JP2013204073A - 真空蒸着装置および真空蒸着装置におけるるつぼ交換方法 - Google Patents

真空蒸着装置および真空蒸着装置におけるるつぼ交換方法 Download PDF

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Abstract

【課題】蒸着を停止することなく、スムーズに蒸着材料を交換して連続蒸着することができる。
【解決手段】るつぼ12Bの交換時に、第2仕切り弁35Bにより第2移送管14Bを締め切り、第2移送管14Bから第2蒸発装置13Bのるつぼ収容体31Bを外して、第2るつぼ12Bを交換する。この時、大気が、第2蒸発装置13B内、第2移送管14B内に流入するが、るつぼ収容体31Bを第2移送管14Bに装着した後、第2脱気弁33Aを脱気して所定の真空条件とすることにより、第2仕切り弁35Bを開けて蒸着を開始した時に、真空蒸着容器10内に大気が侵入せず、脱気を行う必要がない。また第1,第2蒸発装置13A,13Bにを簡単な構造にできて、大気中で第1,第2るつぼ12A,12Bの交換作業を行うことができて作業性を高めることができる。
【選択図】図1

Description

本発明は、真空容器内で基板に蒸着材料を長時間にわたって連続して蒸着可能な真空蒸着装置および真空蒸着装置におけるるつぼ交換方法に関する。
蒸着材料を収容するるつぼは、蒸着材料が長時間加熱すると劣化が生じることから、蒸着(加熱)時間に対応して容量が決められており、長時間にわたって連続蒸着するためには、蒸着材料が少なくなった使用済みのるつぼと、新しい蒸着材料を収容した新規のるつぼとを交換する必要がある。
真空容器内に基板とるつぼが配置された蒸着装置では、るつぼを交換する際に、真空容器内を一旦大気に戻した後、交換後に真空容器内を真空にする必要があり、その間蒸着工程が停止されて時間のロスが発生する。
これを解消するものとして、本出願人は特許文献1を提案している。
この特許文献1には、所定の真空条件下で蒸着ノズルから蒸着材料を放出して基板に蒸着させる真空蒸着容器と、この真空蒸着容器の外部に配置されたるつぼを加熱して蒸着材料を発生させる2つの蒸発装置と、これら2つの2つの蒸発装置と蒸着ノズルとを接続する合流移送管とを具備した真空蒸着装置が開示されている。そして、2つの蒸発装置は、真空引き可能な真空容器にるつぼを出し入れ可能とし、真空容器内で昇降用シリンダ装置によりるつぼを昇降して放出管に接続し、加熱装置によりるつぼを加熱して発生した蒸着材料を、放出管から締切りおよび流量調整可能なニードルバルブを介して合流移送管に送り出し、蒸着ノズルから放出するものである。
特許第4570403号公報
しかしながら、2つの蒸発装置に交換用の真空容器とるつぼの昇降用シリンダが必要で大型化されることや、るつぼの交換時を真空容器内で行うため、交換作業と真空引き作業に時間がかかることなどの問題があった。
そこで、本発明は、蒸着を停止することなく、スムーズに蒸着材料を交換して連続蒸着することができ、蒸発装置の小型化が可能な真空蒸着装置および真空蒸着装置におけるるつぼ交換方法を提供することを目的とする。
請求項1記載の真空蒸着装置は、
所定の真空条件下で蒸着ノズルから蒸着材料を放出して基板に蒸着する真空蒸着容器と、蒸着材料を収容したるつぼおよび当該るつぼをそれぞれ加熱する蒸発用加熱装置とを有する少なくとも2つの蒸発装置と、当該各蒸発装置がそれぞれ分離可能に接続された移送管と、当該各移送管から放出された蒸着材料を合流させて蒸着ノズルに送り出す合流管と、前記移送管に設けられた連続蒸着操作部材とを具備し、
前記連続蒸着操作部材は、蒸発装置側から順に、前記移送管に接続されて脱気弁が介在された脱気管と、締め切り可能な仕切り弁と、蒸着材料の流量調整可能な流量調整弁とを有し、
前記連続蒸着操作部材を操作する連続蒸着制御器は、るつぼの交換時に、前記仕切り弁を閉鎖して移送管に接続された蒸発装置のるつぼを交換した後、前記脱気弁を開放して前記脱気管から移送管内の空気を脱気し所定の真空条件として前記仕切り弁を開放するように構成されたものである。
請求項2記載の真空蒸着装置は、請求項1記載の構成において、
移送管、仕切り弁、流量調整弁および合流管にそれぞれ加熱装置を具備し、
