JP4548726B2 - 液晶分子をホメオトロピック配向させた光学素子並びにこれを用いた液晶表示装置及び液晶表示装置 - Google Patents
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Description
その場合、光学素子としては、トリアセチルセルロース(TAC)フィルムを1軸延伸や2軸延伸処理したフィルム材の他、液晶分子を特定方向に配向させて固定した層を用いた光学素子が提案されている。
型液晶ポリマーからなり、ホメオトロピック配向の状態で固定されていても昇温に伴って流動性が増し、熱により複屈折特性が容易に影響を受けてしまうことから、所望の複屈折特性を維持することができる温度範囲が比較的狭い上、液晶ポリマーを固定化した部分の液晶ポリマーの配向性が不均一化し易い。すると、この方法で得られるホメオトロピック配向液晶フィルムは、高い耐熱性が求められる液晶表示装置に用いることが困難なものであり、この液晶フィルムを使用可能な液晶表示装置が限定されてしまう。
型液晶ポリマーからなるので、この方法では、上記した特許文献3に記載されている方法と同様の問題を有している。
(1)光透過性を有する基材と、少なくとも複屈折率層を備える複屈折率機能層とを有する光学素子であって、上記複屈折率層が、末端に重合性基を有する液晶性モノマーをホメオトロピック配向させた状態で固定化してなる構造を有しており、上記複屈折率層内には、上記液晶性モノマーのホメオトロピック配向を促す添加剤が含まれており、且つ上記複屈折率層上面に上記添加剤から構成される添加剤層が存在していないことを特徴とする光学素子、
(2)上記複屈折率機能層が、上記基材上面に形成された垂直配向膜と、上記垂直配向膜の上面に形成された上記複屈折率層とからなることを特徴とする上記(1)に記載の光学素子、
(3)上記添加剤として、上記垂直配向膜に含まれる液晶性モノマーのホメオトロピック配向を促す一の成分或いは二以上の成分が用いられることを特徴とする上記(2)に記載の光学素子、
(4)複屈折率層を構成する液晶性モノマーが、いずれも略均一なチルト角を示して配向していることを特徴とする上記(1)〜(3)のいずれか1つに記載の光学素子、
(5)上記基材と複屈折率機能層との間、又は複屈折率機能層の上面に着色層が形成されていることを特徴とする上記(1)〜(4)のいずれか1つに記載の光学素子、
(6)光透過性を有する層を備えた2つの積層構造体と、上記2つの積層構造体の間に液晶の封入された液晶層と有する液晶表示装置用部材において、少なくとも1つの積層構造体に、上記(1)〜(5)のいずれか1つに記載の光学素子が形成されていることを特徴とする液晶表示装置用部材、
(7)光学素子における複屈折率層が、上記液晶表示装置部材における液晶層側に位置するように形成されていることを特徴とする上記(6)に記載の液晶表示装置用部材、及び
(8)液晶を挟んで両側に偏光板を備えるとともに、電圧を負荷して液晶層の配向を変化させる電極部からなる層とを備える多層構造の液晶表示装置において、上記(6)又は(7)に記載の液晶表示装置用部材が用いられていることを特徴とする液晶表示装置、
を要旨とするものである。
図3に示す本発明の光学素子1aは、光透過性を有する基材2と、垂直配向膜10と、添加剤5を内部に有する複屈折率層4とが順に位置して構成される。尚、光学素子1aでは、複屈折率機能層は、垂直配向膜10及び複屈折率層4から構成されるが、本発明における複屈折率機能層は、これに限定されるものではなく、添加剤5により十分に液晶性モノマー3のホメオトロピック配向が促される場合には、垂直配向膜を必ずしも形成しなくてもよい。
尚、図4〜9に示す本発明は、便宜上、複屈折率層4に存在する添加剤の記載を省略する。
上記透明無機材料としては、ガラス、シリコン、若しくは石英等が挙げられ、中でも熱膨張性が小さく寸法安定性が良好であり、また高温加熱処理における作業性が優れる石英が好ましい。また特に液晶ディスプレー用として本発明のカラーフィルタを用いる場合には、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラスを基板として用いることが好ましい。
