JP6021377B2 - 真空蒸着装置および真空蒸着装置におけるるつぼ交換方法 - Google Patents
真空蒸着装置および真空蒸着装置におけるるつぼ交換方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6021377B2 JP6021377B2 JP2012072638A JP2012072638A JP6021377B2 JP 6021377 B2 JP6021377 B2 JP 6021377B2 JP 2012072638 A JP2012072638 A JP 2012072638A JP 2012072638 A JP2012072638 A JP 2012072638A JP 6021377 B2 JP6021377 B2 JP 6021377B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- evaporation
- crucible
- valve
- pipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
この特許文献1には、所定の真空条件下で蒸着ノズルから蒸着材料を放出して基板に蒸着させる真空蒸着容器と、この真空蒸着容器の外部に配置されたるつぼを加熱して蒸着材料を発生させる2つの蒸発装置と、これら2つの2つの蒸発装置と蒸着ノズルとを接続する合流移送管とを具備した真空蒸着装置が開示されている。そして、2つの蒸発装置は、真空引き可能な真空容器にるつぼを出し入れ可能とし、真空容器内で昇降用シリンダ装置によりるつぼを昇降して放出管に接続し、加熱装置によりるつぼを加熱して発生した蒸着材料を、放出管から締切りおよび流量調整可能なニードルバルブを介して合流移送管に送り出し、蒸着ノズルから放出するものである。
前記連続蒸着操作部材は、蒸発装置側から順に、前記移送管を締め切り可能な仕切り弁と、前記移送管に介在されて蒸着材料の流量調整可能な流量調整弁と、を有するとともに、蒸発装置と前記仕切り弁の間の前記移送管、当該移送管に接続された脱気管、前記仕切り弁および前記流量調整弁に加熱装置を有し、
前記連続蒸着操作部材を操作する連続蒸着制御器は、るつぼの交換時に、るつぼを交換する側で、前記流量調整弁の加熱を継続した状態で、前記蒸発用加熱装置をオフするとともに、前記移送管、前記脱気管および前記仕切り弁の前記加熱装置をオフし、前記仕切り弁を閉鎖して蒸発装置のるつぼを交換した後、前記脱気管に設置された脱気弁を開放し、前記脱気管から前記移送管内の空気を脱気して所定の真空条件とし、前記蒸発用加熱装置をオンして蒸発材料が蒸発しない予備加熱状態とし、前記加熱装置をオンして前記移送管、前記脱気管および前記仕切り弁の加熱を再開するように構成されたものである。
蒸着材料を供給していた一方の前記連続蒸着操作部材の前記仕切り弁および前記流量調整弁を閉鎖し、他方の前記連続蒸着操作部材の前記仕切り弁および前記流量調整弁を開放する材料入替ステップと、
一方の前記連続蒸着操作部材の前記移送管から前記蒸発装置を取り外し、前記るつぼを交換するるつぼ交換ステップと、
一方の前記連続蒸着操作部材の前記脱気弁を開放して前記移送管および前記蒸発装置内を真空引きする真空引きステップと、
一方の前記蒸発装置の前記るつぼを、蒸発材料が蒸発しない予備加熱状態まで加熱するとともに、前記蒸発装置と前記流量調整弁の間の前記移送管、前記仕切り弁および前記脱気管の加熱を再開する予熱ステップと、を行い、
前記材料入替ステップおよび前記るつぼ交換ステップにおいて、一方の前記蒸発装置の前記蒸発用加熱装置、前記蒸発装置と前記流量調整弁の間の前記移送管、前記仕切り弁および前記脱気管の加熱を停止するとともに、前記流量調整弁の加熱を維持するものである。
以下、本発明に係る真空蒸着装置および真空蒸着装置におけるるつぼ交換方法の実施例を図1〜図8に基づいて説明する。
この真空蒸着装置は、図1に示すように、蒸着室11を形成する真空蒸着容器10と、第1,第2るつぼ12A,12Bを有する第1,第2蒸発装置13A,13Bと、これら第1,第2蒸発装置13A,13Bがそれぞれ分離可能に接続された第1,第2移送管14A,14Bと、当該第1,第2移送管14A,14Bからの蒸着材料を蒸着ノズル15に送り出す合流管(マニホールド)16と、第1,第2移送管14A,14Bに設けられた第1,第2連続蒸着操作部材17A,17Bとを具備している。
図3〜図7を参照して、連続蒸着のためのるつぼの交換手順を説明する。
[STEP.1−3]「蒸着ステップ」−図4
第2るつぼ12Bの蒸着材料が所定の真空条件下で基板21に薄膜が蒸着される。この時、各加熱装置41A〜43A,41B〜43B,44,45はオン状態、第1連続蒸着操作部材17Aの各弁34A〜36Aは閉状態、第1,第2脱気弁33A,33Bは閉状態にある。第2蒸発用加熱装置30Bはオンされて蒸着材料が蒸発されており、これに対して第1蒸発用加熱装置30Aはオン状態であるが、蒸着材料が蒸発しない予備加熱状態にある。第2仕切り弁35Bは開、第2流量調整弁36Bは開とされて連続蒸着制御器40により開度が制御されており、レート検出器23で検出された蒸着レートが閾値より低下すると、第2流量調整弁36Bの開度を大きくして適正な蒸着レートとなるように制御されている。