連続蒸着制御器は、るつぼの交換時に、るつぼの蒸発用加熱装置および移送管の加熱装置ならびに仕切り弁の加熱装置をオフするとともに、流量調整弁の加熱装置および合流管の加熱装置をオン状態に維持するように構成されたものである。
請求項3記載の真空蒸着装置におけるるつぼ交換方法は、
所定の真空条件下で蒸着ノズルから蒸着材料を放出して基板に蒸着する真空蒸着容器と、蒸着材料を収容したるつぼおよび当該るつぼをそれぞれ加熱する蒸発用加熱装置とを有する少なくとも2つの蒸発装置と、当該各蒸発装置がそれぞれ分離可能に接続された移送管と、当該各移送管から放出された蒸着材料を合流させて蒸着ノズルに送り出す合流管と、各蒸発装置から前記合流管まで順に、脱気弁が介在された脱気管、および締め切り可能な仕切り弁、ならびに蒸着材料を流量調整可能な流量調整弁が順に介在された連続蒸着操作部材と、を具備した真空蒸着装置において、前記蒸着装置のるつぼを交換するに際し、
蒸着材料を供給していた一方の連続蒸着操作部材の仕切り弁および流量調整弁を閉鎖し、他方の連続蒸着操作部材の仕切り弁および流量調整弁を開放する材料入替ステップと、
一方の連続蒸着操作部材の移送管から蒸発装置を取り外し、るつぼを交換するるつぼ交換ステップと、
一方の連続蒸着操作部材の脱気弁を開放して移送管および蒸発装置内を真空引きする真空引きステップと、
一方の蒸発装置のるつぼを予熱温度まで加熱する予熱ステップと、を行うものである。
請求項4記載の真空蒸着装置におけるるつぼ交換方法は、請求項3記載の方法において、
各連続蒸着制御機構の移送管、仕切り弁および流量調整弁と合流管が、それぞれ蒸着材料が凝縮付着しない温度に加熱され、
材料入替ステップにおいて、一方の連続蒸着制御機構の流量調整弁の加熱を維持するとともに、仕切り弁および移送管の加熱を停止するものである。
請求項1記載の蒸着装置によれば、移送管を仕切り弁で締め切り、移送管の入口から蒸着装置を外して大気に開放し、使用済みのるつぼを新規なるつぼと交換する。さらに蒸着装置を移送管に接続後、脱気弁を開けて脱気管から移送管内および蒸着装置内のるつぼを脱気するので、仕切り弁を開けて蒸着を開始した時に、真空蒸着容器内に大気が侵入せず改めて脱気を行う必要がない。また蒸発装置を、るつぼと蒸着加熱装置により簡単な構造にできるとともに、大気中でるつぼを脱着することができ、蒸発装置の小型化、交換作業の簡略化をはかることができる。またるつぼの交換時に、流量調整弁が高温状態で大気に晒されることがないので、流量調整弁の劣化を防止することができる。
請求項2記載の構成によれば、るつぼを交換する際に、るつぼおよび移送管ならびに仕切り弁の温度低下を図ることで、るつぼの交換をスムーズに行うことができ、また仕切り弁が高温状態で大気に晒されることがなく、仕切り弁の腐食や劣化を大幅に軽減することができる。さらに合流管および流量調整弁を凝縮温度以上に保持されることで、蒸着材料が流量調整弁に凝縮し付着成長するのを未然に防止することができる。
請求項3記載の発明によれば、入替ステップで、仕切り弁および流量調整弁の開閉を切り替えることで、別の蒸発装置のるつぼから新しい蒸着材料を供給し、るつぼ交換ステップで、蒸着材料が無くなった使用済みるつぼと、蒸着材料が収容された新規なるつぼとを交換し、真空引きステップで、脱気管から移送管と蒸発装置内を真空引きして所定の真空条件とし、予熱ステップでるつぼを予熱温度に加熱することで、使用中のるつぼの蒸着材料が無くなっても、大気が混入することが無く、新規なるつぼに迅速に交換することができる。
請求項4記載の発明によれば、るつぼの交換時に、流量調整弁の加熱を維持することで、蒸着材料の凝縮、付着を未然に防止できるとともに、仕切り弁の加熱を停止して温度を低下させることで、高温状態の仕切り弁が大気に晒されるのを防止して、腐食や劣化を減少させることができる。
本発明に係る真空蒸着装置を示す概略構成図である。 真空蒸着装置のブロック図である。 るつぼ交換手順を示すフロー図である。 るつぼ交換動作1の説明図である。 るつぼ交換動作2の説明図である。 るつぼ交換動作3の説明図である。 るつぼ交換動作4の説明図である。 るつぼ交換動作5の説明図である。
[実施例]
以下、本発明に係る真空蒸着装置および真空蒸着装置におけるるつぼ交換方法の実施例を図1〜図8に基づいて説明する。
(真空蒸着装置の構造)
