JP4552715B2 - 導電性基体の洗浄処理方法 - Google Patents

Description

本発明は、導電性基体の洗浄処理方法に関する。

電子写真感光体（以下、場合により「感光体」という）用の導電性基体（以下、場合により「基体」という）は、加工時に加工油、潤滑油、防錆油などが用いられる。そのため、加工後の基体には必ず油分が残留しており、加えて切削粉や空気中の粉塵、ハンドリング時の人由来の異物などが付着するため、これらの付着物を洗浄してから基体を用いる必要がある。

基体の洗浄方法としては、溶剤、準水系洗浄剤、水系洗浄剤、または純水を用いて洗浄する方法があるが、現在は、オゾン層破壊や地球温暖化、大気汚染などの環境問題及び人体への悪影響などを考慮して塩素系溶剤の削減、全面廃止の方向に移行しており、水系洗浄剤または純水を用いた洗浄方法が行われている。

しかし、単に洗浄液中に基体を浸漬するだけでは十分な洗浄力が得られ難いため、洗浄力を高めるべく、キャビテーション効果を利用した超音波洗浄、ジェットノズルなどによる洗浄液の高圧噴射、ブラシやブレードなどによる摺擦洗浄などの種々の洗浄方法が採用されている。より具体的には、ビロード等の摺擦部材を用いて基体を洗浄する方法（例えば、特許文献１参照）、液体の噴射により基体を洗浄する方法（例えば、特許文献２参照）、有機溶媒中で超音波洗浄後に蒸気洗浄を行う方法（例えば、特許文献３参照）、溶剤中でブラシを用いて摩擦を行う方法（例えば、特許文献４参照）、ドラムの外周面に摺擦する環状のブラシを用いて洗浄液をノズル噴射する方法（例えば、特許文献５参照）等が利用されている。

特開平１−１３０１６０号公報 特開平１−１３０１５９号公報 特開平２−１９８４４９号公報 特開平２−２０１３７３号公報 特開平３−６０７８２号公報

ところで、近年、ゼログラフィー方式の画像形成装置は、各部材、システムの技術進展により、一層の高画質化、長寿命化が図られている。これに伴い、電子写真感光体に対しては、長期に亘って画質欠陥を発生しない品質が従来に増して強く要求されている。

このような品質を有する電子写真感光体を製造するためには、高度に清浄化された基体が必要とされる。これは、異物が付着した基体上に感光層が形成されると、異物が感光体中の不連続点となり、その結果白点又は黒点等のスポット欠陥が発生してしまうからである。また、基体上に油分が残留した場合には、経時による化学的変化や感光体の繰り返し使用による電気的または化学的ストレスによって感光体の局部が変質し、その結果画像ムラなどの画質欠陥が発生してしまう。

しかしながら、上記の各洗浄方法は、いずれも基体に付着した油分や異物の両者を確実に除去できるものではなく、特に、干渉縞対策などの目的で表面に微小な凹凸を形成した基体においては、凹みの細部に付着した油分や異物を除去することは困難であった。そのため、従来の基体の洗浄方法では高品質の電子写真感光体を安定して製造することができず、導電性基体を高度に清浄化できる方法の開発が強く望まれていた。

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、導電性基体を高度に清浄化できる導電性基体の洗浄処理方法を提供することを目的とする。

上記課題を解決するため、本発明の導電性基体の洗浄処理方法は、感光層が形成されて電子写真感光体となるべき導電性基体の洗浄処理方法であって、面積平均直径が０．１μｍ〜１００μｍの気泡を含む水系処理液を、前記導電性基体の表面に接触させる工程を備えることを特徴とする。

ここで、気泡の面積平均直径は、気泡を含有する水系洗浄液をサンプリングしてレーザ回折散乱方式の粒度分布測定装置で測定することにより求めた値を採用する。

本発明の導電性基体の洗浄処理方法によれば、上記工程を経ることによって、表面が高度に清浄化された導電性基体を得ることができる。そして、この導電性基体上に感光層を設けて製造された電子写真感光体は、導電性基体上の異物や油分に起因する画質欠陥が発生せず、長期に亘って優れた画質品質を維持することが可能となる。

上記工程によって導電性基体の表面が高度に清浄化できる要因は必ずしも明らかではないが、本発明者らは以下のように推察する。すなわち、水系処理液に含まれる上記の気泡は、その直径故に長時間液中に滞在することができるとともに、極性を有した帯電状態にあると考えられる。これにより、基体上の異物や油分さらには液中に浮遊する異物や油分と確実に接触し、異物や油分と付着した状態で浮上すると考えられる。つまり、上記工程では、基体から異物や油分が極めて有効に除去されるとともに基体への再汚染が十分に防止される結果、高度に清浄化された導電性基体が得られたものと本発明者らは推察する。

また、上記の直径の気泡は、基体の微小な凹凸部まで進入することが可能であるため、このことも高度な清浄化の達成に寄与していると考えられる。

なお、水系処理液に含まれる気泡の面積平均直径が０．１μｍ未満では、導電性基体を高度に清浄化することは困難である。この理由としては、かかる直径の気泡は浮力が不十分であり、また液中に溶解しやすいため、異物や油分を除去する効果が十分に得られないことが考えられる。

一方、水系処理液に含まれる気泡の平均直径が１００μｍ以上であっても、導電性基体を高度に清浄化することは困難である。この理由としては、液中へのエアーブローによって発生する１００μｍ以上の気泡などでは、空気の圧力効果により基体から異物や油分をはじきとばすため、異物や油分が再び基体に付着する可能性が高くなるためと考えられる。また、１００μｍ以上の気泡では、液中での滞在時間も短く且つ基体の微小な凹凸部まで進入することができないため、基体の凹凸部の窪み部に存在する微細な異物や油分を完全に除去しきれないと考えられる。

また、本発明の処理方法を導電性基体の洗浄処理における最後の濯ぎ工程に適用した場合には、基体上に残留した洗浄剤等の除去を有効に行うことができる。

さらに、本発明の導電性基体の洗浄処理方法において、清浄化の効率をより向上させる観点から、水系処理液中に含まれる気泡の直径の最頻値が０．１μｍ〜１００μｍにあることが好ましい。

ここで、気泡の直径の最頻値は、気泡を含有する水系洗浄液をサンプリングしてレーザ回折散乱方式の粒度分布測定装置で測定することにより求めた値を採用する。

さらに、上記工程において、超音波を印加しつつ上記水系処理液を導電性基体の表面に接触させることが好ましい。超音波の印加によって、洗浄力をさらに向上させることができる。

