JP4545028B2 - 蒸着装置 - Google Patents
蒸着装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4545028B2 JP4545028B2 JP2005096582A JP2005096582A JP4545028B2 JP 4545028 B2 JP4545028 B2 JP 4545028B2 JP 2005096582 A JP2005096582 A JP 2005096582A JP 2005096582 A JP2005096582 A JP 2005096582A JP 4545028 B2 JP4545028 B2 JP 4545028B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- evaporation
- adjustment
- chamber
- valve device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims description 99
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 136
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 127
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 78
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 23
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 20
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 20
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 30
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 22
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 7
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 6
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 6
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
この蒸着装置は、蒸着物質を加熱・蒸発させる蒸発源と、蒸発した蒸着物質である蒸発物質を成膜チャンバ内に放出する放出部と、蒸発源から放出部まで蒸発物質を移送する移送部と、移送部に設けられ蒸発物質の移動を制御するバルブと、成膜チャンバ内に放出部と相対する位置に取り付けられた基板とを備えている。
以下に、本発明の実施の形態1に係る蒸着装置について、図面を参照しながら説明する。
ガラス基板1の交換を行う際、第1ストップバルブ5および第2ストップバルブ7は閉じられている。そして、ガラス基板1の交換後の蒸発用容器4内は、温度を一定とした状態で第1ストップバルブ5および第2ストップバルブ7が閉じられていたため、すなわち密閉状態となっていたため、高濃度状態となっている。
[実施の形態2]
以下に、本発明の実施の形態2に係る蒸着装置について、図面を参照しながら説明する。
第1ストップバルブ5、第2ストップバルブ7、第3ストップバルブ27を開いた状態でニードルバルブ26を調整することにより行われていたガラス基板1に対する蒸着作業完了後、まず第1ストップバルブ5および第3ストップバルブ27を閉じて、調整用誘導管8の調整用連通路8aにおける第3ストップバルブ27より下流側の蒸発材料を蒸着用容器3へ放出し、計測センサ14により調整用誘導管8の出口から放出される蒸発材料の流量がほとんどないことを確認した後、第2ストップバルブ7を閉じて、ガラス基板1の交換作業を行う。
3 蒸着用容器(蒸着室)
4 蒸発用容器(蒸発室)
5 第1ストップバルブ(第1弁装置)
6 蒸着用誘導管(蒸着用誘導路)
7 第2ストップバルブ(第2弁装置)
8 調整用誘導管(調整用誘導路)
12 遮蔽板(遮蔽部材)
14 計測センサ(計測手段)
27 第3ストップバルブ(第3弁装置)
S バッファ空間
Claims (4)
- 蒸着材料を加熱して蒸発材料を得る蒸発室と、前記蒸発材料を蒸着させる被蒸着部材が設けられている蒸着室と、前記蒸発室から前記蒸着室に接続されて蒸発材料を移送する蒸着用誘導路とを備えた蒸着装置であって、
前記蒸着用誘導路に介在された第1弁装置と、
一端が前記蒸発室から前記蒸着用誘導路における前記第1弁装置の上流側までの間に接続されるとともに他端が前記蒸着室に接続されて蒸発材料の一部を調整用として取り出す調整用誘導路と、
前記調整用誘導路に介在された第2弁装置と、
前記蒸着室内に、前記調整用誘導路から前記被蒸着部材に向かって放出される蒸発材料が前記被蒸着部材へ飛翔することを遮蔽する遮蔽部材と
を具備し、
調整用誘導路の出口付近に、蒸発材料の流量を計測する計測手段を設けたこと
を特徴とする蒸着装置。 - 蒸発材料を蒸着させる被蒸着部材が設けられている蒸着室内に、蒸着材料を加熱して蒸発材料を得る蒸発室と、前記蒸発室と接続されて蒸発材料を移送する蒸着用誘導路とを備えた蒸着装置であって、
前記蒸着用誘導路に介在された第1弁装置と、
一端が前記蒸発室から前記蒸着用誘導路における前記第1弁装置の上流側までの間に接続されて蒸発材料の一部を調整用として取り出す調整用誘導路と、
前記調整用誘導路に介在された第2弁装置と、
前記調整用誘導路の出口付近に、前記調整用誘導路から前記被蒸着部材に向かって放出される蒸発材料が前記被蒸着部材へ飛翔することを遮蔽する遮蔽部材とを具備し、
調整用誘導路の出口付近に、蒸発材料の流量を計測する計測手段を設けたこと
を特徴とする蒸着装置。 - 調整用誘導路に第3弁装置を設けて、第2弁装置および前記第3弁装置間の調整用誘導路を蒸発室内の蒸発材料を一時貯留するバッファ空間に形成したこと
を特徴とする請求項1または請求項2に記載の蒸着装置。 - バッファ空間の容積は、蒸発室の容積の1割以上であること
を特徴とする請求項3に記載の蒸着装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005096582A JP4545028B2 (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | 蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005096582A JP4545028B2 (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | 蒸着装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006274370A JP2006274370A (ja) | 2006-10-12 |
JP4545028B2 true JP4545028B2 (ja) | 2010-09-15 |
Family
ID=37209403
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005096582A Expired - Fee Related JP4545028B2 (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | 蒸着装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4545028B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5180469B2 (ja) * | 2006-12-25 | 2013-04-10 | パナソニック株式会社 | 真空蒸着装置 |