連続蒸着制御器40において、レート検出器23で検出された蒸着レートが閾値より低下し、第2流量調整弁36Bが開放限となると、第2るつぼ12Bの蒸着材料が無くなったと判断し、第1蒸発用加熱装置30Aを予備加熱状態から蒸発加熱状態として、第1るつぼ12Aの蒸発材料を蒸発させた後、第2流量調整弁36Bおよび第2仕切り弁35Bを閉じると同時に、第1流量調整弁36Aおよび第1仕切り弁35Aを開け、第1るつぼ12Aの蒸発材料を合流管16から蒸着ノズル15に供給する。これにより、蒸発材料が第2るつぼ12Bから第1るつぼ12Aに切り替えられる。
第2蒸発用加熱装置30Bをオフして第2るつぼ12Bの加熱を停止し、さらに第2移送管加熱装置41B、第2仕切り弁加熱装置42Bをオフして加熱を停止し、温度を下げる。これは、第2蒸発装置13Bのるつぼ収容体31Bを第2移送管14Bから外した時に、流入する低温の大気に第2仕切り弁加熱装置42Bが晒されて、腐食や劣化など悪影響がでるのを極力少なくするためである。
るつぼ収容体31Bを第2移送管14Bから外し、蒸着材料がほとんど無くなった使用済みの第2るつぼ12Bを有するるつぼ収容体31Bと、蒸着材料を収容した新規な第2るつぼ12Bを有するるつぼ収容体31Bを交換し、るつぼ収容体31Bを第2移送管14Bに接続する。もちろん、第2るつぼ12Bのみを交換することもできる。
第2脱気弁33Bを所定時間、開放して、るつぼ収容体31B、第2るつぼ12Bおよび第2移送管14B内を第2脱気管34Bから真空引きし、所定の真空条件とする。
第2蒸発用加熱装置30Bをオン状態とし、蒸着材料が蒸発しない予備加熱状態とし、第2移送管加熱装置41Bおよび第2仕切り弁加熱装置42Bをオンして再度加熱する。
(実施例の効果)
上記実施例によれば、第2(第1)るつぼ12B(12A)の交換時に第2(第1)移送管14B(14A)を第2(第1)仕切り弁35B(35A)で締め切り、第2(第1)移送管14B(14A)の入口から、第2(第1)蒸発装置13B(13A)のるつぼ収容体31B(31A)を外して大気に開放し、使用済みの第2(第1)るつぼ12B(12A)を新規な第2(第1)るつぼ12B(12A)に交換し、るつぼ収容体31B(31A)を第2(第1)移送管14B(14A)の入口に接続する。そして第2(第1)脱気弁33B(33A)を開けて第2(第1)脱気管34B(34A)により、第2(第1)移送管14B(14A)内および第2(第1)蒸発装置13B(13A)内を脱気するので、第2(第1)仕切り弁35B(35A)を開けて蒸着を開始した時に、真空蒸着容器10内に大気が侵入せず改めて脱気を行う必要がない。また第1,第2蒸発装置13A,13Bを、第1,第2るつぼ12A,12Bと第1,第2蒸発用加熱装置30A,30Bによる簡単な構造にできるとともに、大気中で第1,第2るつぼ12A,12Bを第1,第2移送管14A,14Bに脱着することができ、真空室内などで交換作業をするのに比較して、第2(第1)るつぼ12B(12A)の交換作業の作業性をの向上をはかることができる。
11 蒸着室
12A,12B 第1,第2るつぼ
13A,13B 第1,第2蒸発装置
14A,14B 第1,第2移送管
15 蒸着ノズル
16 合流管
17A,17B 第1,第2連続蒸着操作部材
21 基板
22 蒸着ノズル
23 レート検出器
30A,30B 第1,第2蒸発用加熱装置
31A,31B るつぼ収容体
32 接続機構
33A,33B 第1,第2脱気弁
34A,34B 第1,第2脱気管
35A,35B 第1,第2仕切り弁
36A,36B 第1,第2流量調整弁
40 連続蒸着制御器
41A,41B 第1,第2移送管加熱装置(移送管の加熱装置)
42A,42B 第1,第2仕切り弁加熱装置(仕切り弁の加熱装置)
43A,43B 第1,第2流流量調整弁加熱装置(流量調整弁の加熱装置)
44 合流管加熱装置(合流管の加熱装置)
45 ノズル加熱装置
Claims (2)
- 所定の真空条件下で蒸着ノズルから蒸着材料を放出して基板に蒸着する真空蒸着容器と、蒸着材料を収容したるつぼおよび当該るつぼをそれぞれ加熱する蒸発用加熱装置とを有する少なくとも2つの蒸発装置と、当該各蒸発装置がそれぞれ分離可能に接続された移送管と、当該各移送管から放出された蒸着材料を合流させて蒸着ノズルに送り出す合流管と、前記移送管に設けられた連続蒸着操作部材とを具備し、
前記連続蒸着操作部材は、蒸発装置側から順に、前記移送管を締め切り可能な仕切り弁と、前記移送管に介在されて蒸着材料の流量調整可能な流量調整弁と、を有するとともに、蒸発装置と前記仕切り弁の間の前記移送管、当該移送管に接続された脱気管、前記仕切り弁および前記流量調整弁に加熱装置を有し、
前記連続蒸着操作部材を操作する連続蒸着制御器は、るつぼの交換時に、るつぼを交換する側で、前記流量調整弁の加熱を継続した状態で、前記蒸発用加熱装置をオフするとともに、前記移送管、前記脱気管および前記仕切り弁の前記加熱装置をオフし、前記仕切り弁を閉鎖して蒸発装置のるつぼを交換した後、前記脱気管に設置された脱気弁を開放し、前記脱気管から前記移送管内の空気を脱気して所定の真空条件とし、前記蒸発用加熱装置をオンして蒸発材料が蒸発しない予備加熱状態とし、前記加熱装置をオンして前記移送管、前記脱気管および前記仕切り弁の加熱を再開するように構成された