この真空蒸着装置は、図1に示すように、蒸着室11を形成する真空蒸着容器10と、第1,第2るつぼ12A,12Bを有する第1,第2蒸発装置13A,13Bと、これら第1,第2蒸発装置13A,13Bがそれぞれ分離可能に接続された第1,第2移送管14A,14Bと、当該第1,第2移送管14A,14Bからの蒸着材料を蒸着ノズル15に送り出す合流管(マニホールド)16と、第1,第2移送管14A,14Bに設けられた第1,第2連続蒸着操作部材17A,17Bとを具備している。
前記蒸着室11には、保持具を介して保持された基板21と、この基板21に蒸着材料を放出して蒸着材料を蒸着する蒸着ノズル22と、蒸着材料の蒸着レートを検出するレート検出器23と、蒸着ノズル22と基板21の間に配置されて蒸着材料の供給および停止を切り替えるシャッター装置24が配置されている。
合流管16は、真空蒸着容器10の外側下部に配置されるとともに、両端下部に開口された2つの導入口16iと中央上部に開口された導出口16oとを有し、真空蒸着容器10の底壁に貫設された蒸着ノズル15が導出口16oに接続されている。
前記第1,第2蒸発装置13A,13B、第1,第2移送管14A,14B、合流管16および第1,第2連続蒸着操作部材17A,17Bは同一構造であるため、一方のみを説明する。
前記第1,第2蒸発装置13A,13Bは、有底の筒状のるつぼ収容体31A,31Bに、蒸着材料を収容した第1,第2るつぼ12A,12Bがそれぞれ収容され、るつぼ収容体31A,31Bは、ねじ機構やクランプ機構などからなる接続機構32,32により移送管14A,14Bの入口にそれぞれ接続・分離することができる。これらるつぼ収容体31A,31Bには、第1,第2るつぼ12A,12Bを介して蒸着材料を加熱し蒸発させる第1,第2蒸発用加熱装置30A,30Bが設けられている。
第1,第2連続蒸着操作部材17A,17Bは、第1,第2るつぼ12A,12B側から順に、第1,第2移送管14A,14Bから分岐されて脱気用真空ポンプ37に接続され、かつ第1,第2脱気弁33A,33Bが介在された第1,第2脱気管34A,34Bと、第1,第2移送管14A,14Bをそれぞれ締め切り可能な第1,第2仕切り弁(たとえばゲートバルブ)35A,35Bと、第1,第2移送管14A,14Bから合流管16に送り出す蒸着材料の流量を調整可能な第1,第2流量調整弁(たとえばニードルバルブ)36A,36Bとで構成されている。
さらに、これら蒸着材料を移送する時に蒸着材料が接触する通路や弁および真空蒸着容器10には、蒸着材料が凝縮付着し成長するのを防止するために、蒸着材料の蒸発温度異常に加熱する電気ヒータなどの加熱装置がそれぞれ設けられている。すなわち、この加熱装置は、第1,第2移送管14A,14B(第1,第2脱気管34A,34Bの一部および脱気弁33を含む)をそれぞれ加熱する第1,第2移送管加熱装置41A,41Bと、第1,第2仕切り弁35A,35Bをそれぞれ加熱する第1,第2仕切り弁加熱装置42A,42Bと、第1,第2流量調整弁36A,36Bをそれぞれ加熱する第1,第2流量調整弁加熱装置43A,43Bと、合流管16を加熱する合流管加熱装置44と、蒸着ノズル22を加熱するノズル加熱装置45からなる。ここで真空蒸着容器10の加熱装置は、省略している。また、図2に示すように、これら加熱装置30A,30B、41A,41B、42A,42B、43A,43B、44、45は、連続蒸着制御器40により、レート検出器23の検出値に基づいて、それぞれの操作器を介してオン−オフ制御される。また連この続蒸着制御器40により、第1,第2脱気弁33A,33B、第1,第2仕切り弁35A,35Bおよび第1,第2流量調整弁(たとえばニードルバルブ)36A,36Bがそれぞれの操作器を介して操作される。
(るつぼ交換手順)
図3〜図7を参照して、連続蒸着のためのるつぼの交換手順を説明する。
[STEP.1−3]「蒸着ステップ」−図4
第2るつぼ12Bの蒸着材料が所定の真空条件下で基板21に薄膜が蒸着される。この時、各加熱装置41A〜43A,41B〜43B,44,45はオン状態、第1連続蒸着操作部材17Aの各弁34A〜36Aは閉状態、第1,第2脱気弁33A,33Bは閉状態にある。第2蒸発用加熱装置30Bはオンされて蒸着材料が蒸発されており、これに対して第1蒸発用加熱装置30Aはオン状態であるが、蒸着材料が蒸発しない予備加熱状態にある。第2仕切り弁35Bは開、第2流量調整弁36Bは開とされて連続蒸着制御器40により開度が制御されており、レート検出器23で検出された蒸着レートが閾値より低下すると、第2流量調整弁36Bの開度を大きくして適正な蒸着レートとなるように制御されている。
