JPS62224669A - レ−ザセラミツクスコ−テイング方法 - Google Patents
レ−ザセラミツクスコ−テイング方法Info
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- JPS62224669A JPS62224669A JP6893186A JP6893186A JPS62224669A JP S62224669 A JPS62224669 A JP S62224669A JP 6893186 A JP6893186 A JP 6893186A JP 6893186 A JP6893186 A JP 6893186A JP S62224669 A JPS62224669 A JP S62224669A
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- laser beam
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、Ｃ０２レーザなど工業用レーザを用いたギ
ヤや機械部品表面へのセラミックスの被膜形成方法、す
なわちレーザセラミックスコーティング方法に関する。
ヤや機械部品表面へのセラミックスの被膜形成方法、す
なわちレーザセラミックスコーティング方法に関する。
機械部品（ギヤや軸など）や計測用センサなどの表面に
アルミナや窒化ケイ素などのセラミックス被膜を形成さ
せ、耐熱性、耐食性、耐摩耗性などの特性向上を行なう
ことが一般に行なわれている。
アルミナや窒化ケイ素などのセラミックス被膜を形成さ
せ、耐熱性、耐食性、耐摩耗性などの特性向上を行なう
ことが一般に行なわれている。
従来、この種の装置としては第２図に示すものが２例え
ば特開昭５９−１１６３７３号公報に記載されている。
ば特開昭５９−１１６３７３号公報に記載されている。
図において、（１）はｃｏ２レーザ発振器。
（２）ハレーザビームでア）、このレーザビーム（２）
ハ果光レンズ（３）により適正に来光され、コーティン
グ材であるセラミックス材（４）上に照射される。コ−
テイング材（４）や被膜形成が行なわれる基材（５）な
どは、 １０ Ｔｏｒｒ程度の真空チャンバ（６）
内、すなわち真空雰囲気中に設置されており、被膜の密
着強度やコーティング材（４）の蒸着状態を安定化させ
るためのヒータ（刀、（８）も真空チャンバ（６）内に
設置されている。
ハ果光レンズ（３）により適正に来光され、コーティン
グ材であるセラミックス材（４）上に照射される。コ−
テイング材（４）や被膜形成が行なわれる基材（５）な
どは、 １０ Ｔｏｒｒ程度の真空チャンバ（６）
内、すなわち真空雰囲気中に設置されており、被膜の密
着強度やコーティング材（４）の蒸着状態を安定化させ
るためのヒータ（刀、（８）も真空チャンバ（６）内に
設置されている。
次に動作について説明する。
レーザビーム（２）がコーティング材（４）上に照射さ
れると同時にコーティング材（４）表面が加熱され。
れると同時にコーティング材（４）表面が加熱され。
蒸発温度に達すると微粒子（９）となって基材に堆積さ
れ極めて薄い被膜が形成される。なお、Ｕω、ａυ。
れ極めて薄い被膜が形成される。なお、Ｕω、ａυ。
ｕカはレーザビーム（２）を導くためのミラーである。
以上のようにして従来のレーザセラミックスコーティン
グ法はなされていたが、蒸着が進むにつれコーティング
材でめるセラミックス（４）の表面が消耗し、レーザビ
ーム（２）の照射位置が時々刻々と変わるため常に蒸着
状態を安定に維持することは困難であシ、被膜の厚さが
均一にならなかったシ。
グ法はなされていたが、蒸着が進むにつれコーティング
材でめるセラミックス（４）の表面が消耗し、レーザビ
ーム（２）の照射位置が時々刻々と変わるため常に蒸着
状態を安定に維持することは困難であシ、被膜の厚さが
均一にならなかったシ。
大きな粒子が飛散したりして安定にセラミックスコーテ
ィングを行なうことが困難であるという問題点があった
。
ィングを行なうことが困難であるという問題点があった
。
〔問題点を解決するだめの手段」
この発明は上記の問題点を解消するためになされたもの
で、コーティング材であるセラミックス材の形状は棒状
とし、ンーザビーム照射時この棒状セラミックスを軸を
中心として回転させながら軸方向に移動させて、レーザ
ビーム照射位置に棒状セラミックス材の先端部を供給す
るようにしたものである。
で、コーティング材であるセラミックス材の形状は棒状
とし、ンーザビーム照射時この棒状セラミックスを軸を
中心として回転させながら軸方向に移動させて、レーザ
ビーム照射位置に棒状セラミックス材の先端部を供給す
るようにしたものである。
この発明のレーザセラミックスコーティング方法におい
ては、コーティング材であるセラミックス材は軸を中心
として回転させながら軸方向に移動されレザービーム照
射位置に先端部が供給されるので、先端部でのセラミッ
クス材の粒子の蒸発状態が安定する。
ては、コーティング材であるセラミックス材は軸を中心
として回転させながら軸方向に移動されレザービーム照
射位置に先端部が供給されるので、先端部でのセラミッ