また、本発明の導電性基体の洗浄処理方法において、導電性基体の表面が粗面化されていてもよい。

近年使用されているレーザビーム光を用いた画像形成装置においては、レーザ光による干渉縞を防止するために、導電性基体の表面を粗面化することが通常行われている。このような基体の表面は、粗面化処理により形成された凹凸のためにさらに清浄化しにくくなっている。そのため、粗面化で使用された研磨粒子やその破片が基体上に残存することに起因するスポット欠陥の発生が大きな問題となっている。

本発明の処理方法によれば、このような粗面化された導電性基体であっても十分高度に清浄化することができるので、レーザビーム光を用いた画像形成装置などの用途に適した高品質の電子写真感光体を効率よく製造することができる。

また、本発明の電子写真感光体は、上記本発明の導電性基体の処理方法により処理された導電性基体と、この基体上に設けられた感光層とを備えることを特徴とする。上述のように、本発明の導電性基体の処理方法により処理された導電性基体は高度に清浄化されているため、本発明の電子写真感光体は、導電性基体上の異物に起因する画質欠陥が発生せず、長期に亘って優れた画質品質を維持することが可能となる。

また、本発明の画像形成装置は、上記本発明の電子写真感光体のいずれかと、電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、帯電した電子写真感光体を露光して静電潜像を形成させる露光装置と、静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置と、トナー像を被転写体に転写する転写装置とを備えることを特徴とする。

また、本発明のプロセスカートリッジは、上記本発明の電子写真感光体のいずれかと、電子写真感光体を帯電させる帯電装置、露光により形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置、電子写真感光体上に残存するトナーを除去するクリーニング装置から選ばれる少なくとも１種とを備えることを特徴とする。

本発明の画像形成装置及びプロセスカートリッジでは、上記本発明の電子写真感光体を備えることから、長期に亘って画質欠陥のない高画質を提供することができる。

本発明よれば、導電性基体を高度に清浄化できる導電性基体の洗浄処理方法を提供することができる。

以下、添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面の説明において、同一または相当要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。

（導電性基体の洗浄処理方法）
本実施形態においては、以下に説明する装置を用いて、平均直径が０．１μｍ〜１００μｍの気泡を含む水系処理液を導電性基体の表面に接触させる。

図１は、本発明の導電性基体の洗浄処理方法（以下、単に、「導電性基体の処理方法」と称する場合がある）に好適に使用される処理装置の一例を示す概略構成図である。図１に示した処理装置１００は、水系処理液１０が収容された処理槽１５と、水系処理液１０中にマイクロバブルを含む水系処理液を供給するマイクロバブル発生器３０と、水系処理液１０に超音波を印加する超音波発振器４０と、水系処理液１０を所定の温度に調整するヒータ５０と、を備える。また、マイクロバブル発生器３０は、マイクロバブルを含む水系処理液を噴出する噴出部３６と、噴出部３６にマイクロバブルを含む水系処理液を供給するポンプ３５と、ポンプ３５に連結され、水系処理液と空気とを混合してマイクロバブルを含む水系処理液を発生させる液−空気混合手段３４と、水系処理液を加圧して液−空気混合手段３４に供給する加圧液供給手段３２と、加圧空気を水−空気混合手段３４に供給する加圧空気供給手段３３とを備えて構成されている。

上記のマイクロバブル発生器３０では、加圧液供給手段３２から送られる水系処理液と、加圧空気供給手段３３から送られる空気とを液−空気混合手段３４内で混合することにより気泡を生ぜしめ、更にポンプ３５の攪拌力等により気泡の切断を進めることにより気泡の細分化を行っている。

また、面積平均直径が０．１μｍ〜１００μｍの気泡を含む水系処理液は、加圧液供給手段３２や加圧空気供給手段３３の供給量を適宜調節することにより得ることができる。また、かかる供給量を変更することにより、気泡の直径をより好ましい範囲に設定することもできる。

ここで、面積平均直径が０．１μｍ〜１００μｍの気泡を含む水系処理液が導電性基体の表面に接触するよう気泡の発生条件を調節する際には、以下の手順で気泡の面積平均直径を確認しながら条件を決定すればよい。先ず、処理槽１５の気泡排出口の位置から気泡を含む水系処理液を１０ｍｌ採取する。次に、採取した水系処理液を、レーザ回折／散乱式の粒度測定装置（堀場製ＬＡ３００）にセットして、面積平均直径を測定する。

さらに、清浄化の効率を向上させる観点から、水系処理液に含まれる気泡の平均直径を０．１μｍ〜５０μｍとすることが好ましい。

また同様に、清浄化の効率を向上させる観点から、０．１μｍ〜１００μｍに気泡の直径の最頻値を示すようにマイクロバブル発生器３０を調節することが好ましく、０．１μｍ〜５０μｍに気泡の直径の最頻値を示すように調節することがより好ましい。この際の条件は、以下の手順で最頻値を確認することを繰り返しながら決定すればよい。先ず、処理槽１５の気泡排出口の位置から気泡を含む水系処理液を１０ｍｌ採取する。次に、採取した水系処理液を、レーザ回折／散乱式の粒度測定装置（堀場製ＬＡ３００）にセットして、気泡の直径の最頻値を測定する。

さらに、本実施形態においてマイクロバブル発生器は、面積平均直径が０．１〜１００μｍの気泡を含む水系処理液を発生できるものであれば上記のものに限られず、他の公知のマイクロバブル発生器を用いてもかまわない。例えば、空気と水の２層流体力学的制御により発生させるマイクロバブル発生装置として、キャビテーションポンプの一次側で気体を吸い込ませ、ポンプの吐出口に取り付けた旋回加速器で安定した混合比率で送り出し、配管先端に付けた分散器のせん断力でマイクロバブルを発生させる方式のものや、特開平１１−３３３４９１号公報に記載の漏斗状の液−空気混合手段を備えるマイクロバブル発生装置、特開２００１−１７９２８６号公報に記載のドリーネ型中空円筒形を有するマイクロバブル発生装置、及び特開２００３−１２６６６５号公報に記載のキャビテーション発生空間を有するマイクロバブル発生装置などが挙げられる。

処理装置１００では、マイクロバブルを含む水系処理液がマイクロバブル発生器３０によって順次供給される。処理槽１５の上面は開口しており、処理槽１５内部はその開口端までマイクロバブルを含む水系処理液１０で満たされている。

また、処理装置１００の場合、処理槽１５にはマイクロバブルを含む水系処理液がマイクロバブル発生器３０によって順次供給されるため、余剰の水系処理液１０は、処理槽１５外周側の開口部近傍に設けられたオーバーフロートラップ７０に貯留される。

なお、図１に示す処理装置１００では、加圧液供給手段３２によって新しい水系処理液が供給されているが、処理槽１５の水系処理液１０を加圧液供給手段３２に送液して、水系処理液を循環させてもよい。

