CN113227442A - 蒸镀源以及真空处理装置 - Google Patents

Abstract

抑制由蒸镀材料引起的喷出喷嘴的堵塞。在蒸镀源中，蒸发容器具有容器主体和顶板，容器主体包括底部和与上述底部连接设置的侧壁部，顶板与上述底部相向且设置有喷出喷嘴，在由上述容器主体和上述顶板包围的空间中容纳有蒸镀材料。第一加热机构与上述侧壁部相向。第二加热机构与上述顶板及上述喷出喷嘴的各自的侧部相向，以在从上述底部朝向上述顶板的方向上与上述第一加热机构分离的方式设置。第一反射器与上述第一加热机构相向，设置在与上述侧壁部相反的一侧。第二反射器与上述第二加热机构相向，设置在与上述侧部相反的一侧，以在上述方向上与上述第一反射器分离的方式设置。

Description

蒸镀源以及真空处理装置

技术领域

本发明涉及一种蒸镀源以及真空处理装置。

背景技术

在真空处理装置中，例如有在显示器用的大型基板上蒸镀有机材料的装置。在这样的装置中，使基板和蒸镀源相向，从蒸镀源朝向基板喷出蒸镀材料，从而在基板上对蒸镀材料进行蒸镀。

蒸镀源具有容纳蒸镀材料的蒸发容器(坩埚)、盖住蒸发容器的顶板、设置在顶板上的喷出喷嘴以及对蒸发容器、顶板和喷出喷嘴进行加热的加热机构(例如，参照专利文献1)。若蒸镀材料被加热机构加热，则从喷出喷嘴向基板喷出蒸镀材料。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-214835号公报

发明内容

发明要解决的问题

使用上述那样的真空处理装置的提高生产量的方法之一有延长连续工作时间的方法。但是，蒸镀材料除了附着在基板上，还附着在喷出喷嘴周边的部位。因此，若连续工作时间变长，则喷出喷嘴有可能被沉积在周边部位的蒸镀材料覆盖，喷出喷嘴有可能被蒸镀材料堵塞。

为了防止这样的喷出喷嘴的堵塞，也有加长喷出喷嘴的长度的方法。但是，若喷出喷嘴的长度变长，则喷出喷嘴的前端部容易变冷，蒸镀材料在喷出喷嘴内被捕捉，结果发生蒸镀材料在喷出喷嘴内堵塞等现象。

鉴于上述情况，本发明的目的在于，提供一种抑制由蒸镀材料引起的喷出喷嘴的堵塞并且生产率高的蒸镀源以及真空处理装置。

用于解决问题的手段

为了达成上述目的，本发明的一方式的蒸镀源具有蒸发容器、第一加热机构、第二加热机构、第一反射器以及第二反射器。

上述蒸发容器具有容器主体和顶板，该容器主体包括底部和与上述底部连接设置的侧壁部，该顶板与上述底部相向且设置有喷出喷嘴，在由上述容器主体和上述顶板包围的空间中容纳有蒸镀材料。

上述第一加热机构与上述侧壁部相向。

上述第二加热机构与上述顶板及上述喷出喷嘴的各自的侧部相向，以在从上述底部朝向上述顶板的方向上与上述第一加热机构分离的方式设置。

上述第一反射器与上述第一加热机构相向，设置在与上述侧壁部相反的一侧。

上述第二反射器与上述第二加热机构相向，设置在与上述侧部相反的一侧，以在上述方向上与上述第一反射器分离的方式设置。

根据这样的蒸镀源，抑制由蒸镀材料引起的喷出喷嘴的堵塞，从而提高使用蒸镀源的真空处理的生产率。

在上述蒸镀源中，也可以还具有包围上述侧壁部及上述侧部的冷却机构，上述第一反射器及上述第一加热机构位于上述冷却机构与上述侧壁部之间，上述第二反射器及上述第二加热机构位于上述冷却机构与上述侧部之间。

根据这样的蒸镀源，由于设置有包围蒸发容器的冷却机构，因而更切实地抑制由蒸镀材料引起的喷出喷嘴的堵塞，从而提高使用蒸镀源的真空处理的生产率。

在上述蒸镀源中，也可以在上述蒸发容器的内部，在上述底部与上述顶板之间设置有隔热板，在由上述容器主体和上述隔热板包围的空间中容纳有上述蒸镀材料，上述隔热板的一部分与上述侧壁部接触。