ことを特徴とする真空蒸着装置。 - 所定の真空条件下で蒸着ノズルから蒸着材料を放出して基板に蒸着する真空蒸着容器と、蒸着材料を収容したるつぼおよび当該るつぼをそれぞれ加熱する蒸発用加熱装置とを有する少なくとも2つの蒸発装置と、各蒸発装置にそれぞれ分離可能に接続された移送管と、当該各移送管から放出された蒸着材料を合流させて蒸着ノズルに送り出す合流管と、連続蒸着操作部材とを具備し、前記連続蒸着操作部材に、前記移送管に設けられて蒸着材料を締め切り可能な仕切り弁と、前記蒸発装置と前記仕切り弁の間の前記移送管に接続されて脱気弁が介在された脱気管と、前記仕切り弁と前記合流管の間の前記移送管に設けられて蒸着材料を流量調整可能な流量調整弁と、を有する真空蒸着装置において、前記るつぼを交換するに際し、
蒸着材料を供給していた一方の前記連続蒸着操作部材の前記仕切り弁および前記流量調整弁を閉鎖し、他方の前記連続蒸着操作部材の前記仕切り弁および前記流量調整弁を開放する材料入替ステップと、
一方の前記連続蒸着操作部材の前記移送管から前記蒸発装置を取り外し、前記るつぼを交換するるつぼ交換ステップと、
一方の前記連続蒸着操作部材の前記脱気弁を開放して前記移送管および前記蒸発装置内を真空引きする真空引きステップと、
一方の前記蒸発装置の前記るつぼを、蒸発材料が蒸発しない予備加熱状態まで加熱するとともに、前記蒸発装置と前記流量調整弁の間の前記移送管、前記仕切り弁および前記脱気管の加熱を再開する予熱ステップと、を行い、
前記材料入替ステップおよび前記るつぼ交換ステップにおいて、一方の前記蒸発装置の前記蒸発用加熱装置、前記蒸発装置と前記流量調整弁の間の前記移送管、前記仕切り弁および前記脱気管の加熱を停止するとともに、前記流量調整弁の加熱を維持する
ことを特徴とする真空蒸着装置におけるるつぼ交換方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012072638A JP6021377B2 (ja) | 2012-03-28 | 2012-03-28 | 真空蒸着装置および真空蒸着装置におけるるつぼ交換方法 |
KR1020130021154A KR101971033B1 (ko) | 2012-03-28 | 2013-02-27 | 진공증착장치 및 진공증착장치에 있어서의 도가니 교환방법 |
CN201310092816.7A CN103361607B (zh) | 2012-03-28 | 2013-03-21 | 真空蒸镀装置和真空蒸镀装置的坩锅更换方法 |
TW102110148A TWI606130B (zh) | 2012-03-28 | 2013-03-22 | 真空蒸鍍裝置和真空蒸鍍裝置的坩鍋更換方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012072638A JP6021377B2 (ja) | 2012-03-28 | 2012-03-28 | 真空蒸着装置および真空蒸着装置におけるるつぼ交換方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013204073A JP2013204073A (ja) | 2013-10-07 |
JP6021377B2 true JP6021377B2 (ja) | 2016-11-09 |
Family
ID=49363845
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012072638A Active JP6021377B2 (ja) | 2012-03-28 | 2012-03-28 | 真空蒸着装置および真空蒸着装置におけるるつぼ交換方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6021377B2 (ja) |
KR (1) | KR101971033B1 (ja) |
CN (1) | CN103361607B (ja) |
TW (1) | TWI606130B (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102192500B1 (ko) * | 2013-10-24 | 2020-12-17 | 히다치 조센 가부시키가이샤 | 진공증착장치용 매니폴드 |
CN106062240B (zh) | 2014-03-11 | 2018-09-28 | 株式会社日本有机雷特显示器 | 蒸镀装置以及使用了蒸镀装置的蒸镀方法、以及器件的制造方法 |
KR102228880B1 (ko) * | 2014-05-12 | 2021-03-17 | 엘지전자 주식회사 | 증착 장치 |
KR102319998B1 (ko) * | 2015-01-22 | 2021-11-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | 볼륨 가변형 도가니를 구비한 증착원 |
