JP6982695B2 - 蒸着源及び真空処理装置 - Google Patents
蒸着源及び真空処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6982695B2 JP6982695B2 JP2020544968A JP2020544968A JP6982695B2 JP 6982695 B2 JP6982695 B2 JP 6982695B2 JP 2020544968 A JP2020544968 A JP 2020544968A JP 2020544968 A JP2020544968 A JP 2020544968A JP 6982695 B2 JP6982695 B2 JP 6982695B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating mechanism
- vapor deposition
- deposition source
- top plate
- reflector
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title description 6
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 134
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 109
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 101
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 59
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 37
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 37
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 34
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 16
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 claims description 13
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 claims description 10
- 238000005422 blasting Methods 0.000 claims description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 12
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 12
- 239000010408 film Substances 0.000 description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 3
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 3
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Description
上記蒸発容器は、底部と上記底部に連設された側壁部とを含む容器本体と、上記底部に対向し、噴出ノズルが設けられた天板とを有し、上記容器本体と上記天板とによって囲まれた空間に蒸着材料が収容される。
上記第1加熱機構は、上記側壁部に対向する。
上記第2加熱機構は、上記天板及び上記噴出ノズルのそれぞれの側部に対向し、上記第1加熱機構とは上記底部から上記天板に向かう方向に離間して設けられる。
上記第1リフレクタは、上記第1加熱機構と対向し、上記側壁部の反対側に設けられる。
上記第2リフレクタは、上記第2加熱機構と対向し、上記側部の反対側に設けられ、上記第1リフレクタとは上記方向に離間して設けられる。
10…真空容器
20…基板支持機構
30A、30B、30C、30D、30E…蒸着源
30m…蒸着材料
30s…蒸発面
31…蒸発容器
31b…底部
31w…側壁部
32…噴出ノズル
32c…中心軸
32w…側部
35…フィン
40…冷却機構
50…遮熱板
60…断熱板
70…排気機構
80…制御装置
90…基板
91…基板ホルダ
92…マスク部材
311…容器本体
312…天板
312w…側部
313…係止部
314…表面
315…空間
320…噴出口
331…下部加熱機構
332…上部加熱機構
341…下部リフレクタ
342…上部リフレクタ
501…平板部
502…折曲部
510…孔部
Claims (7)
- 底部と前記底部に連設された側壁部とを含む容器本体と、前記底部に対向し、噴出ノズルが設けられた天板とを有し、前記容器本体と前記天板とによって囲まれた空間に蒸着材料が収容される蒸発容器と、
前記側壁部に対向する第1加熱機構と、
前記天板及び前記噴出ノズルのそれぞれの側部に対向し、前記第1加熱機構とは前記底部から前記天板に向かう方向に離間して設けられた第2加熱機構と、
前記第1加熱機構と対向し、前記側壁部の反対側に設けられた第1リフレクタと、
前記第2加熱機構と対向し、前記側部の反対側に設けられ、前記第1リフレクタとは前記方向に離間して設けられた第2リフレクタと
を具備する蒸着源。 - 請求項1に記載の蒸着源であって、
前記側壁部及び前記側部を囲む冷却機構をさらに具備し、
前記第1リフレクタ及び前記第1加熱機構が前記冷却機構と前記側壁部との間に位置し、
前記第2リフレクタ及び前記第2加熱機構が前記冷却機構と前記側部との間に位置する
蒸着源。 - 請求項1または2に記載の蒸着源であって、
前記蒸発容器の内部において、前記底部と前記天板との間に遮熱板を設け、
前記容器本体と前記遮熱板とによって囲まれた空間に前記蒸着材料が収容され、