根据这样的蒸镀源，由于在蒸发容器内设置有与容器主体接触的隔热板，因而更切实地抑制由蒸镀材料引起的喷出喷嘴的堵塞，从而提高使用蒸镀源的真空处理的生产率。

在上述蒸镀源中，与上述第一反射器和上述第二反射器分离的空间区域相向的上述容器主体的表面的热辐射率也可以比上述表面以外的上述容器主体的表面的热辐射率高。

根据这样的蒸镀源，由于使容器主体的一部分的表面的热辐射率相对高，因而更切实地抑制由蒸镀材料引起的喷出喷嘴的堵塞，从而提高使用蒸镀源的真空处理的生产率。

在上述蒸镀源中，与上述空间区域相向的上述容器主体的上述表面也可以为喷砂处理面。

根据这样的蒸镀源，由于容器主体的一部分的表面为喷砂处理面，因而更切实地抑制由蒸镀材料引起的喷出喷嘴的堵塞，从而提高使用蒸镀源的真空处理的生产率。

在上述蒸镀源中，相对于上述容器主体的深度d，上述第一加热机构距离上述底部的高度h也可以为上述深度d的三分之二以下。

根据这样的蒸镀源，由于上部加热机构和下部加热机构相隔上述距离，因而更切实地抑制由蒸镀材料引起的喷出喷嘴的堵塞，从而提高使用蒸镀源的真空处理的生产率。

为了达成上述目的，本发明的一方式的真空处理装置具有真空容器、上述蒸镀源以及在上述真空容器内与上述蒸镀源相向的基板保持机构。

根据这样的真空处理装置，抑制由蒸镀材料引起的喷出喷嘴的堵塞，从而提高使用蒸镀源的真空处理的生产率。

发明的效果

如上所述，根据本发明，提供了一种抑制由蒸镀材料引起的喷出喷嘴的堵塞并且生产率高的蒸镀源以及真空处理装置。

附图说明

图1是本实施方式的蒸镀源的示意性剖视图。

图2是本实施方式的蒸镀源的示意性俯视图。

图3是示出本实施方式的真空处理装置的示意性剖视图。

图4是说明蒸镀源的作用的示意性剖视图。

图5是本实施方式的第一变形例的示意性剖视图。

图6是本实施方式的第二变形例的示意性剖视图。

图7是本实施方式的第三变形例的示意性剖视图。

图8是本实施方式的第四变形例的示意性剖视图。

具体实施方式

以下，参照附图说明本发明的实施方式。各附图中有时引入XYZ轴坐标。另外，有时对相同构件或具有相同功能的构件标注相同的附图标记，有时在说明了该构件之后适当省略说明。

图1是本实施方式的蒸镀源的示意性剖视图。图2是本实施方式的蒸镀源的示意性俯视图。图1示出了图2的A1-A1线剖面。在图2中，当从上方观察蒸镀源30A时，为了示出蒸镀源30A中包含的蒸发容器31，省略了绝热板60。

图1所示的蒸镀源30A用作真空处理装置1(图3)的成膜源。蒸镀源30A具有蒸发容器(坩埚)31、下部加热机构(第一加热机构)331、上部加热机构(第二加热机构)332、下部反射器(第一反射器)341、上部反射器(第二反射器)342以及绝热板60。下部加热机构331和上部加热机构332由控制装置80(图3)控制。

蒸发容器31以一个轴方向(在图中为X轴方向)为长边方向延伸。当从Z轴方向俯视观察蒸发容器31时，其外形例如为长方形。蒸发容器31具有容器主体311和顶板312。

容器主体311包括底部31b和与底部31b连接设置的侧壁部31w。顶板312与底部31b相向。顶板312载置在侧壁部31w上。顶板312可以通过嵌入固定于侧壁部31w，也可以通过固定夹具固定于侧壁部31w。另外，也可以在顶板312与侧壁部31w之间配置密封构件。蒸镀材料30m容纳在由容器主体311和顶板312包围的空间315中。蒸镀材料30m例如为有机材料、金属等。在顶板312设置有多个喷出喷嘴32。

多个喷出喷嘴32分别隔着规定的间隔而在蒸发容器31的长边方向(X轴方向)上以列状排列。多个喷出喷嘴32分别与蒸发容器31的空间315连通。从喷出口320喷出填充在蒸发容器31中的蒸镀材料30m。例如，当蒸镀材料30m被下部加热机构331加热时，蒸镀材料30m的蒸汽从蒸镀材料30m的蒸发面30s(空间315与蒸镀材料30m之间的界面)朝向喷出喷嘴32逐渐蒸发。