CN104593731B (zh) * | 2015-02-04 | 2017-05-03 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 蒸镀换料一体化设备及其使用方法 |
KR102608846B1 (ko) * | 2015-10-06 | 2023-12-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착원 및 그 제조 방법 |
TWI580807B (zh) * | 2016-10-28 | 2017-05-01 | 財團法人工業技術研究院 | 蒸鍍設備與利用此設備之蒸鍍方法 |
CN107604318B (zh) * | 2017-09-27 | 2019-10-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 坩埚加热装置 |
CN108103447A (zh) * | 2017-12-30 | 2018-06-01 | 凯盛光伏材料有限公司 | 一种自封防漏低沸点材料热蒸发镀膜装置 |
CN108103448A (zh) * | 2017-12-30 | 2018-06-01 | 凯盛光伏材料有限公司 | 一种连续低沸点材料热蒸发镀膜装置 |
CN108660420A (zh) * | 2018-07-25 | 2018-10-16 | 华夏易能(广东)新能源科技有限公司 | 真空蒸镀设备及蒸发源装置 |
KR102609612B1 (ko) | 2018-07-30 | 2023-12-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법 |
CN109321884A (zh) * | 2018-10-17 | 2019-02-12 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸镀装置 |
CN109487216A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-03-19 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 线源装置和oled蒸镀机 |
KR102257220B1 (ko) * | 2019-07-15 | 2021-05-27 | 프리시스 주식회사 | 박막증착장치 |
KR102243901B1 (ko) * | 2019-07-15 | 2021-04-23 | 프리시스 주식회사 | 박막증착장치 |
JP7200083B2 (ja) * | 2019-10-31 | 2023-01-06 | 日立造船株式会社 | 真空蒸着装置の制御方法 |
KR20210082784A (ko) | 2019-12-26 | 2021-07-06 | 주식회사 선익시스템 | 승강형 도가니를 갖는 도가니장치 및 상기 도가니장치 취급기구 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002030418A (ja) * | 2000-07-13 | 2002-01-31 | Denso Corp | 蒸着装置 |
JP4366226B2 (ja) * | 2004-03-30 | 2009-11-18 | 東北パイオニア株式会社 | 有機elパネルの製造方法、有機elパネルの成膜装置 |
JP4570403B2 (ja) * | 2004-06-28 | 2010-10-27 | 日立造船株式会社 | 蒸発装置、蒸着装置および蒸着装置における蒸発装置の切替方法 |
JP4545028B2 (ja) * | 2005-03-30 | 2010-09-15 | 日立造船株式会社 | 蒸着装置 |
JP5036264B2 (ja) * | 2006-09-19 | 2012-09-26 | 日立造船株式会社 | 真空蒸着装置 |
JP5452178B2 (ja) * | 2009-11-12 | 2014-03-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 真空蒸着装置、真空蒸着方法、および、有機el表示装置の製造方法 |
WO2011074551A1 (ja) * | 2009-12-18 | 2011-06-23 | 平田機工株式会社 | 真空蒸着方法及び装置 |
JP5414587B2 (ja) | 2010-03-23 | 2014-02-12 | 日立造船株式会社 | 蒸着装置 |
JP2011256427A (ja) * | 2010-06-09 | 2011-12-22 | Hitachi Zosen Corp | 真空蒸着装置における蒸着材料の蒸発、昇華方法および真空蒸着用るつぼ装置 |
-
2012
- 2012-03-28 JP JP2012072638A patent/JP6021377B2/ja active Active
-
2013
- 2013-02-27 KR KR1020130021154A patent/KR101971033B1/ko active IP Right Grant