クス材の粒子の蒸発状態が安定する。
Ｃ実施例ノ
第１図は、この発明の一実施例のレーザセラミックスコ
ーティング方法を説明するための概念図で、（４）はコ
ーティング材である棒状のセラミックスである。
ーティング方法を説明するための概念図で、（４）はコ
ーティング材である棒状のセラミックスである。
次に一実施例のレーザセラミックスコーティング方法を
説明すると２例えばＣＯ２Ｌ／−ザ発振器から発せられ
たレーザビームは集光レンズにょシ集光されコーティン
グ材である棒状セラミックス材（４）先端部に照射され
る。この時、棒状セラミックス材（４）先端部での蒸発
を均一にするため棒状セラミックス材（４）を軸を中心
として９例えば第１図矢印人で示したように回転させる
と同時に矢印Ｂで示したように軸方向に移動させてレー
ザビーム照射位置に棒状セラミックス材の先端部を供給
する。
説明すると２例えばＣＯ２Ｌ／−ザ発振器から発せられ
たレーザビームは集光レンズにょシ集光されコーティン
グ材である棒状セラミックス材（４）先端部に照射され
る。この時、棒状セラミックス材（４）先端部での蒸発
を均一にするため棒状セラミックス材（４）を軸を中心
として９例えば第１図矢印人で示したように回転させる
と同時に矢印Ｂで示したように軸方向に移動させてレー
ザビーム照射位置に棒状セラミックス材の先端部を供給
する。
棒状セラミックス材（４）はレーザビーム（２１にょシ
蒸発し、微粒子となって基材（５）上に堆積され薄膜。
蒸発し、微粒子となって基材（５）上に堆積され薄膜。
すなわちセラミックス被膜（ｓｌ：）を形成する。
この一実施例のレーザセラミックスコーティング方法に
おいては、コーティング材である棒状セラミックス材（
４）は軸を中心として回転させながら軸方向に移動され
、レーザビーム照射位置にその先端部が供給されるので
、先端部でのセラミックス材の粒子の蒸発状態も安定し
たものが得られ。
おいては、コーティング材である棒状セラミックス材（
４）は軸を中心として回転させながら軸方向に移動され
、レーザビーム照射位置にその先端部が供給されるので
、先端部でのセラミックス材の粒子の蒸発状態も安定し
たものが得られ。
その結果セラミックス被膜（５１）の厚みが均一にな９
、大粒の飛散などの無い高品質な被膜が得られる。
、大粒の飛散などの無い高品質な被膜が得られる。
ここで、棒状セラミックス材（４）先端部のレーザビー
ム照射位置への供給は、棒状セラミックス材の蒸発量、
すなわち即失分に応じて行なわれる。
ム照射位置への供給は、棒状セラミックス材の蒸発量、
すなわち即失分に応じて行なわれる。
なお、上記一実施例においてはｃｏ２ンーザを用いた場
合について説明したが、ＹＡＧレーザなど他のレーザ熱
源あるいは′電子ビームなどの高密度熱源を用いても同
様の効果を奏する。
合について説明したが、ＹＡＧレーザなど他のレーザ熱
源あるいは′電子ビームなどの高密度熱源を用いても同
様の効果を奏する。
この発明は２以上説明したとお９レ一ザビーム照射時コ
ーティング材である棒状セラミックス材を軸を中心とし
て回転させながら軸方向に移動させて、レーザビーム照
射位置に棒状セラミックス材の先端部を供給するように
したので、棒状セラミックス材の先端部の蒸発状態も常
に安定したものが得られ、厚みが均一で、かつ高品質な
セラミック被膜の得られるレーザセラミックスコーティ
ング方法を提供できるという効果がある。
ーティング材である棒状セラミックス材を軸を中心とし
て回転させながら軸方向に移動させて、レーザビーム照
射位置に棒状セラミックス材の先端部を供給するように
したので、棒状セラミックス材の先端部の蒸発状態も常
に安定したものが得られ、厚みが均一で、かつ高品質な
セラミック被膜の得られるレーザセラミックスコーティ
ング方法を提供できるという効果がある。
第１図はこの発明の一実施例のレーザセラミックスコー
ティング方法を説明するだめの概念図。 第２図は従来のレーザセラミックスコーティング方法を
説明する構成図である。 （１１・・・ｃｏ２レーザ発振器、（２）・・・レーザ
ビーム、（３）・・・来光レンズ、（４）・・・セラミ
ックス材、（５）・・・基材。 （６）・・・真空チャンバ、 （５１）・・・セラミ
ックス被膜、（９）・・・微粒子。 なお、同一符号は同−又は相当部分を示す。
ティング方法を説明するだめの概念図。 第２図は従来のレーザセラミックスコーティング方法を
説明する構成図である。 （１１・・・ｃｏ２レーザ発振器、（２）・・・レーザ
ビーム、（３）・・・来光レンズ、（４）・・・セラミ
ックス材、（５）・・・基材。 （６）・・・真空チャンバ、 （５１）・・・セラミ
ックス被膜、（９）・・・微粒子。 なお、同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (3)
- （１）真空雰囲気中に、コーティング材としてセラミッ
クス材を配置し、このセラミックス材にレーザビームを
照射し、上記セラミックス材の粒子を蒸発させ、その蒸
発粒子を基材に堆積させてセラミックス被膜を形成する
方法において、上記セラミックス材の形状は棒状とし、
レーザビーム照射時この棒状セラミックス材をその軸を