喷出喷嘴32的喷出口320与基板90(图3)相向。但是，在多个喷出喷嘴32中，为了使X轴方向上的膜厚分布变得更均匀，配置在列的两侧附近的喷出喷嘴32以背向基板90的方式倾斜。例如，多个喷出喷嘴32中的配置在两侧及两侧附近的喷出喷嘴32的中心轴32c与顶板312的法线交叉。

下部加热机构331与侧壁部31w的下部相向。当从Z轴方向观察蒸镀源30A时，下部加热机构331包围容器主体311。下部加热机构331是感应加热方式或电阻加热方式的加热机构。

上部加热机构332与顶板312的侧部312w和绝热板60以下的部分的喷出喷嘴32的侧部32w相向。上部加热机构332没有设置在蒸镀材料30m的蒸发面30s的正上方。上部加热机构332是感应加热方式或电阻加热方式的加热机构。

当将从底部31b朝向顶板312的方向设为Z轴方向时，上部加热机构332以在Z轴方向上与下部加热机构331分离的方式设置。当从Z轴方向观察蒸镀源30A时，上部加热机构332包围顶板312及喷出喷嘴32。上部加热机构332的下端例如位于顶板312的下表面(或容器主体311的上端)。

上部加热机构332借助控制装置80独立于下部加热机构331而被控制。例如，上部加热机构332优先加热顶板312及喷出喷嘴32，下部加热机构331经由容器主体311优先加热蒸镀材料30m。

下部反射器341与下部加热机构331相向。下部反射器341设置在与侧壁部31w相反的一侧。下部加热机构331设置在下部反射器341与侧壁部31w之间。当从Z轴方向观察蒸镀源30A时，下部反射器341包围容器主体311。下部反射器341由至少一层板材构成。与下部加热机构331并排的下部反射器341可以具有支撑下部加热机构331的支撑机构。在该情况下，下部加热机构331所包括的例如加热线被下部反射器341固定支撑。

上部反射器342与上部加热机构332相向。上部反射器342设置在与顶板312的侧部312w相反的一侧。上部反射器342以在Z轴方向上与下部反射器341分离的方式设置。上部加热机构332设置在上部反射器342与顶板312之间。当从Z轴方向观察蒸镀源30A时，上部反射器342包围顶板312。上部反射器342由至少一层板材构成。与上部加热机构332并排的上部反射器342也可以具有支撑上部加热机构332的支撑机构。在该情况下，上部加热机构332所包括的例如加热线被上部反射器342固定支撑。

在蒸镀源30A中，下部加热机构331距离底部31b的高度h被设定为容器主体311的深度d的三分之二以下。另外，在本实施方式中，将与下部加热机构331和上部加热机构332分离的空间区域A'相向的容器主体311的区域设为区域A。在蒸镀刚开始之后，蒸镀材料30m的蒸发面30s的高度位于区域A。在图1中，示出蒸镀材料30m的蒸发进行了规定程度的状态。

绝热板60覆盖上部加热机构332。多个喷出喷嘴32分别以不被绝热板60遮挡的方式贯穿例如绝热板60。绝热板60由至少一层板材构成。

容器主体311、顶板312以及喷出喷嘴32为钛、钼、钽、不锈钢等金属。下部反射器341、上部反射器342的材料例如为不锈钢、铜、铝等金属。

图3是示出本实施方式的真空处理装置的示意性剖视图。

真空处理装置1具有真空容器10、基板支撑机构20、蒸镀源30A、绝热板60以及控制装置80。真空处理装置1是将蒸镀材料30m蒸镀到基板90上的蒸镀装置。

真空容器10是维持减压状态的容器。真空容器10通过排气机构70排出内部的气体。在从基板支撑机构20朝向蒸镀源30A的方向(以下，Z轴方向)上俯视观察真空容器10时，真空容器10的平面形状例如为矩形形状。

真空容器10容纳基板支撑机构20、蒸镀源30A、绝热板60等。可以在真空容器10安装能够供给气体的气体供给机构。另外，也可以在真空容器10安装测量其内部的压力的压力计。另外，也可以在真空容器10设置间接测量基板90上形成的膜的蒸镀速度等的膜厚计(Coating Thickness Gauge)。