- 2013-03-21 CN CN201310092816.7A patent/CN103361607B/zh active Active
- 2013-03-22 TW TW102110148A patent/TWI606130B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI606130B (zh) | 2017-11-21 |
CN103361607B (zh) | 2017-03-01 |
JP2013204073A (ja) | 2013-10-07 |
KR101971033B1 (ko) | 2019-04-22 |
KR20130110015A (ko) | 2013-10-08 |
TW201339338A (zh) | 2013-10-01 |
CN103361607A (zh) | 2013-10-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6021377B2 (ja) | 真空蒸着装置および真空蒸着装置におけるるつぼ交換方法 | |
JP2010159448A (ja) | 成膜装置及び成膜方法 | |
JP6639580B2 (ja) | 蒸発器、堆積アレンジメント、堆積装置及びこれらを操作する方法 | |
JP4402016B2 (ja) | 蒸着装置及び蒸着方法 | |
KR101175165B1 (ko) | 증발장치, 증착장치 및 증착장치에 있어서의 증발장치의전환방법 | |
JP4772246B2 (ja) | 蒸気圧の低い前駆体用のガス供給装置 | |
MX2011003339A (es) | Evaporador para materiales organicos. | |
US10501847B2 (en) | Apparatus and method for generating a vapor for a CVD or PVD device | |
KR101644467B1 (ko) | 진공증착시의 증기의 유동제어방법과 장치 | |
WO2013065626A1 (ja) | 有機材料の精製装置及び有機材料の精製方法 | |
JP2009097044A5 (ja) | ||
KR20130119107A (ko) | 증착장치 | |
WO2009010468A1 (en) | Vacuum evaporation apparatus for solid materials | |
TWI564427B (zh) | 聚對二甲苯薄膜的形成方法 | |
JP2019515132A (ja) | 流出セル、流出セルを含む蒸着システム、及び関連方法 | |
US20090020070A1 (en) | Vacuum evaporation apparatus for solid materials | |
JP2012226838A (ja) | 真空蒸着装置 | |
TW201842224A (zh) | 鍍膜裝置以及用於在真空下於基板上進行反應性氣相沉積的方法 | |
JP5414587B2 (ja) | 蒸着装置 | |
JP5183310B2 (ja) | 蒸着装置 | |
KR100872937B1 (ko) | 연속 열 진공 증착 방법 | |
CN112823219A (zh) | 自动替换坩锅的蒸发源及具有该蒸发源的蒸发沉积系统 | |
KR100791581B1 (ko) | 화학용액 저장탱크의 구조 | |
KR101415664B1 (ko) | 기화기 및 기화기를 가지는 증착장치 | |
CN107405534B (zh) | 蒸发器及其方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150108 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150828 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150901 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151102 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160209 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160411 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160705 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160719 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160906 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161004 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6021377 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |