CN116005114A - 蒸镀源和蒸镀装置 - Google Patents
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 76
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 151
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 89
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 87
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 83
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 claims abstract description 49
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims abstract description 18
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- 238000013022 venting Methods 0.000 claims description 31
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 16
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 15
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 3
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本公开涉及一种蒸镀源和蒸镀装置。其中,蒸镀源包括:至少一个蒸镀源模块,包括:加热器,具有侧板、顶板和底板,侧板位于顶板和底板之间以与顶板和底板围成加热空间,至少部分侧板为第一加热板;分隔板,设置于加热空间内,并与加热板相对设置,分隔板与顶板和底板连接,以将加热空间分为第一加热空间和第二加热空间,第二加热空间相对于第一加热空间靠近第一加热板;第一通气结构,贯穿分隔板,并且蒸镀材料能够穿过第一通气结构;第一喷嘴,位于顶板上,并且第一喷嘴在第一方向上的正投影位于第一加热空间内;第二喷嘴,位于顶板上,并且第二喷嘴在第一方向上的正投影位于第二加热空间内。该蒸镀源的材料利用率高。
Description
技术领域
本公开涉及显示面板制造技术领域,尤其涉及一种蒸镀源和蒸镀装置。
背景技术
在显示面板的制造过程中,有机层通常采用蒸镀的方式制作。蒸镀是指在真空环境下,将待成膜物质加热蒸发或升华后,使其在低温基板表面凝结或沉积,以形成膜层的工艺。
但是,目前在蒸镀过程中所采用的蒸镀源的材料利用率较低,造成了蒸镀材料的浪费。
需要说明的是,在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解,因此可包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
发明内容
本公开目的在于提供一种蒸镀源和蒸镀装置,该蒸镀源和蒸镀装置的材料利用率高。
本公开一方面提供了一种蒸镀源,包括:至少一个蒸镀源模块,所述蒸镀源模块包括:
加热器,具有侧板、顶板和底板,所述侧板位于所述顶板和所述底板之间以与所述顶板和底板围成加热空间,至少部分所述侧板为第一加热板;
分隔板,设置于加热空间内,并与所述加热板相对设置,所述分隔板与所述顶板和底板连接,以将所述加热空间分为第一加热空间和第二加热空间,所述第二加热空间相对于所述第一加热空间靠近所述第一加热板;
第一通气结构,贯穿所述分隔板,并且蒸镀材料能够穿过所述第一通气结构;
第一喷嘴,位于所述顶板上,并且所述第一喷嘴在第一方向上的正投影位于所述第一加热空间内;
第二喷嘴,位于所述顶板上,并且所述第二喷嘴在第一方向上的正投影位于所述第二加热空间内;
其中,所述第一方向为所述顶板指向所述底板的方向。
在本公开的一种示例性实施例中,所述第一通气结构包括:
通气板,所述通气板上设置有多个第一通孔,所述蒸镀材料能够穿过所述第一通孔。
在本公开的一种示例性实施例中,所述通气板包括:
多个导流板,多个所述导流板沿所述第一方向间隔设置,任意相邻两个所述导流板之间的间隔为所述第一通孔,并且所述导流板靠近所述第二加热空间的一侧相对于所述导流板靠近所述第一加热空间的一侧靠近所述顶板。
