JP6982695B2 - 蒸着源及び真空処理装置 - Google Patents
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Description
上記蒸発容器は、底部と上記底部に連設された側壁部とを含む容器本体と、上記底部に対向し、噴出ノズルが設けられた天板とを有し、上記容器本体と上記天板とによって囲まれた空間に蒸着材料が収容される。
上記第1加熱機構は、上記側壁部に対向する。
上記第2加熱機構は、上記天板及び上記噴出ノズルのそれぞれの側部に対向し、上記第1加熱機構とは上記底部から上記天板に向かう方向に離間して設けられる。
上記第1リフレクタは、上記第1加熱機構と対向し、上記側壁部の反対側に設けられる。
上記第2リフレクタは、上記第2加熱機構と対向し、上記側部の反対側に設けられ、上記第1リフレクタとは上記方向に離間して設けられる。
10…真空容器
20…基板支持機構
30A、30B、30C、30D、30E…蒸着源
30m…蒸着材料
30s…蒸発面
31…蒸発容器
31b…底部
31w…側壁部
32…噴出ノズル
32c…中心軸
32w…側部
35…フィン
40…冷却機構
50…遮熱板
60…断熱板
70…排気機構
80…制御装置
90…基板
91…基板ホルダ
92…マスク部材
311…容器本体
312…天板
312w…側部
313…係止部
314…表面
315…空間
320…噴出口
331…下部加熱機構
332…上部加熱機構
341…下部リフレクタ
342…上部リフレクタ
501…平板部
502…折曲部
510…孔部
Claims (7)
- 底部と前記底部に連設された側壁部とを含む容器本体と、前記底部に対向し、噴出ノズルが設けられた天板とを有し、前記容器本体と前記天板とによって囲まれた空間に蒸着材料が収容される蒸発容器と、
前記側壁部に対向する第1加熱機構と、
前記天板及び前記噴出ノズルのそれぞれの側部に対向し、前記第1加熱機構とは前記底部から前記天板に向かう方向に離間して設けられた第2加熱機構と、
前記第1加熱機構と対向し、前記側壁部の反対側に設けられた第1リフレクタと、
前記第2加熱機構と対向し、前記側部の反対側に設けられ、前記第1リフレクタとは前記方向に離間して設けられた第2リフレクタと
を具備する蒸着源。 - 請求項1に記載の蒸着源であって、
前記側壁部及び前記側部を囲む冷却機構をさらに具備し、
前記第1リフレクタ及び前記第1加熱機構が前記冷却機構と前記側壁部との間に位置し、
前記第2リフレクタ及び前記第2加熱機構が前記冷却機構と前記側部との間に位置する
蒸着源。 - 請求項1または2に記載の蒸着源であって、
前記蒸発容器の内部において、前記底部と前記天板との間に遮熱板を設け、
前記容器本体と前記遮熱板とによって囲まれた空間に前記蒸着材料が収容され、
前記遮熱板の一部が前記側壁部に接している
蒸着源。 - 請求項1〜3のいずれか1つに記載の蒸着源であって、
前記第1リフレクタと前記第2リフレクタとが離間した空間領域に対向する前記容器本体の表面の熱輻射率は、前記表面以外の前記容器本体の表面の熱輻射率よりも高い
蒸着源。 - 請求項4に記載の蒸着源であって、
前記空間領域に対向する前記容器本体の前記表面は、ブラスト処理面である
蒸着源。 - 請求項1〜5のいずれか1つに記載の蒸着源であって、
前記容器本体の深さdに対する、前記底部からの前記第1加熱機構の高さhは、前記深さdの3分の2以下である
蒸着源。 - 真空容器と、
底部と前記底部に連設された側壁部とを含む容器本体と、前記底部に対向し、噴出ノズルが設けられた天板とを有し、前記容器本体と前記天板とによって囲まれた空間に蒸着材料が収容される蒸発容器と、前記側壁部に対向する第1加熱機構と、前記天板及び前記噴出ノズルのそれぞれの側部に対向し、前記第1加熱機構とは前記底部から前記天板に向かう方向に離間して設けられた第2加熱機構と、前記第1加熱機構と対向し、前記側壁部の反対側に設けられた第1リフレクタと、前記第2加熱機構と対向し、前記側部の反対側に設けられ、前記第1リフレクタとは前記方向に離間して設けられた第2リフレクタとを有する蒸着源と、
前記真空容器内において、前記蒸着源に対向する基板保持機構と
を具備する真空処理装置。
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