被処理体である導電性基体２０は、浸漬装置６０により開口部から矢印Ｂの方向に引き下げられ、水系処理液１０に浸漬されて所定条件で処理された後、矢印Ａの方向に引き上げられる。

導電性基体２０としては、例えば、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄等の金属及び合金のドラム、ベルト、シート等が挙げられる。基体表面は、素管のままであっても、液体ホーニング処理、サンドブラスト処理、鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削等の前処理が行われているものであってもよい。

ベルト状基体の場合には、基体上に感光層を形成し感光層形成後感光体をカットしてカットした両端部を接合することにより得られるシームドベルトタイプと、フレッキシブルなシームレスベルト基体上に感光層を形成するシームレスベルトタイプとがあるが、いずれのタイプのベルト状基体であっても処理可能である。シームドベルトタイプのベルト状基体としては、ＰＥＴ、ポリイミド、ポリアミドなどの樹脂が挙げられ、シームレスベルトタイプのベルト状基材としては、ニッケルの電鋳ベルト、並びに、ＰＥＴ、ポリイミド、ポリアミドイミド等の樹脂の押し出しフィルム、遠心成型及び浸漬コーティング膜等が挙げられる。そして、ベルト状基体が絶縁性材料の場合には表面にアルミニウムやチタニウムなどの金属あるいは金属酸化物などの導電性材料をコートして導電化処理が行われる。また、基体にカーボンブラック、金属、金属酸化物などの導電性材料を混合して導電化処理を行われたものであってもよい。

導電性基体２０を浸漬する際には、処理槽１５の側部に配置された超音波発振器４０により、水系処理液１０に超音波を加えてもよい。これにより、導電性基体２０からの異物の除去が促進され、基体の処理をより効率的に行なうことができる。また、ヒータ５０によって水系処理液１０を加熱すれば、基体の処理をさらに効率的に行なうことができる。

以下、処理装置１００を用いて行われる導電性基体の処理方法の実施形態についてさらに詳述する。

感光層を形成する前の導電性基体は十分に清浄化されていることが必要であり、清浄化する方法としては、例えば、（１）脱脂処理、（２）スクラブ処理、（３）精密洗浄処理をこの順に行う洗浄方法が挙げられる。

（１）脱脂処理は、通常、水系洗浄液に満たされた洗浄槽に導電性基体を浸漬させ、更に洗浄槽に洗浄液を供給して液がオーバーフローする状態にして、導電性基体を一定時間浸漬させたのち引き上げる工程が行われる。

先ず、処理装置１００を用いた本発明の導電性基体の処理方法を（１）脱脂処理に適用する場合について説明する。この場合、水系処理液１０として、界面活性剤を井水、水道水、蒸留水、イオン交換水、純水等の水に溶解したものを用いることが好ましい。蒸留水、イオン交換水及び純水を用いる場合は、水の電気伝導度を１μＳ／ｃｍ以下に設定するのが好適である。

界面活性剤としては、アニオン型界面活性剤、カチオン型界面活性剤、両性界面活性剤のイオン型界面活性剤及び非イオン型界面活性剤のいずれも使用できる。

アニオン型界面活性剤としては、石鹸等のカルボン酸ナトリウム塩類、高級アルコール硫酸エステル、高級アルキルエーテル硫酸エステル塩、硫酸化油、硫酸化脂肪酸エステル、硫酸化オレフィン等の硫酸エステル塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、パラフィンスルホン酸塩、イゲポンＴ、エアロゾルＯＴ等のスルホン酸塩、高級アルコールリン酸エステル塩等のリン酸エステル塩類等が挙げられる。

カチオン型界面活性剤としては、アミン塩型カチオン界面活性剤や第４級アンモニウムカチオン界面活性剤等が挙げられる。

両面界面活性剤としては、アミノ酸型両性界面活性剤やベタイン型両性界面活性剤等のカルボン酸塩型両性界面活性剤、硫酸エステル塩型両性界面活性剤、スルホン酸塩型両性界面活性剤、リン酸エステル塩型両性界面活性剤が挙げられる。

非イオン型界面活性剤としては、例えば、高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、油脂のエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物等のポリエチレングリコール型、グリセロールの脂肪酸エステル、ペンタエリストールの脂肪酸エステル、ソルビトール及びソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等の多価アルコール類が挙げられる。

上記した界面活性剤のうち、洗浄性の点からアニオン型界面活性剤及び非イオン型界面活性剤を用いることが好ましい。

また、上記の界面活性剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。

水系処理液中の上記界面活性剤の濃度は、０．１〜３０質量％であることが好ましく、２〜１５質量％であることがより好ましい。

さらに水系処理液には、洗浄助剤として、炭酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、珪酸ナトリウム、硫酸ナトリウム等の無機ビルダー、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、有機アミン等の有機ビルダーを添加してもよい。

さらに、水系処理液の温度は、３０℃〜８０℃とすることが好ましい。

また、導電性基体の浸漬時間は、生産性と洗浄効果とを両立させる観点から、１０〜３００秒間とすることが好ましい。

さらに、本実施形態の脱脂処理においては、初めに界面活性剤の濃度が高い水系処理液を用いて導電性基体の処理を行い、その後、界面活性剤の濃度を下げた水系処理液を用い、最後は、界面活性剤を含まない水系処理液によって濯ぎを行うことが好ましい。これらの処理は１つの処理槽で行ってもよいが、生産性の観点から、複数の処理装置１００を並列に設置して順次行うことが好ましい。

濯ぎを目的とする処理に用いる水系処理液は、蒸留水、イオン交換水、純水等の水が好ましい。

（２）スクラブ処理は、通常、脱脂処理を経た導電性基体に処理部材を押し付けて異物を除去する処理であり、必要に応じて用いられる。処理部材は押し付け時に弾性変形する弾性部材が好ましい。弾性部材としては、ブラシ、スポンジ、シート、フィルムなどが挙げられるが、中でもブラシ、及びスポンジが好ましい。弾性部材の材質としては、ナイロン、ポリエチレン等の汎用プラスチックス、及びこれらの発泡体などが好適に用いられる。

上記のスクラブ処理の後に（３）精密洗浄処理を行う。この精密洗浄は、通常、スクラブ処理を経た導電性基体をイオン交換水などの水で満たされた洗浄槽に浸漬させ、さらに洗浄槽に水を供給して、水をオーバーフローさせる状態にして、一定時間洗浄槽に導電性基体を浸漬させたのち引き上げる工程が行われる。

以下、処理装置１００を用いた本発明の導電性基体の処理方法を（３）精密洗浄処理に適用する場合について説明する。

この場合、水系処理液１０として、井水、水道水、蒸留水、イオン交換水、純水等の水を用いることが好ましい。さらに、水の電気伝導度を１μＳ／ｃｍ以下に設定するのが好適である。

さらに、水系処理液の温度は、３０℃〜８０℃とすることが好ましい。

また、導電性基体の浸漬時間は、生産性と洗浄効果とを両立させる観点から、１０〜３００秒間とすることが好ましい。

さらに、本実施形態の精密洗浄処理においては、効率よく高度に清浄化された導電性基体を得る観点から、複数の処理装置１００を並列に設置して、導電性基体を各処理装置に順次浸漬することが好ましい。この場合、最後の処理においては、生産性及び均一な洗浄の観点から、導電性基体を引き上げる際の速度を、１０〜５０００ｍ／分とすることが好ましい。

上述した（１）脱脂処理、（２）スクラブ処理、（３）精密洗浄処理は必ずしもこの順で全てを行う必要はなく、必要に応じて一部の処理を省略してもよく、別の処理を追加してもよい。

例えば、干渉縞防止のために導電性基体を粗面化する粗面化処理を行ってもよい。この粗面化処理は、通常、（１）脱脂処理の後に行われるが、（１）脱脂処理の前に行われてもよい。

粗面化処理としては、具体的には、液体ホーニング処理法が挙げられる。この処理法は、研磨剤を水中に懸濁させて高速度で基体に吹き付けることにより基体の表面を粗面化する方法である。

研磨剤は、粒径が１０〜１００μｍ、硬度がヌープ硬さで８００〜５０００ｋｇ／ｍｍ^２、比重が１〜１０の範囲にある微粉末が用いられ、形状は特に制限がないが球状のものが好ましく用いられる。研磨剤の材質としては、鉄、ガラス、アルミナ、フェライト、ジルコニア、酸化クロム、炭化珪素、炭化ほう素、窒化ほう素、エポキシ樹脂、ＰＭＭＡ樹脂粒子等が挙げられる。

干渉性抑制効果及び画質欠陥の防止の観点から、粗面化処理後の導電性基体の表面粗さは、中心線平均粗さＲａで０．１〜０．５μｍの範囲に設定することが好ましい。ホーニング処理による導電性基体の平滑度は、研磨剤の形状、大きさ、硬さ、比重、吹き付け圧力、吹き付け速度、吹き付け量、懸濁液濃度等により適宜制御することができる。上記の粗度を得るために、例えば、吹き付け速度は１０〜１５０ｍ／ｓｅｃ、吹き付け圧力は０．１〜１０ｋｇ／ｃｍ^２の範囲で調整される。

また表面に形成される凹凸の山間の平均距離Ｓｍは１０〜８０μｍ程度に形成されることが好ましい。ここで、山間の平均距離Ｓｍは、ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４の方法に基づいて求めた値を採用する。

（１）脱脂処理の前に上記の粗面化処理が行われる場合、（１）脱脂処理及び（３）精密洗浄処理において、粗面化された導電性基体が被処理体となる。

また、（１）脱脂処理の後に上記の粗面化処理が行われる場合、（３）精密洗浄処理において、粗面化された導電性基体が被処理体となる。

本発明の導電性基体の処理方法によれば、被処理体が粗面化された導電性基体であっても、高度に清浄化された導電性基体を得ることが可能であるが、より確実かつより容易に清浄化を達成する観点から、上記で説明した実施形態においてさらに気泡の直径を調節することが好ましい。

具体的には、（１）脱脂処理及び（３）精密洗浄処理のいずれの場合においても、粗面化された導電性基体表面の凹凸の山間の平均距離Ｓｍよりも気泡の面積平均直径を小さくすることが好ましい。さらに、かかる山間の平均距離Ｓｍよりも気泡の最頻値を小さくすることがより好ましい。

また、本発明の導電性基体の処理方法は、濯ぎを目的とする処理に適用すると特に効果的である。特に、本発明の処理方法を導電性基体の洗浄処理における最後の濯ぎ工程に適用した場合には、基体上に残留した洗浄剤等の除去を有効に行うことができるため、基体上に残留した洗浄剤に起因する長期使用時における画質欠陥を十分防止することができる。

（３）精密洗浄処理を経た導電性基体は、公知の乾燥処理方法、例えばクリーン度１００に保たれた乾燥室で２０〜８０℃の熱風（風速１〜３０ｍ／ｓ）を０．５〜５分吹付けることにより乾燥させる。さらに、この基体をクリーン度１００に保たれた調温室に搬送し、エアーブローにより冷却する。その後、導電性基体は電子写真感光体の作製に供される。

（電子写真感光体）
次に、本発明の電子写真感光体の実施形態について説明する。本発明の電子写真感光体は、上述の本発明の導電性基体の処理方法によって得られた導電性基体と、この基体上に設けられた感光層と、を備えて構成される。

感光層を構成する材料としては、例えば、Ｓｅ、Ｓｅ合金、ａ−Ｓｉ、ＺｎＯ等の無機光導電材料、及び、各種化合物から構成される有機光導電材料が挙げられる。また、有機光導電材料を用いる場合には、感光層が電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層に含有する単層型であってもよく、電荷発生材料を含有する電荷発生層と電荷輸送材料を含有する電荷輸送層とに感光層の機能を分離した積層型であってもよい。さらに最表層に表面保護層を有していても構わない。

以下、本発明の電子写真感光体の実施形態について、図面を参照しながら詳述する。図２は本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図２に示される電子写真感光体１は、導電性基体２と、導電性基体２上に設けられた感光層３とから構成されている。感光層３は、導電性支持体２上に、下引層４、電荷発生層５及び電荷輸送層６がこの順序で積層された構造を有している。

導電性基体２は、上述の本発明の導電性基体の処理方法によって処理された導電性基体２０である。

下引層４は、有機金属化合物及び／又は結着樹脂を含有して構成され、例えば、アルミニウム陽極酸化皮膜、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム等の無機層、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、セルロース類、ゼラチン、ポリウレタン、ポリイミド、ポリアミド等の樹脂等の有機層、あるいは、シランカップリング剤、有機ジルコニウムなどの有機金属化合物、またこれらを混合させたもの、さらに樹脂成分を加えたものなどが挙げられる。また、下引き層は、アルミニウム、錫、亜鉛、チタン、などの金属あるいは金属化合物の導電性または半導電性微粒子を含んでいてもよい。下引き層の厚みとしては、０．０５〜３０μｍが好ましい。

