に耐熱性
    、耐食性または耐摩性金属の一種または複数種組合わせ
    たものを溶射した後、生成した表層被膜を真空式または
    局部真空式電子ビーム若しくはレーザビームにより再溶
    融して封孔することを特徴とする封孔処理方法。 2、金属、非鉄金属または非金属の母材の表面にブラス
    ト処理または化学的処理を施し、ついでその上に耐熱性
    、耐食性または耐摩性金属の一種または数種組合わせた
    ものを溶射し、さらにその上に耐熱性、耐食性また耐摩
    性セラミック粉末またはセラミック粉末と金属粉末とを
    混合したものを溶射した後、生成した表層被膜を真空式
    または局部真空式電子ビームまたはレーザビームにより
    再溶融して封孔することを特徴とする封孔処理方法。
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