中心として回転させながらその軸方向に移動させて上記
棒状セラミックス材の先端部をレーザビーム照射位置に
供給するようにしたことを特徴とするレーザセラミック
スコーティング方法。 - （２）棒状セラミックス材をその蒸発量に応じてその軸
方向に移動させるようにした特許請求の範囲第１項記載
のレーザセラミックスコーティング方法。 - （３）レーザビームはＣＯ＿２レーザビームである特許
請求の範囲第１項または第２項記載のレーザセラミック
スコーティング方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6893186A JPS62224669A (ja) | 1986-03-27 | 1986-03-27 | レ−ザセラミツクスコ−テイング方法 |
| US07/029,543 US4816293A (en) | 1986-03-27 | 1987-03-24 | Process for coating a workpiece with a ceramic material |
| GB8707356A GB2189509B (en) | 1986-03-27 | 1987-03-27 | Process for coating a workpiece with a ceramic material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6893186A JPS62224669A (ja) | 1986-03-27 | 1986-03-27 | レ−ザセラミツクスコ−テイング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62224669A true JPS62224669A (ja) | 1987-10-02 |
Family
ID=13387896
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6893186A Pending JPS62224669A (ja) | 1986-03-27 | 1986-03-27 | レ−ザセラミツクスコ−テイング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62224669A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01208455A (ja) * | 1988-02-15 | 1989-08-22 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ真空蒸着装置 |
| WO2004096705A1 (ja) * | 2003-04-30 | 2004-11-11 | Nec Corporation | ナノカーボン製造装置およびナノカーボンの製造方法 |
| WO2004103901A1 (ja) * | 2003-05-20 | 2004-12-02 | Nec Corporation | カーボンナノホーン集合体の製造方法 |
| JP2012041615A (ja) * | 2010-08-20 | 2012-03-01 | Hamamatsu Photonics Kk | レーザアブレーション装置 |
-
1986
- 1986-03-27 JP JP6893186A patent/JPS62224669A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01208455A (ja) * | 1988-02-15 | 1989-08-22 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ真空蒸着装置 |
| WO2004096705A1 (ja) * | 2003-04-30 | 2004-11-11 | Nec Corporation | ナノカーボン製造装置およびナノカーボンの製造方法 |
| JPWO2004096705A1 (ja) * | 2003-04-30 | 2006-07-13 | 日本電気株式会社 | ナノカーボン製造装置およびナノカーボンの製造方法 |
| JP4581997B2 (ja) * | 2003-04-30 | 2010-11-17 | 日本電気株式会社 | ナノカーボン製造装置およびナノカーボンの製造方法 |
| WO2004103901A1 (ja) * | 2003-05-20 | 2004-12-02 | Nec Corporation | カーボンナノホーン集合体の製造方法 |
| JPWO2004103901A1 (ja) * | 2003-05-20 | 2006-07-20 | 日本電気株式会社 | カーボンナノホーン集合体の製造方法 |
| JP2012041615A (ja) * | 2010-08-20 | 2012-03-01 | Hamamatsu Photonics Kk | レーザアブレーション装置 |
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