在本公开的一种示例性实施例中,所述导流板与所述顶板之间具有第一夹角,所述第一夹角为20°~40°。
在本公开的一种示例性实施例中,所述加热器还包括:第二加热板,所述第二加热板位于所述底板远离所述顶板的一侧,并且与所述底板和所述侧板围成第三加热空间;所述蒸镀源还包括:
第二通气结构,位于所述底板上并贯穿所述底板,且所述第二通气结构在第一方向上的正投影位于所述第一加热空间在所述第一方向上的正投影内,所述第二通气结构设置有第二通孔;
第三通气结构,位于所述底板上并贯穿所述底板,且所述第三通气结构在第一方向上的正投影位于所述第二加热空间在所述第一方向上的正投影内,所述第三通气结构设置有第三通孔。
在本公开的一种示例性实施例中,所述第二通气结构包括:
多个相互套设的导向板,并且任意相邻的两个导向板之间均具有间隙,位于最内侧的导向板环绕形成所述第二通孔,所述导向板靠近所述第三加热腔的一侧相对于所述导向板远离所述第三加热腔的一侧靠近所述侧板。
在本公开的一种示例性实施例中,所述第三通气结构包括:
所述第三通气结构上设置有多个第三通孔,并且所述第三通孔的面积小于所述第二通孔的面积。
在本公开的一种示例性实施例中,所述蒸镀源包括相互连接的多个蒸镀源模块,所述第二通气结构包括:第一中间通气区域和第一边缘通气区域,所述第一中间通气区域具有多个第二通孔,所述第一边缘通气区域具有第四通孔,所述第二通孔的面积小于所述第四通孔的面积;
所述蒸镀源还包括:流通通道,所述流通通道贯穿各所述蒸镀源模块的所述第三加热空间,并且所述流通通道与各所述蒸镀源模块的所述第二通孔连通。
在本公开的一种示例性实施例中,所述第三通气结构包括:
第二中间通气区域和第二边缘通气区域,所述第二中间通气区域具有多个第三通孔,所述第二边缘通气区域具有第五通孔,且各所述蒸镀源模块的所述第三通孔均与所述流通通道连通。
本公开另一方面提供了一种蒸镀装置,所述蒸镀装置包括上述任意一项所述的蒸镀源。
本公开提供的技术方案可以达到以下有益效果:
本公开所提供的蒸镀源,包括至少一个蒸镀源模块,该蒸镀源模块包括:加热器、分隔板、通气结构、第一喷嘴和第二喷嘴。其中,分隔板设置于加热空间内,并且与加热板相对设置,分隔板与顶板和底板连接,以将加热空间分为第一加热空间和第二加热空间,且使得第二加热空间相对于第一加热空间靠近第一加热板。第一通气结构可以贯穿分隔板,并且蒸镀材料能够穿过该第一通气结构。
由于蒸镀时所用到的材料起初均放置于第一加热空间,并且靠近第一加热板的材料会优先受热,使得靠近第一加热板的材料会优先进行蒸发。从而可以使得优先蒸发的材料通过第一通气结构进入第二加热空间内,并通过第二喷嘴喷出。由此,可以避免优先蒸发的材料因为受到中间未蒸发的材料的阻挡而无法顺利喷出的问题,也可以防止优先蒸发的材料与未蒸发的材料之间发生碰撞而丧失蒸发性,从而本公开提供的蒸镀源能够使得更多的蒸镀材料均可以顺利喷出,以此能够提升蒸镀材料的利用率。
应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的,并不能限制本公开。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本公开的实施例,并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1示出了根据本公开一示例性实施例的蒸镀源的结构示意图;
图2示出了根据本公开一示例性实施例的通气板的结构示意图;
图3示出了根据本公开另一示例性实施例的通气板的结构示意图;
图4示出了根据本公开另一示例性实施例的蒸镀源的结构示意图;
图5示出了根据本公开一示例性实施例的第二通气结构的结构示意图;
图6示出了根据本公开一示例性实施例的第三通气结构的结构示意图;
图7示出了根据本公开又一示例性实施例的蒸镀源的结构示意图;
图8示出了根据本公开另一示例性实施例的第二通气结构的结构示意图;
图9示出了根据本公开另一示例性实施例的第三通气结构的结构示意图。
附图标记说明:
1、蒸镀源模块;11、加热器;12、分隔板;13、第一通气结构;14、第一喷嘴;15、第二喷嘴;16、第二通气结构;17、第三通气结构;18、流通通道;111、侧板;112、顶板;113、底板;114、第二加热板;115、第一加热空间;116、第二加热空间;117、第三加热空间;131、通气板;161、第二通孔;162、导向板;163、第一中间区域;164、第一边缘区域;165、第四通孔;171、第三通孔;172、第二中间区域;173、第二边缘区域;174、第五通孔;1111、第一加热板;1311、第一通孔;1312、导流板。