[STEP.3−5]「材料入替ステップ」−図5
連続蒸着制御器40において、レート検出器23で検出された蒸着レートが閾値より低下し、第2流量調整弁36Bが開放限となると、第2るつぼ12Bの蒸着材料が無くなったと判断し、第1蒸発用加熱装置30Aを予備加熱状態から蒸発加熱状態として、第1るつぼ12Aの蒸発材料を蒸発させた後、第2流量調整弁36Bおよび第2仕切り弁35Bを閉じると同時に、第1流量調整弁36Aおよび第1仕切り弁35Aを開け、第1るつぼ12Aの蒸発材料を合流管16から蒸着ノズル15に供給する。これにより、蒸発材料が第2るつぼ12Bから第1るつぼ12Aに切り替えられる。
[STEP.6]「交換ステップ」−図5
第2蒸発用加熱装置30Bをオフして第2るつぼ12Bの加熱を停止し、さらに第2移送管加熱装置41B、第2仕切り弁加熱装置42Bをオフして加熱を停止し、温度を下げる。これは、第2蒸発装置13Bのるつぼ収容体31Bを第2移送管14Bから外した時に、流入する低温の大気に第2仕切り弁加熱装置42Bが晒されて、腐食や劣化など悪影響がでるのを極力少なくするためである。
[STEP.7]「交換ステップ」−図6
るつぼ収容体31Bを第2移送管14Bから外し、蒸着材料がほとんど無くなった使用済みの第2るつぼ12Bを有するるつぼ収容体31Bと、蒸着材料を収容した新規な第2るつぼ12Bを有するるつぼ収容体31Bを交換し、るつぼ収容体31Bを第2移送管14Bに接続する。もちろん、第2るつぼ12Bのみを交換することもできる。
[STEP.8]「真空引きステップ」−図7
第2脱気弁33Bを所定時間、開放して、るつぼ収容体31B、第2るつぼ12Bおよび第2移送管14B内を第2脱気管34Bから真空引きし、所定の真空条件とする。
[STEP.9]「予熱ステップ」−図8
第2蒸発用加熱装置30Bをオン状態とし、蒸着材料が蒸発しない予備加熱状態とし、第2移送管加熱装置41Bおよび第2仕切り弁加熱装置42Bをオンして再度加熱する。
第1蒸発装置13Aの第1るつぼ12Aの蒸発材料が無くなると、上記と同様の手順で第1るつぼ12Aから第2るつぼ12Bに切り替えればよい。
(実施例の効果)
上記実施例によれば、第2(第1)るつぼ12B(12A)の交換時に第2(第1)移送管14B(14A)を第2(第1)仕切り弁35B(35A)で締め切り、第2(第1)移送管14B(14A)の入口から、第2(第1)蒸発装置13B(13A)のるつぼ収容体31B(31A)を外して大気に開放し、使用済みの第2(第1)るつぼ12B(12A)を新規な第2(第1)るつぼ12B(12A)に交換し、るつぼ収容体31B(31A)を第2(第1)移送管14B(14A)の入口に接続する。そして第2(第1)脱気弁33B(33A)を開けて第2(第1)脱気管34B(34A)により、第2(第1)移送管14B(14A)内および第2(第1)蒸発装置13B(13A)内を脱気するので、第2(第1)仕切り弁35B(35A)を開けて蒸着を開始した時に、真空蒸着容器10内に大気が侵入せず改めて脱気を行う必要がない。また第1,第2蒸発装置13A,13Bを、第1,第2るつぼ12A,12Bと第1,第2蒸発用加熱装置30A,30Bによる簡単な構造にできるとともに、大気中で第1,第2るつぼ12A,12Bを第1,第2移送管14A,14Bに脱着することができ、真空室内などで交換作業をするのに比較して、第2(第1)るつぼ12B(12A)の交換作業の作業性をの向上をはかることができる。
また、第1(第2)るつぼ12A(12B)を交換する際に、高温状態の第1(第2)仕切り弁35A(35B)が大気に晒されることがなく、第1(第2)仕切り弁35A(35B)の腐食や劣化を大幅に軽減することができる。さらに合流管16および第1(第2)流量調整弁36A(36B)が凝縮温度以上に保持されることで、蒸着材料が第1(第2)流量調整弁36A(36B)に凝縮し付着成長するのを未然に防止することができる。
なお、前記実施例では、真空蒸着容器10に対して、2つのるつぼ12A、12Bを接続したが、るつぼを3個以上とすることもできる。
10 真空蒸着容器
11 蒸着室
12A,12B 第1,第2るつぼ
13A,13B 第1,第2蒸発装置
14A,14B 第1,第2移送管
15 蒸着ノズル
16 合流管
17A,17B 第1,第2連続蒸着操作部材
21 基板
22 蒸着ノズル
23 レート検出器
30A,30B 第1,第2蒸発用加熱装置
31A,31B るつぼ収容体
32 接続機構
33A,33B 第1,第2脱気弁
34A,34B 第1,第2脱気管
35A,35B 第1,第2仕切り弁
36A,36B 第1,第2流量調整弁
40 連続蒸着制御器
41A,41B 第1,第2移送管加熱装置(移送管の加熱装置)
42A,42B 第1,第2仕切り弁加熱装置(仕切り弁の加熱装置)
43A,43B 第1,第2流流量調整弁加熱装置(流量調整弁の加熱装置)
44 合流管加熱装置(合流管の加熱装置)
45 ノズル加熱装置

Claims (4)

  1. 所定の真空条件下で蒸着ノズルから蒸着材料を放出して基板に蒸着する真空蒸着容器と、蒸着材料を収容したるつぼおよび当該るつぼをそれぞれ加熱する蒸発用加熱装置とを有する少なくとも2つの蒸発装置と、当該各蒸発装置がそれぞれ分離可能に接続された移送管と、当該各移送管から放出された蒸着材料を合流させて蒸着ノズルに送り出す合流管と、前記移送管に設けられた連続蒸着操作部材とを具備し、
    前記連続蒸着操作部材は、蒸発装置側から順に、前記移送管に接続されて脱気弁が介在された脱気管と、締め切り可能な仕切り弁と、蒸着材料の流量調整可能な流量調整弁とを有し、
    前記連続蒸着操作部材を操作する連続蒸着制御器は、るつぼの交換時に、前記仕切り弁を閉鎖して移送管に接続された蒸発装置のるつぼを交換した後、前記脱気弁を開放して前記脱気管から移送管内の空気を脱気し所定の真空条件として前記仕切り弁を開放するように構成された
    ことを特徴とする真空蒸着装置。
  2. 移送管、仕切り弁、流量調整弁および合流管にそれぞれ加熱装置を具備し、
    連続蒸着制御器は、るつぼの交換時に、るつぼの蒸発用加熱装置および移送管の加熱装置ならびに仕切り弁の加熱装置をオフするとともに、流量調整弁の加熱装置および合流管の加熱装置をオン状態に維持するように構成された
    ことを特徴とする請求項1記載の真空蒸着装置。
  3. 所定の真空条件下で蒸着ノズルから蒸着材料を放出して基板に蒸着する真空蒸着容器と、蒸着材料を収容したるつぼおよび当該るつぼをそれぞれ加熱する蒸発用加熱装置とを有する少なくとも2つの蒸発装置と、各るつぼにそれぞれ分離可能に接続された移送管と、当該各移送管から放出された蒸着材料を合流させて蒸着ノズルに送り出す合流管と、るつぼから前記合流管までの間に、脱気弁が介在された脱気管、および締め切り可能な仕切り弁、ならびに蒸着材料を流量調整可能な流量調整弁が順に介在された連続蒸着操作部材と、を具備した真空蒸着装置において、前記蒸着装置のるつぼを交換するに際し、
    蒸着材料を供給していた一方の連続蒸着操作部材の仕切り弁および流量調整弁を閉鎖し、他方の連続蒸着操作部材の仕切り弁および流量調整弁を開放する材料入替ステップと、
    一方の連続蒸着操作部材の移送管から蒸発装置を取り外し、るつぼを交換するるつぼ交換ステップと、
    一方の連続蒸着操作部材の脱気弁を開放して移送管および蒸発装置内を真空引きする真空引きステップと、
    一方の蒸発装置のるつぼを予熱温度まで加熱する予熱ステップと、を行う
    ことを特徴とする真空蒸着装置におけるるつぼ交換方法。
  4. 各連続蒸着操作部材の移送管、仕切り弁および流量調整弁と、合流管とをそれぞれ蒸着材料が凝縮付着しない温度に加熱し、
    材料入替ステップおよびるつぼ交換ステップにおいて、一方の連続蒸着制御機構の流量調整弁の加熱を維持するとともに、仕切り弁および移送管の加熱を停止する
    ことを特徴とする請求項3記載の真空蒸着装置におけるるつぼ交換方法。
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CN201310092816.7A CN103361607B (zh) 2012-03-28 2013-03-21 真空蒸镀装置和真空蒸镀装置的坩锅更换方法
TW102110148A TWI606130B (zh) 2012-03-28 2013-03-22 真空蒸鍍裝置和真空蒸鍍裝置的坩鍋更換方法

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104593731A (zh) * 2015-02-04 2015-05-06 深圳市华星光电技术有限公司 蒸镀换料一体化设备及其使用方法