基板支撑机构20位于真空容器10的上部。基板支撑机构20在Z轴方向上与蒸镀源30A相向。基板支撑机构20对保持基板90的基板保持器91进行支撑，并将基板90及基板保持器91沿Y轴方向搬运。即，在基板90被搬运的同时，蒸镀材料30m被蒸镀到基板90上。

基板90例如是矩形形状的大型玻璃基板。另外，也可以在基板90与蒸镀源30A之间设置掩模构件92。另外，也可以在基板90的与掩模构件92相反的一侧(基板90的背面侧)设置调节基板90的温度的加热机构。

蒸镀源30A位于真空容器10的下部。蒸镀源30A在Z轴方向上与基板90相向。蒸镀源30A例如固定于未图示的支撑台。蒸镀源30A在与搬运基板90的方向正交的方向(X轴方向)上延伸。蒸镀源30A不限于一个，例如，可以在Y轴方向上并列设置多个。在该情况下，多个蒸发容器31分别在Y轴方向上相互平行地排列。在多个蒸发容器31中分别能够填充种类不同的蒸镀材料30m。

改变蒸镀源30A与基板90的相对距离的搬运机构也可以设置在蒸镀源30A侧。例如，通过蒸镀源30A以及搬运蒸镀源30A的搬运机构相对于被固定的基板90移动，能够改变蒸镀源30A与基板90的相对距离。

对蒸镀源30A的作用进行说明。图4是说明蒸镀源的作用的示意性剖视图。

容纳在蒸发容器31中的蒸镀材料30m被下部加热机构331加热，蒸镀材料30m蒸发，蒸镀材料30m的蒸汽压增加。在此，蒸发容器31内的蒸镀材料30m可以从固体物升华，也可以暂时溶融成液体，然后经由液体蒸发。由此，蒸镀材料30m变为蒸汽流，从多个喷出喷嘴32分别喷出。在图4中，蒸镀材料30m从下部加热机构331接受的热量的流动由箭头h1示意性地示出。

而且，即使蒸镀材料30m的蒸汽入射到顶板312及喷出喷嘴32的各自的内壁上，顶板312及喷出喷嘴32也被上部加热机构332加热。由此，在各自的内壁上，发生蒸镀材料30m的脱离。在图4中，顶板312及喷出喷嘴32从上部加热机构332接受的热量的流动由箭头h2示意性地示出。其结果为，蒸镀材料30m难以沉积在顶板312及喷出喷嘴32的各自的内壁上。

因此，已从蒸发面30s蒸发的蒸镀材料30m不会在蒸发容器31内及喷出喷嘴32内被捕捉，而是经由空间315、喷出喷嘴32朝向基板90蒸发。

另一方面，顶板312通过上部加热机构332接受的热量的一部分经由容器主体311的侧壁部31w而朝向底部31b传递。在图4中，该热量的一部分的流动由箭头h3示意性地示出。

然而，由于容器主体311的A区域相对于加热机构(下部加热机构331、上部加热机构332)以及反射器(下部反射器341、上部反射器342)开放，所以由箭头h3表示的热量经由区域A而向真空容器10内释放。由此，蒸镀材料30m难以受到上部加热机构332的影响，被下部加热机构331优先加热。

如果没有A区域那样的热量释放区域，蒸镀材料30m受到上部加热机构332的影响，则蒸镀材料30m除了被下部加热机构331加热之外，还被上部加热机构332加热。由此，从蒸发面30s蒸发的蒸镀材料30m的蒸发量过剩，与蒸镀材料30m从顶板312及喷出喷嘴32的各自的内壁脱离的量相比，蒸镀材料30m入射到顶板312及喷出喷嘴32的各自的内壁的量增加。其结果为，蒸镀材料30m沉积在顶板312及喷出喷嘴32的各自的内壁上，例如，可能在喷出喷嘴32处发生蒸镀材料30m的堵塞。

在本实施方式中，将上下的加热机构的功能分离，下部加热机构331优先加热蒸镀材料30m，上部加热机构332优先加热顶板312及喷出喷嘴32。换言之，由下部加热机构331加热的部分与由上部加热机构332加热的部分产生温度差。

由此，与蒸镀材料30m入射到顶板312及喷出喷嘴32的内壁的频率相比，蒸镀材料30m从顶板312及喷出喷嘴32的各自的内壁脱离的频率始终保持在更高的状态，从而难以在喷出喷嘴32处发生蒸镀材料30m的堵塞。