電荷発生層５は、電荷発生材料、さらには必要に応じて結着樹脂を含んで構成される。

電荷発生材料としては、例えば、無金属フタロシアニン、銅塩化インジウム、塩化ガリウム、錫、オキシチタニウム、亜鉛、バナジウム等の金属、又は、その酸化物、塩化物の配位したフタロシアニン類が挙げられる。これらの中でも、光感度、電気特性安定性、画質の点で、無金属フタロシアニン、クロロガリウムなどのハロゲン化ガリウムフタロシアニン、ジクロロスズなどのハロゲン化スズフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、オキシチタニルフタロシアニン、クロロインジウムなどのハロゲン化インジウムフタロシアニン、バナジルフタロシアニンから選択される少なくとも１つが好ましい。なお、これら中心金属類については混晶の形で複数併用してもよいし、単品として複数混合してもよい。

また、電荷発生層５がフタロシアニンを含む場合には、分光感度を変えるため、或いは帯電性や残留電位等の電気特性を改良するために、フタロシアニン以外の電荷発生材料を併用して含有させることが好ましい。このようなフタロシアニン以外の電荷発生材料としては、例えば、セレン及びその合金、ヒ素−セレン、硫化カドミニウム、酸化亜鉛、その他の無機光導電物質、アゾ色素、キナクリドン、多環キノン、ピリリウム塩、チアピリリウム塩、インジゴ、チオインジゴ、アントアントロン、ピラントロン、シアニン等が挙げられる。

上記した電荷発生材料の平均粒径としては、１μｍ以下が好ましく、０．５μｍ以下がより好ましく、０．３μｍ以下が特に好ましい。

結着樹脂としては、例えば、ポリビニルアセテート、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリビニルアセトアセタール、ポリビニルプロピオナール、ポリビニルブチラール、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、セルロースエステル、セルロースエーテルなどが挙げられる。

電荷発生層５における電荷発生材料の含有量は、結着樹脂１００質量部に対し、３０〜５００質量部とすることが好ましい。また、電荷発生層５の厚みとしては、０．０５μｍ〜１μｍが好ましく、０．１〜０．５μｍがより好ましい。

電荷発生層５には、必要に応じて、電荷発生層形成時の塗布性を改善するためのレベリング剤、並びに、酸化防止剤及び増感剤等の各種添加剤を添加させることができる。また、電荷発生層５は、電荷発生材料の微粒子が結着樹脂中に分散した状態で結着してなる層であってもよいし、電荷発生材料による蒸着膜であってもよい。

電荷輸送層６は、電荷輸送材料及び結着樹脂を含有して構成される。

電荷輸送材料としては、例えば、２，４，７−トリニトロフルオレノン、テトラシアノキノジメタン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（ｍ−トリル）ベンジジンなどの電子吸引性物質、カルバゾール、インドール、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、オキサジアゾール、ピラゾリン、チアジアゾールなどの複素環化合物、アニリン誘導体、ヒドラゾン化合物、芳香族アミン誘導体、スチルベン誘導体、あるいはこれらの化合物からなる基を主鎖若しくは側鎖に有する重合体などの電子供与性物質等が挙げられる。

結着樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル等のビニル重合体、及びこれらの共重合体、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエステルカーボネート、ポリスルホン、ポリイミド、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、及びこれらの部分的架橋硬化物などが挙げられる。

電荷輸送層６における電荷輸送材料の含有量は、結着樹脂１００質量部に対し、３０〜２００質量部が好ましく、４０〜１５０質量部がより好ましい。また、電荷輸送層６の厚みとしては、５〜５０μｍが好ましく、１５〜３０μｍがより好ましい。

また、電荷輸送層６には、可塑性並びに電荷輸送層形成時の成膜性及び塗布性などを向上させるための、可塑剤、レベリング剤、さらには酸化防止剤、紫外線吸収剤などの添加剤を含んでいてもよい。

下引層４、電荷発生層５及び電荷輸送層６は、上述した各構成材料を含有する塗布液を用いて形成される。塗布液に使用される有機溶剤は、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常のものが挙げられる。これらは、１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。

塗布液に、上記各構成材料を分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いることができる。

下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層用の各塗布液の塗布は、浸漬塗布法、スプレー塗布法、ビード塗布法、ブレード塗布法、ローラー塗布法などの塗布法を用いて行うことができる。

乾燥は、通常、溶剤を蒸発させ、成膜可能な温度で行われる。本実施形態においては、室温での指触乾燥の後に加熱乾燥するのが好ましい。加熱乾燥は、３０〜２００℃の温度で５分〜２時間の範囲の時間で行うことが好ましい。

（画像形成装置）
図３は、本発明の画像形成装置の好適な一実施形態を示す模式図である。図３に示す画像形成装置２００は、画像形成装置本体（図示せず）に、上記本発明の電子写真感光体１を備えるプロセスカートリッジ２２０と、露光装置２３０と、転写装置２４０と、中間転写体２５０とを備える。なお、画像形成装置２００において、露光装置２３０はプロセスカートリッジ２２０の開口部から電子写真感光体１に露光可能な位置に配置されており、転写装置２４０は中間転写体２５０を介して電子写真感光体１に対向する位置に配置されており、中間転写体２５０はその一部が電子写真感光体１に当接可能に配置されている。

プロセスカートリッジ２２０は、ケース内に電子写真感光体１とともに帯電装置２２１、現像装置２２５、クリーニング装置２２７を、取り付けレールにより組み合わせて一体化したものである。なお、ケースには、露光のための開口部が設けられている。

帯電装置２２１は、電子写感光体１を接触方式により帯電させるものであり、例えば、ブラシ帯電器、ロール形状の接触帯電装置などを使用できる。また、本実施形態においては、接触帯電装置の代わりに、コロトロン、スコロトロン、イオン放電器などの非接触型の帯電装置を用いることもできる。

露光装置２３０は、レーザビーム光源、ＬＥＤ、ポリシリコンＴＦＴ駆動蛍光表示素子アレイ、液晶シャッタ露光装置など各種のものを使用することができる。光源の波長は感光体の感度域に合ったものを使用することができる。レーザビーム光源を用いる場合には一般的には赤から近赤外領域に当たる６００〜８５０ｎｍの波長の赤外レーザが使用されるが、ビーム光を小さくする或いは感光体の感度とのマッチングを高める目的で、青色光（３５０〜５００ｎｍ）など低波長側の光源を使用することも可能である。

また、レーザ光源でマルチビーム方式の光源を用いて、１本のレーザ光源でそれぞれの色部分に光を導いて露光する方式も利用することが可能である。ＬＥＤアレイを用いる場合にはレーザスキャナー方式のプリンタと比較するとポリゴンミラーのような回転する部品が無いため高速化及び小型化に有利である。