一方、上記透明有機材料としては、ポリメチルメタクリレート等のアクリル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、若しくはシンジオタクティック・ポリスチレン等、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、フッ素樹脂、若しくはポリエーテルニトリル等、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリシクロへキセン、若しくはポリノルボルネン系樹脂等、又は、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、若しくは熱可塑性ポリイミド等からなるものを挙げることができるが、一般的なプラスチックからなるものも使用可能である。特に、フィルムとしては、1軸延伸又は2軸延伸したフィルムや、面内にリタデーションを有するTACフィルム等を用いることができる。基板10の厚みは特に限定されないが、用途に応じ0.05mm〜1.5mm程度とすることが一般的である。
垂直配向膜10は、その膜厚が0.01〜1μm程度の範囲であることが好ましい。垂直配向膜10の膜厚が、0.01μmよりも薄いと、液晶をホメオトロピック配向させることが困難になる虞がある。また、垂直配向膜10の膜厚が1μmよりも厚いと、この垂直配向膜10自体が光を乱反射させて光学素子の光透過率が大きく低下する虞がある。
尚、垂直配向膜10を形成するポリイミドとしては、長鎖アルキル基を有するものであることが、光学素子に形成される複屈折率層3の膜厚を広い範囲で選択することができて好ましい。
具体的には、パーフルオロアルキルシラン、ペンタフルオロアルキルシラン、ペンタフルオロフェニルトリメトキシシラン、ペンタフルオロフェニルトリエトキシシラン、ペンタフルオロフェニルプロピルトリメトキシシラン、ペンタフルオロフェニルプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H,-パーフルオロデシルトリメトキシシラン、1H,1H,2H,2H,-パーフルオロデシルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H,-パーフルオロオシルトリメトキシシラン、1H,1H,2H,2H,-パーフルオロオシルトリエトキシシラン、3−(ペプタフルオロイソプロポキシ)プロピルトリメトキシシラン、3−(ペプタフルオロイソプロポキシ)プロピルトリエトキシシラン等のフッ素系シラン化合物を加水分解して得られるフッ素系シランカップリング剤が挙げられる。
尚、図3及び図5では、便宜上、液晶性モノマー3同士の結合状態を示す結合手についての図示を省略している。
複屈折率層組成液における添加剤5として可溶性ポリイミド、ポリアミック酸を配合する場合の配合量は、重合性液晶の総量に対して12.5〜25重量%とすることが好ましく、15〜22.5重量%とすることが更に好ましい。添加剤5である可溶性ポリイミド、ポリアミック酸の配合量が、12.5重量%より小さいと、十分均一にホメオトロピック配向した複屈折率組成物を得ることが困難になる虞があり、25重量%よりも大きいと、光の透過率が低下する虞がある。
また添加剤5としてカップリング剤又は界面活性剤を配合する場合の配合量は、重合性液晶の総量に対して0.001〜5重量%とすることが好ましく、0.01〜1.0重量%とすることがより好ましく、0.05〜0.5重量%とすることが更に好ましい。
さらにまた添加剤5として、上記液晶性モノマーのホメオトロピック配向を促すことのできる化合物を複数組み合わせて用いることもできる。組み合わせる際の配合量は、基材の材質、複屈折率層の膜厚、使用する添加剤の配向規制力等に応じて異なるため、適宜決定することができる。例えば、界面活性剤とシランカップリング剤とを組み合わせて添加剤5とする場合には、使用するシランカップリング剤の配向規制力等に応じて異なるが、質量比で、カップリング剤の固形分の1/100〜1/1程度の範囲内で適宜選択することが好ましい。また市販の垂直配向膜溶液の希釈液を、添加剤5として用いてもよく、この場合には、添加剤5の配合量は、該垂直配向膜溶液の組成比率をそのまま採用することができる。
光重合開始剤としては、例えば、ベンジル(もしくはビベンゾイル)、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4−ベンゾイル−4’メチルジフェニルサルファイド、ベンジルメチルケタール、ジメチルアミノメチルベンゾエート、2−n−ブトキシエチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、メチロベンゾイルフォーメート、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオサントン等を挙げることができる。
また、光重合開始剤及び増感剤は、それぞれ、1種類のみ用いられてもよいし、2種類以上が併用されてもよい。
まず、上記したような材料を用いて界面活性剤を含む膜組成液を調整し、これを光透過性を有する基材2の上面に、フレキソ印刷やスピンコートなどの方法で塗布して垂直配向膜用塗膜を作製し、さらにこの垂直配向膜用塗膜を硬化させることにより、基材に垂直配向膜の形成された垂直配向膜形成基材を得る。