另外，在蒸镀源30A中，上部加热机构332在Z轴方向上不与顶板312相向。由此，在对蒸镀源30A进行维护时，上部加热机构332不会妨碍将顶板312从容器主体311拆下的操作，能够简便地将顶板312从容器主体311拆下。另外，由于下部加热机构331也沿着Z轴方向设置，所以即使在将蒸发容器31整体向上方提升时，下部加热机构331及上部加热机构332也不会对该操作造成妨碍。

另外，由于上部加热机构332沿着Z轴方向设置，所以基板90从上部加热机构332接受的热量较少，可抑制上部加热机构332引起的基板90的温度上升。

(第一变形例)

图5是本实施方式的第一变形例的示意性剖视图。

蒸镀源30B还具有冷却机构40。当从Z轴方向观察蒸镀源30B时，冷却机构40包围蒸发容器31。例如，冷却机构40包围容器主体311的侧壁部31w以及顶板312的侧部312w。冷却机构40由在内部埋设有水路的板构件或者在表面固定有水路的板构件构成。

下部反射器341及下部加热机构331位于冷却机构40与侧壁部31w之间。上部反射器342及上部加热机构332位于冷却机构40与侧部312w之间。区域A与冷却机构40相向。

由此，由箭头h3表示的热量(图4)容易被冷却机构40吸收，由箭头h3表示的热量经由区域A而进一步有效地释放到侧壁部31w外。由此，顶板312及喷出喷嘴32更高效地被上部加热机构332加热，蒸镀材料30m更高效地被下部加热机构331加热。

(第二变形例)

图6是本实施方式的第二变形例的示意性剖视图。

在蒸镀源30C中，在蒸发容器31的内部设置有隔热板50。隔热板50设置在底部31b与顶板312之间。蒸镀材料30m容纳在由容器主体311和隔热板50包围的空间315中。隔热板50的一部分与侧壁部31w接触。在侧壁部31w上设置有将隔热板50卡止的卡止部313。

隔热板50具有平板部501和与平板部501连接设置的一对弯曲部502。弯曲部502相对于平板部501交叉，例如大致正交。弯曲部502与侧壁部31w的A区域相向，与侧壁部31w的A区域接触。另外，在平板部501上设置有在Y轴方向上排列设置的多个孔部510。孔部510不限于在Y轴方向上排列设置，也可以在X轴方向上排列设置。已从蒸发面30s蒸发的蒸镀材料30m穿过孔部510而前进到喷出喷嘴32。

由于隔热板50的配置，即使存储在顶板312的余热从顶板312朝向蒸镀材料30m辐射，该辐射热也被隔热板50遮挡。并且，由于隔热板50的弯曲部502与侧壁部31w的A区域接触，所以辐射热难以在隔热板50中蓄积，而是经由弯曲部502及侧壁部31w释放到侧壁部31w外。

这样，在蒸镀源30C中，除了由箭头h3表示的热量(图4)经由区域A释放到侧壁部31w外之外，顶板312中存储的余热被隔热板50遮挡。并且，该余热经由弯曲部502及侧壁部31w释放到侧壁部31w外。由此，顶板312及喷出喷嘴32更高效地被上部加热机构332加热，蒸镀材料30m更高效地被下部加热机构331加热。

(第三变形例)

图7是本实施方式的第三变形例的示意性剖视图。

在蒸镀源30D中，区域A中的容器主体311的表面314的热辐射率比表面314以外的容器主体311的表面的热辐射率相对高。例如，表面314具有比表面314以外的表面粗糙度粗糙的表面粗糙度，例如，选择性地为由陶瓷珠喷砂(Ceramic Beads Blast)处理的喷砂处理面。例如，表面314的热辐射率为0.3以上，而表面314以外的表面的热辐射率设定为0.2以下。

如果是这样的结构，则由箭头h3表示的热量(图4)经由表面311更高效地释放到侧壁部31w外，因此，顶板312及喷出喷嘴32更高效地被上部加热机构332加热，蒸镀材料30m更高效地被下部加热机构331加热。

(第四变形例)