現像装置２２５は、電子写真感光体１上の静電潜像を現像してトナー像を形成するものである。現像剤としては、公知の１成分、２成分、或いはこの中間にあたる構成の現像剤を用いることができる。また、トナーには混連・粉砕方式のトナーや重合方式のトナーのいずれも使用することができる。トナーの粒径はシステム設定に応じて適宜設定される。トナーの粒径は固体トナーの場合には３〜２０μｍの範囲に設定することが好ましい。また、より好適な画質を得られるように球形トナーを使用することも可能である。

現像装置２２５の現像スリーブは公知のものが使用できる。材質としては、アルミニウム、ステンレス等が使用可能である。現像剤を現像領域に長期にわたって安定して搬送するためには、現像スリーブ表面に溶射処理、サンドブラスト処理、溝付け処理などの表面粗面化処理をすることが有効である。複数のカラートナーを重ね合わすカラー画像を形成する場合には、トナーの混合が少ない非接触現像方式を用いることが有効である。

転写装置２４０は、電子写真感光体１上のトナー像を被転写媒体（中間転写体２５０）に転写するものであればよく、例えば、ロール形状の通常使用されるものが使用される。

中間転写体２５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体２５０の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いることもできる。

クリーニング装置２２７は、ブレードクリーニング、ブラシクリーニング、磁気ブラシクリーニング、エアークリーニングなど公知のものが使用される。また、クリーニング効率の向上と感光体の電位安定化のために、除電露光装置が併設されていてもよい。

上述のように、画像形成装置２００は、本発明の導電性基体の処理方法によって処理された導電性基体２０から作製された電子写真感光体１を備えている。これにより、長期に亘って画質欠陥のない画像を形成することが可能となっている。

また、図４は、本発明の画像形成装置の他の実施形態を示す模式図である。画像形成装置３００は、プロセスカートリッジ２２０を４つ搭載したタンデム方式のフルカラー画像形成装置である。画像形成装置３００では、中間転写体２５０上に４つのプロセスカートリッジ２０がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用できる構成となっている。なお、画像形成装置３００は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置２００と同様の構成を有している。

図５は、本発明の画像形成装置の他の実施形態を示す模式図である。図５に示した画像形成装置４００は、１つの電子写真感光体で複数の色のトナー画像を形成させる、所謂４サイクル方式の画像形成装置である。画像形成装置４００は、駆動装置（図示せず）により所定の回転速度で図中の矢印Ｃの方向に回転される感光体ドラム４０１を備えており、この感光体ドラム４０１は、上述した本実施形態の電子写真感光体１から構成されている。また、感光体ドラム４０１の上方には、感光体ドラム４０１の外周面を帯電させる帯電装置４２２が設けられている。

また、帯電装置４２２の上方には面発光レーザアレイを露光光源として備える露光装置４３０が配置されている。露光装置４３０は、光源から射出される複数本のレーザビームを、形成すべき画像に応じて変調すると共に、主走査方向に偏向し、感光体ドラム４０１の外周面上を感光体ドラム４０１の軸線と平行に走査させる。これにより、帯電した感光体ドラム４０１の外周面上に静電潜像が形成される。

感光体ドラム４０１の側方には現像装置４２５が配置されている。現像装置４２５は回転可能に配置されたローラ状の収容体を備えている。この収容体の内部には４個の収容部が形成されており、各収容部には現像器４２５Ｙ，４２５Ｍ，４２５Ｃ，４２５Ｋが設けられている。現像器４２５Ｙ，４２５Ｍ，４２５Ｃ，４２５Ｋは各々現像ローラ４２６を備え、内部に各々Ｙ，Ｍ，Ｃ，Ｋの色のトナーを貯留している。

画像形成装置４００でのフルカラーの画像の形成は、感光体ドラム４０１が４回転する間に行われる。すなわち、感光体ドラム４０１が４回転する間、帯電装置４２２は感光体ドラム４０１の外周面の帯電、露光装置４２０は、形成すべきカラー画像を表すＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋの画像データのうちの何れかに応じて変調したレーザビームを感光体ドラム４０１の外周面上で走査させることを、感光体ドラム４０１が１回転する毎にレーザビームの変調に用いる画像データを切替えながら繰り返す。また現像装置４２５は、現像器４２５Ｙ，４２５Ｍ，４２５Ｃ，４２５Ｋの何れかの現像ローラ４２６が感光体ドラム４０１の外周面に対応している状態で、外周面に対応している現像器を作動させ、感光体ドラム４０１の外周面に形成された静電潜像を特定の色に現像し、感光体ドラム４０１の外周面上に特定色のトナー像を形成させることを、感光体ドラム４０１が１回転する毎に、静電潜像の現像に用いる現像器が切り替わるように収容体を回転させながら繰り返す。これにより、感光体ドラム４０１が１回転する毎に、感光体ドラム４０１の外周面上には、Ｙ，Ｍ，Ｃ，Ｋのトナー像が互いに重なるように順次形成されることになり、感光体ドラム４０１が４回転した時点で感光体ドラム４０１の外周面上にフルカラーのトナー像が形成されることになる。

また、感光体ドラム４０１の略下方には無端の中間転写ベルト４５０が配設されている。中間転写ベルト４５０はローラ４５１，４５３，４５５に巻掛けられており、外周面が感光体ドラム４０１の外周面に接触するように配置されている。ローラ４５１，４５３，４５５は図示しないモータの駆動力が伝達されて回転し、中間転写ベルト４５０を図１矢印Ｄ方向に回転させる。

中間転写ベルト４５０を挟んで感光体ドラム４０１の反対側には転写装置（転写器）４４０が配置されており、感光体ドラム４０１の外周面上に形成されたトナー像は転写装置４４０によって中間転写ベルト４５０の画像形成面に転写される。

また、感光体ドラム４０１を挟んで現像装置４２５の反対側には、感光体ドラム４０１の外周面に潤滑剤供給装置４２９及びクリーニング装置４２７が配置されている。感光体ドラム４０１の外周面上に形成されたトナー像が中間転写ベルト４５０に転写されると、潤滑剤供給装置４２９により感光体ドラム４０１の外周面に潤滑剤が供給され、当該外周面のうち転写されたトナー像を担持していた領域がクリーニング装置４２７により清浄化される。

中間転写ベルト４５０よりも下方側にはトレイ４６０が配置されており、トレイ４６０内には記録材料としての用紙Ｐが多数枚積層された状態で収容されている。トレイ４６０の左斜め上方には取り出しローラ４６１が配置されており、取り出しローラ４６１による用紙Ｐの取り出し方向下流側にはローラ対４６３、ローラ４６５が順に配置されている。積層状態で最も上方に位置している記録紙は、取り出しローラ４６１が回転されることによりトレイ４６０から取り出され、ローラ対４６３、ローラ４６５によって搬送される。