前記遮熱板の一部が前記側壁部に接している
蒸着源。 - 請求項1〜3のいずれか1つに記載の蒸着源であって、
前記第1リフレクタと前記第2リフレクタとが離間した空間領域に対向する前記容器本体の表面の熱輻射率は、前記表面以外の前記容器本体の表面の熱輻射率よりも高い
蒸着源。 - 請求項4に記載の蒸着源であって、
前記空間領域に対向する前記容器本体の前記表面は、ブラスト処理面である
蒸着源。 - 請求項1〜5のいずれか1つに記載の蒸着源であって、
前記容器本体の深さdに対する、前記底部からの前記第1加熱機構の高さhは、前記深さdの3分の2以下である
蒸着源。 - 真空容器と、
底部と前記底部に連設された側壁部とを含む容器本体と、前記底部に対向し、噴出ノズルが設けられた天板とを有し、前記容器本体と前記天板とによって囲まれた空間に蒸着材料が収容される蒸発容器と、前記側壁部に対向する第1加熱機構と、前記天板及び前記噴出ノズルのそれぞれの側部に対向し、前記第1加熱機構とは前記底部から前記天板に向かう方向に離間して設けられた第2加熱機構と、前記第1加熱機構と対向し、前記側壁部の反対側に設けられた第1リフレクタと、前記第2加熱機構と対向し、前記側部の反対側に設けられ、前記第1リフレクタとは前記方向に離間して設けられた第2リフレクタとを有する蒸着源と、
前記真空容器内において、前記蒸着源に対向する基板保持機構と
を具備する真空処理装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019163807 | 2019-09-09 | ||
JP2019163807 | 2019-09-09 | ||
PCT/JP2020/026591 WO2021049146A1 (ja) | 2019-09-09 | 2020-07-07 | 蒸着源及び真空処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2021049146A1 JPWO2021049146A1 (ja) | 2021-09-27 |
JP6982695B2 true JP6982695B2 (ja) | 2021-12-17 |
Family
ID=74866084
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020544968A Active JP6982695B2 (ja) | 2019-09-09 | 2020-07-07 | 蒸着源及び真空処理装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6982695B2 (ja) |
KR (1) | KR102604495B1 (ja) |
CN (1) | CN113227442B (ja) |
TW (1) | TWI749707B (ja) |
WO (1) | WO2021049146A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116005114B (zh) * | 2023-01-04 | 2024-07-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀源和蒸镀装置 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100441733C (zh) * | 2004-03-30 | 2008-12-10 | 株式会社延原表 | 蒸镀工序用喷嘴蒸发源 |
KR100685431B1 (ko) * | 2004-11-26 | 2007-02-22 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기물 증착원 |
JP2008024998A (ja) * | 2006-07-24 | 2008-02-07 | Canon Inc | 真空蒸着源および真空蒸着装置 |
JP4831841B2 (ja) * | 2009-07-10 | 2011-12-07 | 三菱重工業株式会社 | 真空蒸着装置及び方法 |
JP5520871B2 (ja) | 2011-03-31 | 2014-06-11 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 蒸着装置 |
JP2014072005A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Hitachi High-Technologies Corp | 蒸発源、真空蒸着装置及び有機el表示装置製造方法 |
JP6223675B2 (ja) * | 2012-11-29 | 2017-11-01 | 株式会社オプトラン | 真空蒸着源及びそれを用いた真空蒸着方法 |
JP2015067846A (ja) * | 2013-09-27 | 2015-04-13 | 株式会社日立ハイテクファインシステムズ | 蒸発源及び真空蒸着装置及び有機el表示装置の製造方法 |
KR102231603B1 (ko) * | 2013-12-26 | 2021-03-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치 |
CN105296934B (zh) * | 2015-11-09 | 2018-06-19 | 合肥欣奕华智能机器有限公司 | 一种线形蒸发源及蒸镀设备 |
CN205133726U (zh) * | 2015-11-26 | 2016-04-06 | 昆山国显光电有限公司 | 蒸镀机的喷嘴系统 |
KR101885092B1 (ko) * | 2016-12-09 | 2018-08-03 | 주식회사 선익시스템 | 리플렉터실드의 온도상승을 억제시키는 증착챔버 |
KR101938219B1 (ko) * | 2017-02-24 | 2019-01-15 | 주식회사 선익시스템 | 선형 증발원용 도가니 및 선형 증발원 |