图8是本实施方式的第四变形例的示意性剖视图。

在蒸镀源30E中，在区域A中的容器主体311设置有多个翅片35。

如果是这样的结构，则由箭头h3表示的热量(图4)经由多个翅片35更高效地释放到侧壁部31w外，因此，顶板312及喷出喷嘴32更高效地被上部加热机构332加热，蒸镀材料30m更高效地被下部加热机构331加热。

以上，对本发明的实施方式进行了说明，但本发明不仅限于上述实施方式，当然可以进行各种变更。例如，能够将蒸镀源30B、30C、30D、30E中的至少两个蒸镀源进行组合。各实施方式不限于独立的方式，能够在技术上可行的范围内进行组合。

另外，本说明书中的“相向”除了指某构件直接面对着另一构件的情况之外，还包括某构件经由第三构件面对着另一构件的情况。在后者的情况下，第三构件的至少一部分位于某构件与另一构件之间。

附图标记说明

1：真空处理装置、

10：真空容器、

20：基板支撑机构、

30A、30B、30C、30D、30E：蒸镀源、

30m：蒸镀材料、

30s：蒸发面、

31：蒸发容器、

31b：底部、

31w：侧壁部、

32：喷出喷嘴、

32c：中心轴、

32w：侧部、

35：翅片、

40：冷却机构、

50：隔热板、

60：绝热板、

70：排气机构、

80：控制装置、

90：基板、

91：基板保持器、

92：掩模构件、

311：容器主体、

312：顶板、

312w：侧部、

313：卡止部、

314：表面、

315：空间、

320：喷出口、

331：下部加热机构、

332：上部加热机构、

341：下部反射器、

342：上部反射器、

501：平板部、

502：弯曲部、

510：孔部。

Claims (7)

1.一种蒸镀源，其特征在于，具有：

蒸发容器，具有容器主体和顶板，所述容器主体包括底部以及与所述底部连接设置的侧壁部，所述顶板与所述底部相向且设置有喷出喷嘴，在由所述容器主体和所述顶板包围的空间中容纳有蒸镀材料；

第一加热机构，与所述侧壁部相向；

第二加热机构，与所述顶板及所述喷出喷嘴的各自的侧部相向，以在从所述底部朝向所述顶板的方向上与所述第一加热机构分离的方式设置；

第一反射器，与所述第一加热机构相向，设置在与所述侧壁部相反的一侧；以及

第二反射器，与所述第二加热机构相向，设置在与所述侧部相反的一侧，以在所述方向上与所述第一反射器分离的方式设置。

2.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，

还具有包围所述侧壁部及所述侧部的冷却机构，

所述第一反射器及所述第一加热机构位于所述冷却机构与所述侧壁部之间，

所述第二反射器及所述第二加热机构位于所述冷却机构与所述侧部之间。

3.根据权利要求1或2所述的蒸镀源，其特征在于，

在所述蒸发容器的内部，在所述底部与所述顶板之间设置有隔热板，

在由所述容器主体和所述隔热板包围的空间中容纳有所述蒸镀材料，

所述隔热板的一部分与所述侧壁部接触。

4.根据权利要求1～3中的任一项所述的蒸镀源，其特征在于，

与所述第一反射器和所述第二反射器分离的空间区域相向的所述容器主体的表面的热辐射率比所述表面以外的所述容器主体的表面的热辐射率高。

5.根据权利要求4所述的蒸镀源，其特征在于，

与所述空间区域相向的所述容器主体的所述表面为喷砂处理面。

6.根据权利要求1～5中的任一项所述的蒸镀源，其特征在于，

相对于所述容器主体的深度d，所述第一加热机构距离所述底部的高度h为所述深度d的三分之二以下。

7.一种真空处理装置，其特征在于，具有：真空容器、蒸镀源以及在所述真空容器内与所述蒸镀源相向的基板保持机构，

所述蒸镀源具有：

蒸发容器，具有容器主体和顶板，所述容器主体包括底部以及与所述底部连接设置的侧壁部，所述顶板与所述底部相向且设置有喷出喷嘴，在由所述容器主体和所述顶板包围的空间中容纳有蒸镀材料；

第一加热机构，与所述侧壁部相向；

第二加热机构，与所述顶板的侧部相向，以在从所述底部朝向所述顶板的方向上与所述第一加热机构分离的方式设置；

第一反射器，与所述第一加热机构相向，设置在与所述侧壁部相反的一侧；以及

第二反射器，与所述第二加热机构相向，设置在与所述侧部相反的一侧，以在所述方向上与所述第一反射器分离的方式设置。

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