具体实施方式
现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而,示例实施方式能够以多种形式实施,且不应被理解为限于在此阐述的实施方式;相反,提供这些实施方式使得本公开将全面和完整,并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构,因而将省略它们的详细描述。
虽然本说明书中使用相对性的用语,例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系,但是这些术语用于本说明书中仅出于方便,例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是,如果将图标的装置翻转使其上下颠倒,则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。当某结构在其它结构“上”时,有可能是指某结构一体形成于其它结构上,或指某结构“直接”设置在其它结构上,或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。
用语“一个”、“一”、“该”、“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等;用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等;用语“第一”和“第二”等仅作为标记使用,不是对其对象的数量限制。
在显示面板中,有机层通常采用蒸镀方式制作。蒸镀是指在真空环境下,将蒸镀材料加热蒸发或升华后,使其在低温基板表面凝结或沉积,以形成膜层的工艺。蒸镀材料在蒸镀坩埚内部受热升华后从坩埚出口喷出,有机材料离开蒸镀坩埚后温度逐渐降低,最终沉积在较低温度的基板上并形成连续膜层。
但是,本公开的发明人发现,现有的蒸镀源,尤其是用来制作大尺寸显示面板的蒸镀源,由于加热空间较大,并且加热方式一般为加热板或者加热丝。从而,导致其在蒸镀过程中,靠近加热板或者加热丝的底部和两端材料会优先蒸发,而远离加热板或者加热丝的材料受热较慢,这就造成优先蒸发的材料会受到未蒸发的材料的阻挡,从而导致优先蒸发的材料无法顺利向上喷出。并且,更严重时,优先蒸发的材料会与未蒸发的材料之间发生碰撞而丧失蒸发特性。由此可以看出,现有的蒸镀源的材料利用率较低,从而造成了材料的浪费。
本公开的发明人在发现了上述技术问题后,花费了大量的时间和创造性劳动,最终发明了一种具有较高材料利用率的蒸发源。该蒸发源可以用于显示面板的膜层的蒸镀,并且可以用于制造大尺寸显示面板。该显示面板可以为OLED显示面板,但不限于此,也可以为其他需要蒸镀膜层的显示面板。
如图1至图9所示,在本公开的一个实施例中,本公开的发明人发明的蒸镀源可以包括:至少一个蒸镀源模块1。该蒸镀源模块1可以包括:加热器11、分隔板12、第一通气结构13、第一喷嘴14和第二喷嘴15。
其中,加热器11可以具有侧板111、顶板112和底板113。侧板111可以位于顶板112和底板113之间,以与顶板112和底板113围成加热空间。具体地,顶板112和底板113可以相对设置,侧板111在第一方向上的一端可以与顶板112的边缘连接,侧板111在第一方向上的另一端可以与底板113的边缘连接。其中,第一方向可以为顶板112指向底板113的方向。
顶板112在第一方向上的正投影可以为矩形,底板113在第一方向上的正投影也可以为矩形,当顶板112和底板113均矩形的时候,侧板111可以包括四个,分别与顶板112和底板113的一个边缘连接,以使加热器11的形状为立方体。通过将加热器11的形状设置为立方体,可以在蒸镀源包括多个蒸镀源模块1时,便于多个加热器11的组合。但不限于此,顶板112在第一方向上的正投影可以为圆形,底板113在第一方向上的正投影也可以为圆形,此时侧板111可以为圆柱面形,从而可以使得加热器11的形状为圆柱体。
在本实施例中,上述至少部分侧板111可以为第一加热板1111。可以理解的是,当加热器11的形状为立方体的时候,四个侧板111中的至少一个侧板111可以为第一加热板1111;当加热器11的形状为圆柱体的时候,圆柱面的侧板111的至少部分区域可以为第一加热板1111。通过设置第一加热板1111,可以在加热器11的侧面对位于加热空间内的蒸镀材料进行加热。
在本公开的一个实施例中,加热器11还可以包括:第二加热板114。该第二加热板114可以位于底板113远离顶板112的一侧,并且其可以与底板113和侧板111围成第三加热空间117。
上述分隔板12可以设置于加热空间内,并且可以与加热板相对设置。该分隔板12可以与顶板112和底板113连接,以将加热空间分为第一加热空间115和第二加热空间116,并且使得第二加热空间116相对于第一加热空间115更靠近第一加热板1111。具体地,以加热器11的形状为立方体为例进行举例说明,当有一个侧板111为第一加热板1111的时候,可以在加热空间内放置一个分隔板12,以使得分隔板12靠近第一加热板1111的一侧为第二加热空间116,并使得分隔板12远离第一加热板1111的一侧为第一加热空间115。当相对两个侧板111为第一加热板1111的时候,可以在加热空间内放置两个分隔板12,两个分隔板12可以相对设置,并且两个分隔板12之间的空间为第一加热空间115,两个分隔板12与相邻的第一加热板1111之间的空间为第二加热空间116。
另外,需要说明的还是,本公开不再对三个侧板111为第一加热板1111和四个侧板111均为第一加热板1111的情况进行说明,可以参考上述解释说明。
上述第一通气结构13可以贯穿分隔板12,并且蒸镀材料能够穿过第一通气结构13。第一喷嘴14可以位于顶板112上,并且第一喷嘴14在第一方向上的正投影可以位于第一加热空间115内;第二喷嘴15可以位于顶板112上,并且第二喷嘴15在第一方向上的正投影可以位于第二加热空间116内。
由于蒸镀时所用到的蒸镀材料起初均放置于第一加热空间115,并且靠近第一加热板1111的蒸镀材料会优先受热,使得靠近第一加热板1111的蒸镀材料会优先进行蒸发。从而,本实施例通过设置第一通气结构13可以使得优先蒸发的蒸镀材料通过第一通气结构13进入第二加热空间116内,并通过第二喷嘴15喷出。由此,可以避免优先蒸发的材料因为受到中间未蒸发的材料的阻挡而无法顺利喷出的问题,也可以防止优先蒸发的材料与未蒸发的材料之间发生碰撞而丧失蒸发性,从而使得本公开提供的蒸镀源能够使得更多的蒸镀材料均可以顺利喷出,以此能够提升蒸镀材料的利用率。
在本公开的一个实施例中,第一通气结构13可以包括:通气板131。该通气板131上可以设置有多个第一通孔1311,蒸发后的蒸镀材料能够穿过该第一通孔1311进入第二加热空间116内。
在本实施例中,多个第一通孔1311可以相邻设置,从而能够使得单位面积的通气板131上可以设置有更多的第一通孔1311,以此能够保证通气板131可以具有较高的通过效率,防止蒸镀材料在通过第一通孔1311时发生碰撞堆积而堵塞第一通孔1311。
如图2和图4所示,该通气板131可以为圆形、方形或者其他形状,本公开对此不做限制。第一通孔1311的形状可以为正多边形,如此设置可以使得多个第一通孔1311相邻设置时可以紧密排列,从而能够进一步提高通气板131的通过效率,进而能够进一步防止蒸镀材料在通过第一通孔1311时发生碰撞堆积而堵塞第一通孔1311。但不限于此,第一通孔1311也可以为非正边形、圆形、椭圆形等,可以根据实际需要进行选择和设置,这均在本公开的保护范围之内。
当第一通孔1311为正多边形时,如图2所示,第一通孔1311的最长对角线长度可以大于等于2mm,从而能够防止由于第一通孔1311过小导致通气板131通过效率过低且容易发生堵孔的问题。并且,如图3所示,第一通孔1311的最长对角线长度可以小于等于5mm,从而能够对在扩散过程中因为碰撞聚集、冷却等原因无法扩散的粒子进行阻挡,防止其进入第二加热空间116。
在本公开的一个实施例中,如图1所示,通气板131可以包括:多个导流板1312。多个导流板1312可以沿第一方向间隔设置。任意相邻的两个导流板1312之间的间隔可以为第一通孔1311,并且导流板1312靠近第二加热空间116的一侧相对于导流板1312靠近第一加热空间115的一侧更靠近顶板112。即:可以理解的是,从加热板的方向看,导流板1312是向上倾斜的。通过将导流板1312向上倾斜,可以对优先蒸发的蒸镀材料进行导向,使得优先蒸发的蒸镀材料可以更容易进入第二加热空间116内。并且,通过设置导流板1312,可以使得进入第二加热空间116内的蒸镀材料的扩散方向是一致的,由此可以使得蒸镀材料可以更加均匀的从第二喷嘴15喷出,也就能够使得最终形成的膜层更加均匀。
在本实施例中,导流板1312与顶板112之间可以具有第一夹角,该第一夹角可以为20°~40°。并且,任意相邻的两个导流板1312之间的间距可以为10mm~15mm。
本公开的发明人又发现,上述提供的蒸镀源,由于导致靠近第一加热板1111的蒸镀材料会优先于远离第一加热板1111的蒸镀材料蒸发。从而,在经过一段时间的蒸镀后,靠近第一加热板1111的蒸镀材料消耗较多,而远离第一加热板1111的蒸镀材料消耗较少,从而使得未蒸发的蒸镀材料出现中间高两边低的起伏状轮廓,从而使得蒸镀的速率无法稳定,进而使得蒸镀后形成的膜层均匀性较差。
为此,本公开的发明人又对上述提供的蒸镀源进行了进一步的改进,从而使得其发明的蒸镀源能够消除未蒸发的蒸镀材料出现中间高两边低的起伏状轮廓的现象,从而提高了蒸镀后所形成的膜层的均匀性。
具体地,在本公开的一个实施例中,如图4和图7所示,蒸镀源还可以包括:第二通气结构16和第三通气结构17。其中,第二通气结构16可以位于底板113上并且可以贯穿底板113,且第二通气结构16在第一方向上的正投影可以位于第一加热空间115在第一方向上的正投影内,第二通气结构16设置有第二通孔161。
第三通气结构17可以位于底板113上,并且可以贯穿底板113。第三通气结构17在第一方向上的正投影可以位于第二加热空间116在第一方向上的正投影内,并且第三通气结构17设置有第三通孔171。
从而,当蒸镀材料的底部受热后,位于底部的蒸镀材料可以通过第二通气结构16上的第二通孔161扩散至第三加热空间117内,并通过第三通气结构17上的第三通孔171进入第二加热空间116,从而能够通过第二喷嘴15喷出。同时,部分为蒸镀的材料也可以通过第二通孔161掉落至第三加热空间117内,在第三加热空间117内蒸发,并通过第三通孔171进入第二加热空间116。从而,通过上述设置,可以使得远离第一加热板1111的蒸镀材料可以更快的进行蒸发,进而能够防止未蒸发的蒸镀材料出现中间高两边低的情况,也就能够使得蒸镀的速率稳定,使得蒸镀后形成的膜层均匀性较高。
在本公开的一个实施例中,如图5所示,第二通气结构16可以包括:多个相互套设的导向板162。任意相邻的两个导向板162之间可以具有间隙,并且位于最内侧的导向板162环绕形成第二通孔161。导向板162靠近第三加热腔的一侧相对于导向板162远离第三加热腔的一侧更靠近侧板111,即:沿第一方向看本实施例的第二通气结构16,各个导向板162可以向靠近侧板111的方向倾斜。蒸镀材料可以通过间隙和第二通孔161进入第三加热空间117内。
本实施例通过将各个导向板162可以向靠近侧板111的方向倾斜,可以对底部蒸发的蒸镀材料进行导向,使得底部蒸发的蒸镀材料可以更容易进入第三加热空间117内。并且,通过设置导向板162,可以使得进入第三加热空间117内的蒸镀材料可以向第二加热空间116的方向扩散,由此可以使得蒸镀材料可以更加均匀,且能够更加容易的从第二喷嘴15喷出,也就能够使得最终形成的膜层更加均匀。
在本实施例中,导向板162和底板113之间的夹角可以为1°~30°,但不限于此,可以根据实际需要进行选择和设置,这均在本公开的保护范围之内。
在本实施例中,如图6所示,第三通气结构17上可以设置有多个第三通孔171,并且第三通孔171的面积可以小于第二通孔161的面积,以此可以通过第三通孔171将在扩散过程中因为碰撞聚集、冷却等方式无法继续扩散的粒子进行阻挡,防止其进入第二加热空间116中。
在本实施例中,多个第三通孔171可以相邻设置,以此能够提高第三通气结构17的通过效率。该第三通孔171的形状可以为正多边形,如此设置可以使得多个第三通孔171相邻设置时可以紧密排列,从而能够进一步提高第三通气结构17的通过效率,进而能够进一步防止蒸镀材料在通过第三通孔171时发生碰撞堆积而堵塞第三通孔171。但不限于此,第三通孔171也可以为非正边形、圆形、椭圆形等,可以根据实际需要进行选择和设置,这均在本公开的保护范围之内。
当第三通孔171为正多边形时,第三通孔171的最长对角线长度可以大于2mm,从而能够防止由于第三通孔171过小导致通气板131通过效率过低且容易发生堵孔的问题。并且,第三通孔171的最长对角线长度可以小于5mm,从而能够对在扩散过程中因为碰撞聚集、冷却等原因无法扩散的粒子进行阻挡,防止其进入第二加热空间116。同理,当第三通孔171为圆形时,第三通孔171的直径可以大于等于2mm且小于等于5mm。
在本公开的一个实施例中,如图7所示,蒸镀源可以包括相互连接的多个蒸镀源模块1。当多个蒸镀源模块1相互连接时,任意相邻的两个蒸镀源模块1可以共用一个侧壁,但不限于此。
在本实施例中,如图7和图8所示,第二通气结构16可以包括:第一中间通气区域163和第一边缘通气区域164。第一中间通气区域163具有多个第二通孔161,第一边缘通气区域164可以具有第四通孔165。其中,第二通孔161的面积小于第四通孔165的面积。