WO2015136859A1 (ja) * 2014-03-11 2015-09-17 株式会社Joled 蒸着装置及び蒸着装置を用いた蒸着方法、及びデバイスの製造方法
CN106560524A (zh) * 2015-10-06 2017-04-12 三星显示有限公司 沉积源及其制造方法
EP3604609A3 (en) * 2018-07-30 2020-06-03 Samsung Display Co., Ltd. Apparatus for manufacturing display apparatus
JP2021070853A (ja) * 2019-10-31 2021-05-06 日立造船株式会社 真空蒸着装置の制御方法

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102192500B1 (ko) * 2013-10-24 2020-12-17 히다치 조센 가부시키가이샤 진공증착장치용 매니폴드
KR102228880B1 (ko) * 2014-05-12 2021-03-17 엘지전자 주식회사 증착 장치
KR102319998B1 (ko) * 2015-01-22 2021-11-01 삼성디스플레이 주식회사 볼륨 가변형 도가니를 구비한 증착원
TWI580807B (zh) * 2016-10-28 2017-05-01 財團法人工業技術研究院 蒸鍍設備與利用此設備之蒸鍍方法
CN107604318B (zh) * 2017-09-27 2019-10-15 京东方科技集团股份有限公司 坩埚加热装置
CN108103448A (zh) * 2017-12-30 2018-06-01 凯盛光伏材料有限公司 一种连续低沸点材料热蒸发镀膜装置
CN108103447A (zh) * 2017-12-30 2018-06-01 凯盛光伏材料有限公司 一种自封防漏低沸点材料热蒸发镀膜装置
CN108660420A (zh) * 2018-07-25 2018-10-16 华夏易能(广东)新能源科技有限公司 真空蒸镀设备及蒸发源装置
CN109321884A (zh) * 2018-10-17 2019-02-12 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀装置
CN109487216A (zh) * 2018-12-29 2019-03-19 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 线源装置和oled蒸镀机
KR102243901B1 (ko) * 2019-07-15 2021-04-23 프리시스 주식회사 박막증착장치
KR102257220B1 (ko) * 2019-07-15 2021-05-27 프리시스 주식회사 박막증착장치
KR20210082784A (ko) 2019-12-26 2021-07-06 주식회사 선익시스템 승강형 도가니를 갖는 도가니장치 및 상기 도가니장치 취급기구

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002030418A (ja) * 2000-07-13 2002-01-31 Denso Corp 蒸着装置
JP2005281808A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Tohoku Pioneer Corp 成膜源、成膜装置、成膜方法、有機elパネルの製造方法、有機elパネル
JP2006009107A (ja) * 2004-06-28 2006-01-12 Hitachi Zosen Corp 蒸発装置、蒸着装置および蒸着装置における蒸発装置の切替方法
JP2006274370A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Hitachi Zosen Corp 蒸着装置
JP2008075095A (ja) * 2006-09-19 2008-04-03 Hitachi Zosen Corp 真空蒸着装置および真空蒸着方法
JP2011105962A (ja) * 2009-11-12 2011-06-02 Hitachi High-Technologies Corp 真空蒸着装置、真空蒸着方法、および、有機el表示装置の製造方法