まず、上記複屈折率層組成液をダイコート、バーコート、スライドコート、ロールコート等といった各種印刷法やスピンコートなどの方法で上記垂直配向膜形成基材上に塗布し、複屈折率層組成液の塗布された基材を乾燥させることにより、複屈折率層用塗膜を形成する。このとき、複屈折率層組成液の塗布された基材は大気圧下で自然乾燥することができる。
尚、垂直配向膜形成基材表面の撥水性又は撥油性が高い場合には、液晶をホメオトロピック配向させることが可能な範囲内でUV洗浄やプラズマ処理を介在させることにより、複屈折率層組成液を塗布しようとする垂直配向膜形成基材面の濡れ性を予め高めてもよい。
具体的には、複屈折率層用塗膜を加熱して、複屈折率層用塗膜の温度を、この塗膜中の液晶が液晶相となる温度(液晶相温度)以上、この塗膜中の液晶が等方相(液体相)となる温度未満にすることで、液晶をホメオトロピック配向させる。このとき複屈折率層用塗膜の加熱手段は、特に限定されず、加熱雰囲気下におく手段でもよいし、赤外線で加熱する手段でもよい。
上記架橋工程を終了することにより、基材と、垂直配向膜と、ホメオトロピック配向し、且つ架橋することによって該配向が固定化された液晶性モノマーよりなる複屈折率層を備える液晶層とが形成される。
具体的には、異複屈折率層は、上記した屈折率がnz=nx<nyあるいはnz=ny<nxであるような複屈折率特性を有する層、いわゆる「+Aプレート」として機能する層であってもよく、また、上記した屈折率がnz<nx=nyであるような複屈折率特性を有する層、いわゆる「−Cプレート」として機能する層であってもよい。
図6(a)は、第3の形態の光学素子の実施例における断面構造を示す概略図である。
また、これらの着色画素(12R、12G、12B)に代えて、各色の補色の波長帯の光を透過させる着色画素を用いることも可能である。
尚、液晶表示装置用部材の実施例として、積層構造体の一方において第1の形態の光学素子が形成されている場合について説明する。
図9(a)に示すように、液晶表示装置用部材50aの両外面に偏光板31、31を備えるとともに、液晶表示装置用部材50aの積層構造体14aを構成する基板16と配向膜15との間に介在形成された平坦電極部25と、光照射部30とを設けている。
共通電極27aは、例えばタンタル(Ta)、チタン(Ti)等の金属により形成することができる。
第1の形態の液晶表示装置100aは、液晶表示装置用部材50aに、ホメオトロピック配向の均一性を高めた架橋構造を有する複屈折率層4を有するから、耐熱性が比較的高く、比較的高温環境に曝される車載用の液晶表示装置としても用いることができる。また、第1複屈折率層25の生産コストを抑え易いことから、液晶表示装置を安価に提供することも可能である。また、従来の液晶表示装置では、視野角の狭さを補正するために位相差を補正するフィルム材(位相差制御フィルム)を別体で粘着剤などを用いて貼着していたが、この液晶表示装置では、そのようなフィルム材を設ける必要もなくなり、粘着剤を設けるための厚みが不要となって装置の厚みを薄くすることができるばかりか、粘着剤による光の乱反射や吸収などの虞も低減できる。
この液晶表示装置100bは、液晶表示装置用部材50bの両側面に偏光板31、31を備えるとともに、液晶表示装置用部材50bの積層構造体を構成する基板16、2aの間に電極部29を介在させ、光照射部30を備えている。
画素電極は、酸化インジウムスズ(ITO)等の透明電極材料により形成されている。
適当な洗浄処理を施し、清浄とした基材として低膨張率無アルカリガラス板(コーニング社製1737ガラス 100mm×100mm、厚み0.7mm)を準備した。
重合成液晶モノマーのホメオトロピック配向を促す成分としてポリアミック酸等を含む垂直配向膜溶液として、JALS−2021−R2(JSR社製)を用い、γ−ブチロラクトンで50%に希釈した。
複屈折率層の形成に用いる複屈折率層組成液を以下のとおり調製した。ネマチック液晶層を示す重合可能な液晶性モノマー分子として、[化11]に示される化合物(ただしXの値は6である)20重量部と、光重合開始剤(チバガイギー社製、「イルガキュア907」)0.8重量部と、溶媒としてクロロベンゼン59.2重量部と、上記垂直配向膜形成用溶液JALS−2021−R2をジエチレングリコールジメチルエーテルで12.5%に希釈した溶液20重量部とを混合し、複屈折率層組成液を調製した。
ブラックマトリクス及び赤色(R)、緑色(G)、青色(B)着色画素の着色材料には顔料分散型フォトレジストを用いた。顔料分散型フォトレジストは、着色材料として顔料を用い、分散液組成物(顔料、分散剤及び溶剤を含有する)にビーズを加え、分散機で3時間分散させ、その後ビーズを取り除いた分散液とクリアレジスト組成物(ポリマー、モノマー、添加剤、開始剤及び溶剤を含有する)とを混合したものである。その組成を下記に示す。尚、分散機としては、ペイントシェーカー(浅田鉄工社製)を用いた。
・黒顔料・・・・・14.0重量部
(大日精化工業(株)製TMブラック#9550)
・分散剤・・・・・1.2重量部
(ビックケミー(株)製Disperbyk111)
・ポリマー・・・・・2.8重量部
(昭和高分子(株)製VR60)
・モノマー・・・・・3.5重量部
(サートマー(株)製SR399)
・添加剤・・・・・0.7重量部
(綜研化学(株)製L−20)
・開始剤・・・・・1.6重量部
(2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1)
・開始剤・・・・・0.3重量部
(4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン)
・開始剤・・・・・0.1重量部
(2,4−ジエチルチオキサントン)
・溶剤・・・・・75.8重量部
(エチレングリコールモノブチルエーテル)
・赤顔料・・・・・4.8重量部
(C.I.PR254(チバスペシャリティケミカルズ社製クロモフタールDPP Red BP))
・黄顔料・・・・・1.2重量部
(C.I.PY139(BASF社製パリオトールイエローD1819))
・分散剤・・・・・3.0重量部
(ゼネカ(株)製ソルスパース24000)
・モノマー・・・・・4.0重量部
(サートマー(株)製SR399)
・ポリマー1・・・・・5.0重量部
・開始剤・・・・・1.4重量部
(チバガイギー社製イルガキュア907)
・開始剤・・・・・0.6重量部
(2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4’,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール)
・溶剤・・・・・80.0重量部
(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
・緑顔料・・・・・3.7重量部
(C.I.PG7(大日精化製セイカファストグリーン5316P))
・黄顔料・・・・・2.3重量部
(C.I.PY139(BASF社製パリオトールイエローD1819))
・分散剤・・・・・3.0重量部
(ゼネカ(株)製ソルスパース24000)
・モノマー・・・・・4.0重量部
(サートマー(株)製SR399)
・ポリマー1・・・・・5.0重量部
・開始剤・・・・・1.4重量部
(チバガイギー社製イルガキュア907)
・開始剤・・・・・0.6重量部
(2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4’,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール)
・溶剤・・・・・80.0重量部
(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
・青顔料・・・・・4.6重量部
(C.I.PB15:6(BASF社製ヘリオゲンブルーL6700F))
・紫顔料・・・・・1.4重量部
(C.I.PV23(クラリアント社製フォスタパームRL−NF))
・顔料誘導体・・・・・0.6重量部
(ゼネカ(株)製ソルスパース12000)
・分散剤・・・・・2.4重量部
(ゼネカ(株)製ソルスパース24000)
・モノマー・・・・・4.0重量部
(サートマー(株)製SR399)
・ポリマー1・・・・・5.0重量部
・開始剤・・・・・1.4重量部
(チバガイギー社製イルガキュア907)
・開始剤・・・・・0.6重量部
(2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4’,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール)
・溶剤・・・・・80.0重量部
(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
上記垂直配向膜溶液を用いて、ガラス基材上面にフレキソ印刷方法によりパターニングして厚さ600Åの膜を成膜し、180℃、1時間焼成して、ガラス基材上に垂直配向膜を形成した。次いで、上記垂直配向膜の形成された基板をスピンコーター(MIKASA社製、「商品名1H-360S」)に設置して、予め調製した上記複屈折率層組成液を、乾燥後の膜厚が1.5μm程度となるように上記配向膜上面にスピンコーティングした。尚、本実施例では、液晶溶液を塗布する方法としてスピンコーティング法を採用したが、液晶溶液の塗布方法はこれに限定されず、例えばダイコーティング、スリットコーティング及びこれらを組み合わせた手法を適宜選択することができる。以下に記載する実施例においても同様である。次に、液晶溶液が塗布された基板をホットプレート上で100℃、3分間加熱し、残存溶剤を除去するとともに液晶溶液に含有される液晶性モノマーを垂直方向に配向処理し、液晶溶液により形成された膜が白色から透明となる液晶転移点を目視にて確認することによって液晶分子の配向を確認した。
続いて窒素雰囲気下において、ガラス基材上に配向された液晶層に超高圧水銀灯を有する紫外線照射装置(ハリソン東芝ライティング社製、「商品名TOSCURE 751」)により20mW/cm2の紫外線を10秒照射し、液晶層を構成する液晶性モノマー分子を3次元架橋させて、複屈折率層を備える基材1を形成した。
その後、上記基材1における複屈折率層の耐熱性及密着性を上げるため、230℃で1時間焼成処理を施した。
最後に、基材1の表面(ガラス基材とは反対の面)をプラズマドライエッチングによってエッチングし、表層を約1000Å除去して、本発明の光学素子である実施例1を製造した。尚、プラズマドライエッチングは、アネルバ社製DEA−506Tの装置を用い、酸素ガスを、流量60sccm、ガス圧30mTorrの条件で使用し、RFパワー500W、エッチング時間3分の条件下で行った。
実施例1と同様の方法により基材2を形成し、基材2の表面(ガラス基材とは反対側の面)を研磨装置を用いて1000Å研磨したこと以外は、実施例1の方法と同様に実施例2を製造した。
実施例1と同様の方法により、ガラス基材上面に垂直配向膜及び複屈折率層を備える基材3を形成し、これを比較例1とした。
上述で得られた実施例1、実施例2及び比較例1について、ヘイズの測定を行った。ヘイズの測定は、各光学素子をヘイズの計測機に設置して、JIS K 7136に準拠して測定した。尚、ヘイズの計測機として、日本電色工業社製「NDH−2000」を使用した。
その結果、実施例1及び実施例2の光学素子のヘイズは0.1を下回とり、0.06と低い値を示したのに対し、比較例1のヘイズは、0.1を大きく上回り、1.0と非常に高い値を示した。
実施例1及び実施例2について、基材とは反対側の表面に形成される液晶層の構造を以下の評価方法により確認した。評価方法は、基材とは反対側の表面をエッチングして得られた光学素子の膜厚方向の位相差(膜法線方向から45°傾斜した方向)とヘイズの分布を測定することにより行った。またエッチングした領域における不純物の混在状態を分析した。さらに偏光板クロスニコル下で回転されることにより偏光状態を確認した。尚、上記エッチングは、アネルバ社製DEA−506T装置を用い、エッチングガスとして酸素を使用し、エッチングガス流量60sccm、エッチングガス圧30mTorr、印加する電力500Wの条件で行った。また不純物混在分析試験には、アルバックファイ社製TOF−SIMSにより分析した。
この結果、実施例1及び実施例2では、いずれも表面から約1200Åまでエッチングしても、位相差、ヘイズともに変化が無かった。またこの領域の不純物混在状態を調べたところ、不純物はほとんど検出されなかった。この結果から、実施例1及び2の表面には、不純物として認識される添加剤層が存在しておらず、複屈折率層が露出していることが確認された。
一方、比較例1を上述と同様に評価したところ、表面から約1000Åまでは、ヘイズが非常に高く、また不純物の混在が確認された。これにより、表面から約1000Åまでは液晶層とは異なる層、即ち添加剤層が存在していることが確認された。
以上の結果から、光学素子上面に添加剤層が存在する比較例1では、光学素子のヘイズが高い値を示すが、該添加剤層が除去された実施例1及び実施例2では0.1以下という非常に低い値のヘイズが得られることが確認された。
本発明の光学素子を用いた液晶表示装置として図9(b)に示す液晶表示装置を製造し、実施例3とした。
上記着色層を形成するために、まずガラス基材上面に、上述で調製したBM用フォトレジストをスピンコート法で1.2μmの厚さに塗布し、80℃、3分間の条件でプリベークし、所定のパターンに形成されたマスクを用いて露光(100mJ/cm2)し、続いて0.05%KOH水溶液を用いたスプレー現像を50秒行った後、230℃、30分間ポストベークし、BM基板を作製した。
次に、赤色(R)の顔料分散型フォトレジストを上記BM基板上にスピンコート法で塗布し、90℃、3分間の条件でプリベークし、所定の着色パターン用フォトマスクを用いて、アライメント露光(100mJ/cm2)した。引き続き0.1%KOH水溶液を用いたスプレー現像を50秒行った後、230℃、30分間ポストベークし、BMパターンに対して所定の位置に膜厚1.2μmの赤色(R)着色画素パターンを形成した。