また、中間転写ベルト４５０を挟んでローラ４５５の反対側には転写装置４４２が配置されている。ローラ対４６３、ローラ４６５によって搬送された用紙Ｐは、中間転写ベルト４５０と転写器４４２の間に送り込まれ、中間転写ベルト４５０の画像形成面に形成されたトナー像が転写装置４４２によって転写される。転写装置４４２よりも用紙Ｐの搬送方向下流側には、定着ローラ対を備えた定着装置４４４が配置されており、トナー像が転写された用紙Ｐは、転写されたトナー像が定着装置４４４によって溶融定着された後に画像形成装置４００の機体外へ排出され、排紙トレイ（図示せず）上に載置される。

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

（実施例１）
アルミニウム素管（Ａ１０５０）をダイヤモンドバイトで鏡面切削加工することにより、厚さ０．７５ｍｍ×外径３０ｍｍ×長さ３４０ｍｍ、表面粗さＲａが０．０３〜０．０４μｍの円筒状の導電性基体を作製した。

次に、この基体に対して、以下の脱脂処理工程、濯ぎ処理工程、粗面化処理工程、スクラブ処理工程、精密洗浄処理工程及び乾燥処理工程をこの順で行った。

（脱脂処理工程）
脱脂処理は、２つの洗浄槽で順次行った。先ず、２つの洗浄槽を用意し、それぞれの洗浄槽には、底部より界面活性剤をイオン交換水に溶解させた洗浄液を供給し、上部からオーバーフローさせた。界面活性剤としては、非イオン性界面活性剤（ライオン（株）製、商品名「ＬＨ−６００Ｆ」）を用い、洗浄液中の界面活性剤の濃度は、第１の洗浄槽では１０〜２０質量％とし、第２の洗浄槽では１〜２質量％とした。また、洗浄液のイオン交換水としては、電気伝導度が０．１μＳ／ｃｍ以下のものを使用した。

上記で作製した導電性基体を、３５℃に保温した第１の洗浄槽に５０秒間浸漬し、続いて、４０℃に保温した第２の洗浄槽に５０秒間浸漬した。

（濯ぎ処理工程）
濯ぎ処理は、２つの濯ぎ槽で順次行った。先ず、２つの濯ぎ槽を用意し、第１の濯ぎ槽には、底部より、電気伝導度が０．１μＳ／ｃｍ以下のイオン交換水を供給し、上部からオーバーフローさせ、第２の濯ぎ槽には、底部より、温純水を供給し、上部からオーバーフローさせた。

上記脱脂処理工程後の導電性基体を、３５℃に保温した第１の濯ぎ槽に５０秒間浸漬し、続いて、３５℃に保温した第２の濯ぎ槽に５０秒間浸漬した。その後、導電性基体を第２の濯ぎ槽から３００ｍ／分の速さで引き上げた。

（粗面化処理工程）
上記濯ぎ処理工程後の導電性基体の表面を、湿式ホーニング装置を用いて粗面化した。この粗面化処理は、研磨材としての粒径３５μｍの酸化アルミニウム（昭和タイタニウム社製、アルナビーズ「ＣＢ−Ａ３５Ｓ」）５．７ｋｇを水５１Ｌに懸濁させた懸濁液を、１０Ｌ／ｍｉｎの流量でガンに送り込み、０．１〜０．２ＭＰａの圧縮空気圧で導電性基体の表面に吹きつけることにより行った。なお、粗面化処理は、基体の表面粗さＲａが０．１〜０．３μｍになるようにした。また、基体の表面に形成される凹凸の山間の平均距離Ｓｍ（ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４に基づいて測定）は、６５μｍであった。

（スクラブ処理工程）
上記粗面化処理工程後の導電性基体に対し、以下の方法でスクラブ処理を行った。先ず、基体に井戸水を２５Ｌ／分の割合で６０秒間吹きかけた。その後、０．２質量％の非イオン性界面活性剤（ライオン（株）製、商品名「ＬＨ−６００Ｆ」）水溶液を２Ｌ／分の割合で吹きかけながら、押付けブラシを用いてスクラブ処理を行った。押付けブラシは、棒状の軸部材と、軸部材に放射状に取り付けられる多数のナイロン製ブラシとから構成されるものを用い、ブラシの線径は６５μｍ、ブラシ部分の外径は１３０ｍｍ、ブラシ部分の長さは３０ｍｍとした。そして、スクラブ処理は、押付けブラシの軸部材が基体の回転軸と平行になるように且つブラシの先端が基体の表面に接触するように押付けブラシを配置し、基体及び押付ブラシの回転方向を同じ方向とし、回転速度を１００ｒｐｍにして６０秒間行った。

（精密洗浄処理工程）
精密洗浄は４つの精密洗浄槽で順次行った。先ず、４つの精密洗浄槽を用意し、各洗浄槽には、底部よりイオン交換水を供給し、上部からオーバーフローさせた。さらに、第１の洗浄槽には、マイクロバブル発生器を設けてマイクロバブルが含まれるイオン交換水を供給した。このときのバブル流量は、２０Ｌ／分とした。イオン交換水に含まれる気泡の面積平均直径は１５μｍであり、気泡の最頻値は１５μｍであった。なお、気泡の面積平均直径の測定及び最頻値の測定は、以下の方法により行った。先ず、気泡を含むイオン交換水が供給されている精密洗浄槽のバブル発生の位置からイオン交換水を１０ｍｌ採取した。次に、採取したイオン交換水を、堀場社製レーザ回折／散乱式粒度分布測定装置ＬＡ３００にて気泡粒度の測定を行いた。なお、測定装置の分解能は０．１μｍである。また、洗浄槽内のイオン交換水の温度及び測定時のイオン交換水温度は２０℃とした。この測定結果から、気泡の面積平均直径と、個数の最大値を示す直径を最頻値として求めた。

最初の精密洗浄槽では、液温３５℃の洗浄液中にスクラブ処理工程後の基体を５分間浸漬した後、３００ｍｍ／分の速度でゆっくりと引き上げて洗浄した。次に、２番目の精密洗浄槽では、液温３５℃の洗浄液中に基体を５０秒間浸漬した後、３００ｍｍ／分の速度でゆっくりと引き上げて洗浄した。次に、３番目の精密洗浄槽では、液温６０℃の洗浄液中に基体を５０秒間浸漬した後、３００ｍｍ／分の速度でゆっくりと引き上げて洗浄した。そして、最後の精密洗浄槽では、液温５０℃の洗浄液中に基体を２０秒浸漬した後、３００ｍｍ／分の速度でゆっくりと引き上げて洗浄した。

（乾燥処理工程）
上記精密洗浄処理工程後の導電性基体を、クリーン度１００に保たれた乾燥室で１３５℃の熱風（風速０．５ｍ／ｓ）を１．５分吹付けることにより乾燥させた。次に、この基体をクリーン度１００に保たれた調温室に搬送し、２３℃のエアー（風速０．５ｍ／ｓ）を３００秒吹き付けることにより冷却を行った。