JP6576009B2 (ja) * | 2017-08-28 | 2019-09-18 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸発源容器及び蒸発源装置 |
CN107400858A (zh) * | 2017-09-18 | 2017-11-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸发源及蒸镀系统 |
JP7058499B2 (ja) * | 2017-12-08 | 2022-04-22 | 住友化学株式会社 | 蒸着源、電子ビーム真空蒸着装置及び電子デバイスの製造方法 |
CN108239749A (zh) * | 2018-01-26 | 2018-07-03 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸镀坩埚及蒸镀机 |
CN110000708A (zh) * | 2019-04-15 | 2019-07-12 | 徐州协鑫太阳能材料有限公司 | 一种改造坩埚粗糙度的方法 |
-
2020
- 2020-07-07 CN CN202080007240.8A patent/CN113227442B/zh active Active
- 2020-07-07 JP JP2020544968A patent/JP6982695B2/ja active Active
- 2020-07-07 WO PCT/JP2020/026591 patent/WO2021049146A1/ja active Application Filing
- 2020-07-07 KR KR1020217016349A patent/KR102604495B1/ko active IP Right Grant
- 2020-08-14 TW TW109127637A patent/TWI749707B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2021049146A1 (ja) | 2021-09-27 |
TWI749707B (zh) | 2021-12-11 |
WO2021049146A1 (ja) | 2021-03-18 |
TW202113108A (zh) | 2021-04-01 |
CN113227442B (zh) | 2023-07-18 |
CN113227442A (zh) | 2021-08-06 |
KR20210087057A (ko) | 2021-07-09 |
KR102604495B1 (ko) | 2023-11-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101465615B1 (ko) | 증발 증착 장치 | |
KR20080044775A (ko) | 증발원 및 이것을 이용한 진공 증착 장치 | |
CN110573647B (zh) | 蒸发源和成膜装置 | |
JP2016540892A5 (ja) | ||
JP2008231573A (ja) | 気化るつぼ、および気化特徴を適合した気化装置 | |
JP6982695B2 (ja) | 蒸着源及び真空処理装置 | |
KR101109690B1 (ko) | 하향식 선형 증발원 및 이를 이용한 박막 형성 장치 | |
KR102295876B1 (ko) | 금속 증착용 도가니 | |
KR101846692B1 (ko) | 스피팅 방지 구조체를 구비한 증착장치용 증발원 | |
JP2023075126A (ja) | 真空チャンバ内で基板をコーティングするための気相堆積装置及び方法 | |
KR101520335B1 (ko) | 기판 증착 장치 | |
JP2020180333A (ja) | 蒸着源、真空処理装置、及び蒸着方法 | |
TWI386499B (zh) | 蒸鍍裝置 | |
JP2020176287A (ja) | 蒸着源及び真空処理装置 | |
KR101772621B1 (ko) | 하향식 증발기 및 하향식 증발 증착 장치 | |
KR101347259B1 (ko) | 대기압 공정 및 연속 공정이 가능한 유기물 증착장치 | |
JP2020132964A (ja) | 蒸着源、真空処理装置、及び蒸着方法 | |
KR20240125604A (ko) | 코팅 소스, 코팅 설비, 및 기판 코팅 방법 | |
KR101243031B1 (ko) | 막두께 측정장치 및 이를 구비한 증착 장비 | |
CN114381693A (zh) | 真空蒸镀装置用的蒸镀源 | |
CN115698368A (zh) | 蒸气沉积设备和用于涂布真空腔室内的基板的方法 | |
KR20060040233A (ko) | 유기물 증착장치 및 그 증착방법 | |
KR20100026883A (ko) | Cvd 장치용 새틀라이트 및 이를 구비하는 cvd 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200826 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210907 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211004 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20211004 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211102 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211119 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6982695 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |