JP2006225725A - 蒸着装置 - Google Patents

蒸着装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2006225725A
JP2006225725A JP2005041445A JP2005041445A JP2006225725A JP 2006225725 A JP2006225725 A JP 2006225725A JP 2005041445 A JP2005041445 A JP 2005041445A JP 2005041445 A JP2005041445 A JP 2005041445A JP 2006225725 A JP2006225725 A JP 2006225725A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vapor deposition
discharge
evaporation
evaporation material
nozzle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005041445A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4545010B2 (ja
Inventor
Tetsuya Inoue
鉄也 井上
Hiroyuki Daiku
博之 大工
Yuji Matsumoto
祐司 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Zosen Corp
Original Assignee
Hitachi Zosen Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Zosen Corp filed Critical Hitachi Zosen Corp
Priority to JP2005041445A priority Critical patent/JP4545010B2/ja
Publication of JP2006225725A publication Critical patent/JP2006225725A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4545010B2 publication Critical patent/JP4545010B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

【課題】 被蒸着部材へ放出される蒸発材料の指向性を弱めることにより、被蒸着部材に形成される膜厚を略均一にし得る蒸着装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 蒸発材料誘導管および放出用部材は所定の温度に維持されるとともにそれらの内部の蒸発材料が希薄流をなしており、放出用容器の上面にガラス基板1へ蒸発材料を放出するための放出ノズルが突設されるとともに、放出ノズルの先端側に蒸発材料を拡散するためのオリフィス部材が設けられており、放出ノズルの口径φDとオリフィス部材の口径φD´とがφD´/φD≦0.8の関係を満たすことにより、n値が6以下のcosθ則により蒸発材料の放出が行われ、オリフィス部材から放出される蒸発材料の指向性が弱まることとなるため、ガラス基板の膜厚分布の均一性を向上させることができる。
【選択図】 図3