続いて、上記赤色(R)着色画素パターンの形成方法と同様の方法及び条件で、膜厚1.2μmの緑色(G)着色画素パターンを形成した。
さらに、上記赤色(R)着色画素パターンの形成方法と同様の方法及び条件で、膜厚1.2μmの青色(B)着色画素パターンを形成した。
以上により、基板上に、BM、赤色着色画素、緑色着色画素、及び青色着色画素から構成される着色層を形成した。
次に、上記着色層の上面に実施例1と同様の方法で垂直配向膜と複屈折率層とを備える基材4を形成した。
その後、実施例1と同様の方法で基材4の焼成処理を行った。
次いで基材1と同様の方法により、基材4の表面(ガラス基材とは反対の面)を約1000Å除去して、着色層を有する本発明の光学素子を製造した。
そして、上記透明共通電極面と透明画素電極面それぞれを覆うようにポリイミド樹脂塗料を塗布し乾燥して配向膜(厚み0.07μm)を設け、配向処理を施した。次いで、これらの配向膜が向かい会うようにして両基板を対向させ、両基板間をシール部材で封止し、封止された空間に液晶(メルクジャパン社製MLC−6846−000)を注入し、注入口を封止して、液晶表示装置を作製し実施例3とした。
実施例3において形成した着色層を有する基材4の変わりに、複屈折率層の上面の除去を行わない(即ち、複屈折率層上面に添加剤層が存在する)基材5を用いたこと以外は、実施例3と同様に液晶表示装置を作製し、比較例2を製造した。
実施例3及び比較例2の液晶表示装置について次に示すようにコントラスト性能を測定した。
コントラストの性能の測定は、上記製造装置において液晶層を通過した光が偏光板を容易に通過できる状態(明状態)と容易に通過できない状態(暗状態)とを形成し、明状態・暗状態それぞれについて液晶層と偏光板を通過して外部に出た光の輝度を測定した。そして、明状態における輝度を暗状態における輝度で除して得られた数値をコントラスト性能を示す指数とした。
その結果、実施例3のコントラスト性能は、750と液晶表示装置として充分に高い値を示した。一方、比較例2の性能は、450であり、実施例3に比べて著しく低い値を示した。
2 基材
2a 基板
2b 機能性層
2c 機能性層
3、3a、3b 液晶性モノマー
4 複屈折率層
5 添加剤
6 添加剤層
7 表面層
10 垂直配向膜
11 着色層
12 着色画素部
13 遮光部
Claims (8)
- 光透過性を有する基材と、少なくとも複屈折率層を備える複屈折率機能層とを有する光学素子であって、上記複屈折率層が、末端に重合性基を有する液晶性モノマーをホメオトロピック配向させた状態で固定化してなる構造を有しており、上記複屈折率層内には、上記液晶性モノマーのホメオトロピック配向を促す添加剤が含まれており、且つ上記複屈折率層上面に上記添加剤から構成される添加剤層が存在していないことを特徴とする光学素子。
- 上記複屈折率機能層が、上記基材上面に形成された垂直配向膜と、上記垂直配向膜の上面に形成された上記複屈折率層とからなることを特徴とする請求項1に記載の光学素子。
- 上記添加剤として、上記垂直配向膜に含まれる液晶性モノマーのホメオトロピック配向を促す一の成分或いは二以上の成分が用いられることを特徴とする請求項2に記載の光学素子。
- 複屈折率層を構成する液晶性モノマーが、いずれも略均一なチルト角を示して配向していることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学素子。
- 上記基材と複屈折率機能層との間、又は複屈折率機能層の上面に着色層が形成されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学素子。
- 光透過性を有する層を備えた2つの積層構造体と、上記2つの積層構造体の間に液晶の封入された液晶層と有する液晶表示装置用部材において、少なくとも1つの積層構造体に、請求項1〜5のいずれか1項に記載の光学素子が形成されていることを特徴とする液晶表示装置用部材。
- 光学素子における複屈折率層が、上記液晶表示装置部材における液晶層側に位置するように形成されていることを特徴とする請求項6に記載の液晶表示装置用部材。
- 液晶を挟んで両側に偏光板を備えるとともに、電圧を負荷して液晶層の配向を変化させる電極部からなる層とを備える多層構造の液晶表示装置において、請求項6又は7に記載の液晶表示装置用部材が用いられていることを特徴とする液晶表示装置。
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