WO2011074551A1 (ja) * 2009-12-18 2011-06-23 平田機工株式会社 真空蒸着方法及び装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5414587B2 (ja) 2010-03-23 2014-02-12 日立造船株式会社 蒸着装置
JP2011256427A (ja) * 2010-06-09 2011-12-22 Hitachi Zosen Corp 真空蒸着装置における蒸着材料の蒸発、昇華方法および真空蒸着用るつぼ装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002030418A (ja) * 2000-07-13 2002-01-31 Denso Corp 蒸着装置
JP2005281808A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Tohoku Pioneer Corp 成膜源、成膜装置、成膜方法、有機elパネルの製造方法、有機elパネル
JP2006009107A (ja) * 2004-06-28 2006-01-12 Hitachi Zosen Corp 蒸発装置、蒸着装置および蒸着装置における蒸発装置の切替方法
JP2006274370A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Hitachi Zosen Corp 蒸着装置
JP2008075095A (ja) * 2006-09-19 2008-04-03 Hitachi Zosen Corp 真空蒸着装置および真空蒸着方法
JP2011105962A (ja) * 2009-11-12 2011-06-02 Hitachi High-Technologies Corp 真空蒸着装置、真空蒸着方法、および、有機el表示装置の製造方法
WO2011074551A1 (ja) * 2009-12-18 2011-06-23 平田機工株式会社 真空蒸着方法及び装置

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015136859A1 (ja) * 2014-03-11 2015-09-17 株式会社Joled 蒸着装置及び蒸着装置を用いた蒸着方法、及びデバイスの製造方法
US9909205B2 (en) 2014-03-11 2018-03-06 Joled Inc. Vapor deposition apparatus, vapor deposition method using vapor deposition apparatus, and device production method
CN104593731A (zh) * 2015-02-04 2015-05-06 深圳市华星光电技术有限公司 蒸镀换料一体化设备及其使用方法
CN106560524A (zh) * 2015-10-06 2017-04-12 三星显示有限公司 沉积源及其制造方法
CN106560524B (zh) * 2015-10-06 2020-05-01 三星显示有限公司 沉积源及其制造方法
EP3604609A3 (en) * 2018-07-30 2020-06-03 Samsung Display Co., Ltd. Apparatus for manufacturing display apparatus
US10854815B2 (en) 2018-07-30 2020-12-01 Samsung Display Co., Ltd. Method and apparatus for manufacturing display apparatus
JP2021070853A (ja) * 2019-10-31 2021-05-06 日立造船株式会社 真空蒸着装置の制御方法
KR20210052248A (ko) 2019-10-31 2021-05-10 히다치 조센 가부시키가이샤 진공증착장치의 제어방법
JP7200083B2 (ja) 2019-10-31 2023-01-06 日立造船株式会社 真空蒸着装置の制御方法

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