TWI353389B (en) * | 2007-02-09 | 2011-12-01 | Au Optronics Corp | Evaporation coater and evaporation source replacem |
JP5127372B2 (ja) * | 2007-09-03 | 2013-01-23 | キヤノン株式会社 | 蒸着装置 |
JP5024075B2 (ja) * | 2008-01-28 | 2012-09-12 | パナソニック株式会社 | 真空蒸着装置 |
KR101682348B1 (ko) * | 2008-05-30 | 2016-12-12 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 기판 코팅용 장치 |
CN102639746B (zh) * | 2009-12-09 | 2014-03-12 | 株式会社爱发科 | 有机薄膜的成膜装置以及有机材料成膜方法 |
JP5661416B2 (ja) * | 2010-10-15 | 2015-01-28 | キヤノン株式会社 | 蒸着装置 |
TW201243083A (en) * | 2011-03-16 | 2012-11-01 | Panasonic Corp | Vacuum evaporator |
JP6021377B2 (ja) * | 2012-03-28 | 2016-11-09 | 日立造船株式会社 | 真空蒸着装置および真空蒸着装置におけるるつぼ交換方法 |
JP2013209702A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Nitto Denko Corp | 蒸着装置及び蒸着方法 |
JP2016537507A (ja) * | 2013-11-16 | 2016-12-01 | ヌボサン,インコーポレイテッド | 真空反応器装置内のSe蒸気を監視するための方法 |
WO2017184839A1 (en) * | 2016-04-20 | 2017-10-26 | The Brigham And Women's Hospital, Inc. | Systems and methods for in vivo multi-material bioprinting |
CN114875364A (zh) * | 2022-05-13 | 2022-08-09 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸发源装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002030418A (ja) * | 2000-07-13 | 2002-01-31 | Denso Corp | 蒸着装置 |
JP2005281808A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Tohoku Pioneer Corp | 成膜源、成膜装置、成膜方法、有機elパネルの製造方法、有機elパネル |
-
2005
- 2005-03-30 JP JP2005096582A patent/JP4545028B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002030418A (ja) * | 2000-07-13 | 2002-01-31 | Denso Corp | 蒸着装置 |
JP2005281808A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Tohoku Pioneer Corp | 成膜源、成膜装置、成膜方法、有機elパネルの製造方法、有機elパネル |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006274370A (ja) | 2006-10-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4545028B2 (ja) | 蒸着装置 | |
JP5703224B2 (ja) | 有機材料のための蒸発器、及び、蒸発器を用いて基板を有機材料で被覆するための方法 | |
KR101068597B1 (ko) | 증발 장치 및 박막 증착 장치 및 이의 원료 제공 방법 | |
TWI604076B (zh) | 真空蒸鍍裝置和真空蒸鍍方法 | |
US9909205B2 (en) | Vapor deposition apparatus, vapor deposition method using vapor deposition apparatus, and device production method | |
KR20130113302A (ko) | 진공 증착 방법 및 그 장치 | |
JP2006225725A (ja) | 蒸着装置 | |
KR20110049650A (ko) | 증착장치 및 증착방법 | |
CN105861991A (zh) | 一种线性加热源 | |
JP2015209593A (ja) | 蒸発セル | |
KR20120117632A (ko) | 진공증착장치 | |
KR102084707B1 (ko) | 증착원, 이를 포함한 증착 장치 및 증착 방법 | |
JP5183285B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
KR20100118314A (ko) | 진공증착장치 및 진공증착방법 | |
JP2009299115A (ja) | 蒸着装置 | |
KR20130044269A (ko) | 실시간 증발량 확인이 가능한 박막 증착장치 | |
JP2020193368A (ja) | 加熱装置、蒸発源装置、成膜装置、成膜方法および電子デバイスの製造方法 | |
GB2146046A (en) | Evaporation cell | |
JP6982695B2 (ja) | 蒸着源及び真空処理装置 | |
JP2009228090A (ja) | 蒸着装置及び蒸着源 | |
KR20150114097A (ko) | 실시간 증착두께 모니터링 시스템 및 실시간 증착두께 모니터링 방법 | |
JP4583200B2 (ja) | 蒸着装置 | |
KR20200136802A (ko) | 가열 장치, 증발원 장치, 성막 장치, 성막 방법, 및 전자 디바이스의 제조 방법 | |
JP2015209559A (ja) | 蒸着装置 | |
KR20180073845A (ko) | 증발 증착 장치 및 증발 증착 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071226 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20080430 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100302 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100427 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100601 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100629 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130709 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130709 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |