JPS60238472A - レ−ザ溶射法 - Google Patents

レ−ザ溶射法

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JPS60238472A
JPS60238472A JP59094988A JP9498884A JPS60238472A JP S60238472 A JPS60238472 A JP S60238472A JP 59094988 A JP59094988 A JP 59094988A JP 9498884 A JP9498884 A JP 9498884A JP S60238472 A JPS60238472 A JP S60238472A
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JP
Japan
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sample
laser beam
thermal spraying
melting
plate
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JP59094988A
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JPS6366900B2 (ja
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Futoshi Uchiyama
内山　太
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
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Agency of Industrial Science and Technology
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Publication date
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、レーザ溶射法に関し、更に詳しくはレーザビ
ームを用い溶射する基板にレーザビームを直接照射しな
いで溶射する方法に関するものである。
従来のプラズマ溶射法は、アーク放電で高温なプラズマ
を作シ試料を溶融させ、溶射するために電極の材料が溶
射試料中に混入する。また、基板から遠い距離にあるガ
ンから溶融し吹きつけるだめに溶射試料の密着する割合
が非常に少なく不経済であった。
一方、ガス溶射法は、高温度が得られす、高融点の溶射
試料が使用できず、さらに、燃焼ガスの混入があシ、プ
ラズマ溶射法と同様に溶射試料の密着の割合が非常に少
ない。これらは構成上避けることのできない大きな欠点
である。
本発明は、上記の実情に鑑みなされたもので、従来の技
術上の欠点を解決し、品質上、経済上、非常に有効なレ
ーザビームを用いる溶射法を提供することを目的とする
。以下、本発明について説明する。
第１図は、本発明のレーザ溶射法の一実施例の概略構成
図である。基板１の表面近くに溶融用レーザビーム２を
通し、基板１に直接照射しないようにする。基板１は必
要に応じて移動、回転させる。この溶融用レーザビーム
２の中へ溶射試料５を通して溶融させる溶射試料加速装
置３を置く。この加速装置３は、どのような加速方法を
用いても良く、例えば、機械的方法による加速、電界、
磁界による加速、ガスによる加速、超音波による加速、
爆発による加速、もしくは、これらの加速法の複合加速
方法を用いても良い。そして、この加速装置により任意
の角度で基板上に溶射できる。
また、溶融用レーザビーム２を安全に吸収するレーザ吸
収体４を具えている０第１図に示しだ構成図は、溶融用
レーザビーム２、基板１、溶射試料加速装置３、必要に
応じて基板加熱用ヒータ８、（他のレーザビームで加熱
してもよい）そして、レーザビーム吸収体４の位置的関
係を示したもので、夫々の装置の支持体は省いた。
このような構成を用いることにより、従来の溶射法では
行うことができなかった真空中から高圧ガス中において
溶射を行うことが可能になった。経済的には、溶射試料
加速装置の窓を調節することにより微小部の融封が可能
である。
密着した溶射層（コーテング面）には不純物の混入がな
く、高品質のものが得られ応用範囲おいて、安定化した
立方晶のＺｒ０ｚのコーテング面ができる。このＺｒ０
ｚのコーテング面は、高融点で溶射試料が密着するため
に安定化した結晶相ができるので熱的ひすみにも強く、
機械的強度もあυ、イオン伝導度も非常に良好である。
低融点から超高融点の溶射試料のコーテングが可能であ
る。
以上説明したようＫ、本発明のレーザ溶射法は、レーザ
ビームを用いるので溶射試料が低融点から高融点のもの
まで、簡単に溶射すること　２ができ、かつ、レーザビ
ーム中で試料が溶融するので試料の純度がそのま１保た
れ不用な不純物の混入がない。
また、ＺｒＯ２のように安定化した結晶相もでき、カラ
スのようにアモルファスもできるという非常に大きな効
果を有するもので、各種分野に大きな生産手段の改革が
もたらされる０
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の方法による一実施例を説明するための
図である。 図中、１は基板、２は溶融用レーザビーム、３は溶射試
料加速装置、４は溶融用レーザビーム吸収体、５は溶射
試料、６は溶融用レーザビームの中へ溶射試料が加速さ
れ溶融する位置、７は溶射試料が溶射された面、８は基
板加熱月ヒータ（他のレーザビームによって直接加熱し
てもよい）である。 第１図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 溶融用レーザビームを、溶、射する基板に直接当てると
    となく照射し、前記溶融用レーザビームの中に前記基板
    に対して垂直または必要な角度にて溶射試料を加速する
    ことによシ前記溶融用レーザビーム中で前記溶射試料を
    溶融し、この溶射試料を前記基板上に′密着させること
    を特徴とするレーザ溶射法。
JP59094988A 1984-05-12 1984-05-12 レ−ザ溶射法 Granted JPS60238472A (ja)

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JPS6366900B2 JPS6366900B2 (ja) 1988-12-22

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