上述蒸镀源还可以包括:流通通道18。该流通通道18可以贯穿各蒸镀源模块1的第三加热空间117,并且该流通通道18可以与各个蒸镀源模块1的第二通孔161连通。从而,蒸发的蒸镀材料可以通过第二通孔161进入流通通道18内,并通过流通通道18在各个蒸镀源模块1的第三加热空间117内进行转移,以此可以提升最终形成的膜层的均匀性。并且,当第二通孔161的面积小于第四通孔165时,可以防止无法扩散的大直径粒子进入流通通道18内。
在本实施例中,第四通孔165的面积可以为第二通孔161的面积的1.5~2倍,但不限于此,可以根据实际需要进行选择和设置,这均在本公开的保护范围之内。
在本实施例中,多个第四通孔165也可以相邻设置,以此能够提高第一边缘通气区域164的通过效率。
在本公开的一个实施例中,如图7和图9所示,第三通气结构17可以包括:第二中间通气区域172和第二边缘通气区域173。其中,第二中间通气区域172可以具有多个第三通孔171,第二边缘通气区域173可以具有第五通孔174,并且各蒸镀源模块1的第三通孔171可以均与流通通道18连通。如此设置,可以使得位于流通通道18内的蒸镀材料可以通过第三通孔171进入各蒸镀源模块1的第二加热空间116内,并通过第二喷嘴15喷出,从而能够进一步提升所形成的膜层的均匀性。
在本实施例中,第三通孔171的面积可以小于第五通孔174的面积,并且第五通孔174的面积可以小于第四通孔165的面积。
在本实施例中,多个第五通孔174也可以相邻设置,以此能够提高第二边缘通气区域173的通过效率。
在本公开的一个实施例中,蒸镀源还可以包括:外部驱动装置。该外部驱动装置可以为电磁感应线圈或者推杆。通过设置外部驱动装置,能够控制位于流通通道18内的蒸发材料的运动,从而使得位于流通通道18内的蒸发材料可以根据需要进入指定的加热空间,以此能够更进一步的提升最终所形成的膜层的均匀性。
在本公开的一个实施例中,第二加热空间116的宽度可以为40mm~50mm,第三加热空间117的高度可以为70mm~80mm,从而能够保证第二加热空间116和第三加热空间117能够给蒸镀材料提供足够的活动空间和自由度。但不限于此,第二加热空间116的宽度也可以大于50mm,第三加热空间117的高度也可以大于80mm,可以根据实际需要进行选择和设置,这均在本公开的保护范围之内。
在本公开的一个实施例中,如图1所示,第一喷嘴14的横截面形状可以为圆形,第二喷嘴15的横截面形状可以为矩形。如此设置,当蒸镀材料通过圆形喷嘴后,会向中间扩散,从而会形成中间厚两遍薄的膜层;当蒸镀材料通过矩形喷嘴后,蒸镀材料会向周围扩散,从而能够弥补上述较薄区域的膜层,进而能够使得最终形成的膜层厚度均匀。
本公开的发明人有提供了一种蒸镀装置。该蒸镀装置可以包括上述所述的蒸镀源。该蒸镀装置可以避免优先蒸发的材料因为受到中间未蒸发的材料的阻挡而无法顺利喷出的问题,也可以防止优先蒸发的材料与未蒸发的材料之间发生碰撞而丧失蒸发性,从而本公开提供的蒸镀装置能够使得更多的蒸镀材料均可以顺利喷出,以此能够提升蒸镀材料的利用率。
需要说明的是,由于该蒸镀装置包括上述所述的蒸镀源,并且在上一主题中已经对蒸镀源的结构和有益效果进行了详细的解释说明,所以在本主题中不再对蒸镀源的结构和有益效果进行赘述,可以参考上述对蒸镀源的具体阐述,这也在本公开的保护范围之内。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后,将容易想到本公开的其它实施方案。本公开旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化,这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的,本公开的真正范围和精神由所附的权利要求指出。
Claims (10)
1.一种蒸镀源,其特征在于,包括:至少一个蒸镀源模块,所述蒸镀源模块包括:
加热器,具有侧板、顶板和底板,所述侧板位于所述顶板和所述底板之间以与所述顶板和底板围成加热空间,至少部分所述侧板为第一加热板;
分隔板,设置于加热空间内,并与所述加热板相对设置,所述分隔板与所述顶板和底板连接,以将所述加热空间分为第一加热空间和第二加热空间,所述第二加热空间相对于所述第一加热空间靠近所述第一加热板;
第一通气结构,贯穿所述分隔板,并且蒸镀材料能够穿过所述第一通气结构;