（電子写真感光体の作製）
上記乾燥処理工程を経た導電性基体上に、以下の手順で下引層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を作製した。

先ず、有機ジルコニウム化合物（商品名：オルガチックスＺＣ５４０、松本製薬（株）製）１００質量部、シランカップリング剤（商品名：Ａ１１００、日本ユニカー（株）製）１０質量部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−Ｓ、積水化学（株）製）１０質量部及びｎ−ブチルアルコール１３０質量部を混合して下引層形成用塗布液を調製した。

得られた下引層形成用塗布液を、導電性基体上に浸漬塗布法により塗布し、これを１４０℃で１５分間加熱して、厚さ１．０μｍの下引層を形成した。

次に、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学（株）製）の２質量％シクロヘキサノン溶液に、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を、顔料と樹脂との質量比が２：１となるように混合し、次いでサンドミルにより３時間分散処理を行い、更に酢酸ｎ−ブチルで希釈して電荷発生層形成用塗布液を調製した。

得られた電荷発生層形成用塗布液を、下引層上に浸漬塗布法により塗布し、これを風乾して、厚さ０．１５μｍの電荷発生層を形成した。

次に、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（ｍ−トリル）ベンジジン４質量部及びポリカーボネートＺ樹脂６質量部をモノクロロベンゼン３６質量部に溶解させ電荷輸送層形成用塗布液を調製した。

得られた電荷輸送層形成用塗布液を、電荷発生層上に浸漬塗布法により塗布し、これを１１５℃で４０分間加熱して、厚さ２４μｍの電荷輸送層を形成することにより、実施例１の電子写真感光体を作製した。

（実施例２）
精密洗浄処理工程において、第１の洗浄槽の洗浄液中に含まれる気泡の面積平均直径が５μｍの範囲内となり、気泡の直径の最頻値が５μｍとなるようにマイクロバブル発生器を調節したこと以外は実施例１と同様にして、実施例２の電子写真感光体を作製した。

（実施例３）
精密洗浄処理工程において、各精密洗浄槽に超音波発振器を設けて、洗浄中に常時超音波が印加されるようにしたこと以外は実施例１と同様にして、実施例３の電子写真感光体を作製した。

（比較例１）
精密洗浄処理工程において、気泡を含むイオン交換水の供給を行わなかったこと以外は実施例１と同様にして、比較例１の電子写真感光体を作製した。

（比較例２）
精密洗浄処理工程において、マイクロバブル発生器によって気泡を含むイオン交換水を供給する代わりに、エアストンを通じて圧力空気を洗浄槽内に送り込むことによりのイオン交換水中に気泡を供給したこと以外は実施例１と同様にして、比較例２の電子写真感光体を作製した。なお、イオン交換水中に供給された気泡は、最小の直径が１ｍｍ程度であり、洗浄槽中で成長したもので１ｃｍ程度となっており、気泡を保持した状態でのサンプル採取ができないため前記堀場社製レーザ回折／散乱式粒度分布測定装置ＬＡ３００では計測できないものであった。

＜欠陥発生率の評価＞
実施例１〜３、比較例１及び２の電子写真感光体、それぞれ１０００本について、ＣＣＤカメラと顕微鏡とからなる表面欠陥評価装置を用いて電子写真感光体表面における直径が２０μｍ以上の異物の有無を確認し、２０μｍ以上の異物が認められた電子写真感光体の割合（欠陥発生率）を算出した。得られた結果を表１に示す。

＜画質欠陥の評価＞
実施例１〜３、比較例１及び２の電子写真感光体のうち、上記表面欠陥が見られなかったものを５本選択し、これらの電子写真感光体をマルチファンクションナルプリンター（富士ゼロックス社製、「Ａｂｌｅ−３３２１」：接触帯電ロールを備える接触帯電方式）に搭載し、中間調濃度を含む画像を連続５００００枚出力する試験を行った。連続５００００枚出力後の出力画像に、ハーフトーン画像のムラ、白点又は黒点の発生が見られた場合を、表１の画質欠陥の有無の欄に「あり」で示し、ハーフトーン画像のムラ、白点又は黒点の発生が見られなかった場合を「なし」で示した。

表１に示されるように、実施例１〜３で作製される電子写真感光体は、欠陥発生率が極めて小さく、長期に亘って画質欠陥のない画像を形成できることが確認された。一方、比較例１及び２で作製される電子写真感光体は、欠陥発生率が高く、５００００枚の出力試験においても画質欠陥の発生が見られた。この画質欠陥の発生が見られた電子写真感光体について、ハーフトーン画像のムラ、白点又は黒点に対応する部分をＳＥＭにより分析したところ、ホーニングによって形成された基体の凹部に数μｍの汚染物質が付着していたのが観察された。

本発明の導電性基体の処理方法に使用される処理装置の一例を示す概略構成図である。 本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。 本発明の画像形成装置の好適な一実施形態を示す模式図である。 本発明の画像形成装置の他の実施形態を示す模式図である。 本発明の画像形成装置の他の実施形態を示す模式図である。

符号の説明

１…電子写真感光体、２…導電性基体、３…感光層、４…下引層、５…電荷発生層、６…電荷輸送層、１０…水系処理液、１５…処理槽、２０…導電性基体、３０…マイクロバブル発生器、３２…加圧液供給手段、３３…加圧空気供給手段、３４…液−空気混合手段、３５…ポンプ、３６…噴出部、４０…超音波発振器、５０…ヒータ、６０…浸漬装置、７０…オーバーフロートラップ、１００…処理装置、２００，３００，４００…画像形成装置、２２０…プロセスカートリッジ、２２１…帯電装置、２２５…現像装置、２２７…クリーニング装置、２３０…露光装置、２４０…転写装置、２５０…中間転写体。

Claims (4)

1. 感光層が形成されて電子写真感光体となるべき導電性基体の洗浄処理方法であって、
   面積平均直径が０．１μｍ〜１００μｍの気泡を含む水系処理液を、前記導電性基体の表面に接触させる工程を備えることを特徴とする導電性基体の洗浄処理方法。
2. 前記水系処理液中に含まれる気泡の直径の最頻値が０．１μｍ〜１００μｍにあること特徴とする請求項１に記載の導電性基体の洗浄処理方法。
3. 前記工程において、超音波を印加しつつ前記水系処理液を導電性基体の表面に接触させることを特徴とする請求項１又は２に記載の導電性基体の洗浄処理方法。
4. 前記導電性基体の表面が粗面化されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の導電性基体の洗浄処理方法。

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