第一喷嘴,位于所述顶板上,并且所述第一喷嘴在第一方向上的正投影位于所述第一加热空间内;
第二喷嘴,位于所述顶板上,并且所述第二喷嘴在第一方向上的正投影位于所述第二加热空间内;
其中,所述第一方向为所述顶板指向所述底板的方向。
2.根据权利要求1所述的蒸镀源,其特征在于,所述第一通气结构包括:
通气板,所述通气板上设置有多个第一通孔,所述蒸镀材料能够穿过所述第一通孔。
3.根据权利要求2所述的蒸镀源,其特征在于,所述通气板包括:
多个导流板,多个所述导流板沿所述第一方向间隔设置,任意相邻两个所述导流板之间的间隔为所述第一通孔,并且所述导流板靠近所述第二加热空间的一侧相对于所述导流板靠近所述第一加热空间的一侧靠近所述顶板。
4.根据权利要求3所述的蒸镀源,其特征在于,所述导流板与所述顶板之间具有第一夹角,所述第一夹角为20°~40°。
5.根据权利要求1所述的蒸镀源,其特征在于,所述加热器还包括:第二加热板,所述第二加热板位于所述底板远离所述顶板的一侧,并且与所述底板和所述侧板围成第三加热空间;所述蒸镀源还包括:
第二通气结构,位于所述底板上并贯穿所述底板,且所述第二通气结构在第一方向上的正投影位于所述第一加热空间在所述第一方向上的正投影内,所述第二通气结构设置有第二通孔;
第三通气结构,位于所述底板上并贯穿所述底板,且所述第三通气结构在第一方向上的正投影位于所述第二加热空间在所述第一方向上的正投影内,所述第三通气结构设置有第三通孔。
6.根据权利要求5所述的蒸镀源,其特征在于,所述第二通气结构包括:
多个相互套设的导向板,并且任意相邻的两个导向板之间均具有间隙,位于最内侧的导向板环绕形成所述第二通孔,所述导向板靠近所述第三加热腔的一侧相对于所述导向板远离所述第三加热腔的一侧靠近所述侧板。
7.根据权利要求6所述的蒸镀源,其特征在于,所述第三通气结构包括:
所述第三通气结构上设置有多个第三通孔,并且所述第三通孔的面积小于所述第二通孔的面积。
8.根据权利要求5所述的蒸镀源,其特征在于,所述蒸镀源包括相互连接的多个蒸镀源模块,所述第二通气结构包括:第一中间通气区域和第一边缘通气区域,所述第一中间通气区域具有多个第二通孔,所述第一边缘通气区域具有第四通孔,所述第二通孔的面积小于所述第四通孔的面积;
所述蒸镀源还包括:流通通道,所述流通通道贯穿各所述蒸镀源模块的所述第三加热空间,并且所述流通通道与各所述蒸镀源模块的所述第二通孔连通。
9.根据权利要求8所述的蒸镀源,其特征在于,所述第三通气结构包括:
第二中间通气区域和第二边缘通气区域,所述第二中间通气区域具有多个第三通孔,所述第二边缘通气区域具有第五通孔,且各所述蒸镀源模块的所述第三通孔均与所述流通通道连通。
10.一种蒸镀装置,其特征在于,所述蒸镀装置包括上述权利要求1~9任意一项所述的蒸镀源。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202310010176.4A CN116005114B (zh) | 2023-01-04 | 2023-01-04 | 蒸镀源和蒸镀装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202310010176.4A CN116005114B (zh) | 2023-01-04 | 2023-01-04 | 蒸镀源和蒸镀装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN116005114A true CN116005114A (zh) | 2023-04-25 |
CN116005114B CN116005114B (zh) | 2024-07-23 |
Family
ID=86027964
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202310010176.4A Active CN116005114B (zh) | 2023-01-04 | 2023-01-04 | 蒸镀源和蒸镀装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN116005114B (zh) |
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---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
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