Description

本発明は、被蒸着部材に蒸発させた材料を蒸着させる装置に関し、例えば有機ELディスプレイなどの画像表示部を製造するための蒸着装置などにも適用可能な技術に関するものである。
従来の蒸着装置として、例えば特許文献1が開示されている。
この蒸着装置は、減圧された成膜チャンバ内に、有機金属を貯蔵する坩堝と、坩堝内の蒸発室からガラス基板の蒸着面近傍へ蒸発した有機金属(以下、蒸発材料という)を移送する移送管を備え、移送管のうち蒸着面に相対する部分(平行となっている部分)である放出部に、蒸発材料を放出する複数の放出口が形成されている。
この構成により、ガラス基板の蒸着面と放出口とを間隔を小さくしても、蒸着面への蒸着の均一性を保つことができる。
特開2002−249868号公報
しかし、上記した従来の蒸着装置は、放出口から放出される蒸発材料の指向性について何ら考慮されていないため、ガラス基板の膜厚分布を均一とする点が不明瞭であり、指向性が強かった場合、ガラス基板の膜厚分布を均一とするために、ガラス基板と放出口との間隔を大きくしなければならず、そうすると成膜チャンバの容積が大きくなり、減圧するための時間を要するばかりか、ガラス基板以外への表面にも多くの蒸発物質が付着することになる。すなわち、有機金属の利用効率が低下し、これは所定の膜厚を得るまでに長い時間を要することになる。整理すると、膜厚分布の均一性を向上させる代わりに、蒸着させるための準備時間(減圧時間)、材料利用効率および成膜速度を犠牲にすることになる。
そこで、本発明は、被蒸着部材へ放出される蒸発材料の指向性を弱めることにより、被蒸着部材に形成される膜厚を略均一にし得る蒸着装置を提供することを目的としたものである。
前記した目的を達成するために、本発明の請求項1に記載の発明は、蒸着材料を加熱して蒸発材料を得るための蒸発源と、前記蒸発源で得られた蒸発材料を移送する蒸発材料誘導路と、減圧された蒸着用容器内に設けられ前記蒸発材料誘導路から流入する蒸発材料を被蒸着部材へ放出する放出用部材とを備えた蒸着装置であって、前記蒸発材料誘導路および前記放出用部材は所定の温度に維持されるとともにそれらの内部の蒸発材料が希薄流をなしており、前記放出用部材の上面に前記被蒸着部材へ蒸発材料を放出するためのノズル部材が突設されるとともに、前記ノズル部材の先端側に蒸発材料を拡散するための絞り部材が設けられており、前記ノズル部材の口径φDと前記絞り部材の口径φD´とが
φD´/φD≦0.8
の関係を満たしていることを特徴としたものである。
また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明であって、絞り部材はノズル部材に対して着脱自在に設けられており、蒸着材料や被蒸着部材に対する蒸着量等を変更する際、口径φD´が上式の条件を満たす絞り部材に取り替えることを特徴としたものである。
また、請求項3に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載の発明であって、放出用部材は、蒸発材料を拡散させる拡散空間を有することを特徴としたものである。
また、請求項4に記載の発明は、請求項1に記載の発明であって、蒸発源を複数備えるとともに前記各蒸発源ごとに放出用部材を備え、前記各放出用部材の上面には所定間隔おきに複数の放出孔が形成されており、前記各放出孔に前記各放出用部材へ蒸発材料を放出するための複数のノズル部材が着脱自在に設けられるとともに、前記各ノズル部材の先端側に蒸発材料を拡散するための複数の絞り部材が着脱自在に設けられていることを特徴としたものである。
また、請求項5に記載の発明は、請求項4に記載の発明であって、使用しないノズル部材の先端側に着脱自在な蓋部材を設けることを特徴としたものである。
本発明の蒸着装置は、ノズル部材の口径φDと絞り部材の口径φD´とが、φD´/φD≦0.8の関係を満たすことにより、絞り部材から放出される蒸発材料の指向性が弱まることとなるため、蒸発材料は絞り部材から拡がりをもって放出され、被蒸着部材の蒸着面に均一に蒸着可能となり、したがって被蒸着部材の膜厚分布の均一性を向上させることができる。
[実施の形態]
以下、本発明の実施の形態に係る蒸着装置を、図1〜図4に基づき説明する。
本実施の形態においては、有機ELディスプレイの表示部を製造する場合、すなわち有機材料をガラス基板の表面に蒸着させる場合で、且つ異なる2種類の蒸着材料(有機材料である)を蒸着させる場合について説明する。なお、異なる蒸着材料のうち、主成分である材料を第1蒸着材料(ホストともいう)と称するとともに、微量材料を第2蒸着材料(ドーパントともいう)と称し、さらに各蒸着材料を加熱して蒸発させたものを第1および第2蒸発材料と称して説明を行う。
この蒸着装置は、図1に示すように、ガラス基板(被蒸着部材)1が、その蒸着面が下方となるように水平方向で挿入されるとともに保持具2により保持される蒸着用容器(蒸着室ともいう)3と、この蒸着用容器3内の下部で且つ互いに上下に配置されて第1および第2蒸着材料A,Bが蒸発されてなる第1および第2蒸発材料A´,B´を放出させる第1および第2放出用容器(放出用部材の一例)4,5と、上記蒸着用容器3の外部に配置されて互いに種類が異なる第1および第2蒸着材料A´,B´を加熱して蒸発させる2個の第1および第2蒸発用容器(蒸発源、蒸発室ともいう)6,7と、これら各蒸発用容器6,7で蒸発された第1および第2蒸着材料A´,B´を蒸着用容器3内に配置された各放出用容器4,5に導く第1および第2蒸発材料誘導管(蒸発材料誘導路の一例で、放出用容器も蒸発材料誘導路の一部を構成するものである)8,9と、第1放出用容器4の上方および側方を覆うように設けられシースヒータ17(後述する)とともに第1放出用容器4を保温する第1保温カバー10と、第2放出用容器5の下方および側方を覆うように設けられシースヒータ17(後述する)とともに第2放出用容器5を保温する第2保温カバー11と、第1放出用容器4と第2放出用容器5との間で相手の分解温度以上の熱が伝わることを防止する水冷式の冷却板12と、第1保温カバー11の上方に設けられ第1および第2放出用容器4,5からガラス基板1へ放出される第1および第2蒸発材料A´,B´の飛翔経路を遮断または開放するシャッター13と、ガラス基板1の直ぐ傍の位置に配置されて蒸発材料が付着した膜厚を検出する水晶振動子型の膜厚検出用センサ14とから構成されている。
上記第1蒸発材料誘導管8は第1蒸発用容器6内で蒸発された第1蒸発材料A´を第1放出用容器4に導くためのもので、また第2蒸発材料誘導管9は第2蒸発用容器7内で蒸発された第2蒸発材料B´を第2放出用容器5に導くためのものであり、さらにそれぞれの途中には、蒸発材料の移送量すなわち放出量の調節および開閉を行い得る流量制御弁(放出量調節手段の一例で、例えば開度の調節機能を有する開閉弁でもよい)15,16が設けられている。
また、図2に示すように、各放出用容器4,5および各蒸発材料誘導管8,9の表面の略全体に亘って、保温のための加熱手段(保温手段ともいえる)として例えばシースヒータ17が配置されており、各蒸発材料をそれぞれ最適な温度に保持(維持)するように考慮されている(なお、図2には、放出用容器4,5に設けた場合についてだけ図示している)。
なお、上記各蒸発用容器6,7内には、図示しないが、蒸着材料を収納する材料収納容器がそれぞれ配置されるとともに、これら各材料収納容器を加熱して蒸着材料を蒸発させるための加熱手段(例えば、電熱ヒータが用いられる)が配置され、さらに個別に容器内の空気を排出可能(真空可能)にされている。
次に、上記各放出用容器4,5について説明する。
これら各放出用容器4,5は所定厚さで且つ平面視が矩形状(勿論、円形、多角形などであってもよい)にされるとともに内部にそれぞれ拡散空間(バッファ空間ともいい、蒸発材料の濃度の均一化を図り得る)4a,5aを有する箱形状の容器にされている。
そして、第1蒸発材料A´を放出する第1放出用容器4が上方に配置されるとともに、第2蒸発材料B´を放出する第2放出用容器5が下方に配置されている。
また、第1放出用容器4および第2放出用容器5の上面には、放出孔4b,5bが所定間隔おきに例えば縦横に複数列でもって複数個形成され、その放出孔4b,5bの上部には取付ネジ20により着脱自在な口径φDの放出ノズル(ノズル部材)21,22が取り付けられており、放出ノズル21,22の先端側(上部)には着脱自在なオリフィス部材(絞り部材)23,24が設けられている。このオリフィス部材23,24はキャップ状に形成されており、その上部に放出ノズル21,22からの蒸発材料が通過する口径φD´のオリフィス23a,24aが形成されている。なお、このオリフィス部材23,24の内側面および放出ノズル21,22の上方外側面にネジ山が形成されているため、オリフィス部材23,24は、周方向に回転させることにより、着脱可能となっている。
詳しく説明すれば、図3に示すように、第2放出用容器5の表面に形成される各放出孔5bの上方に位置する部分の第1放出用容器4に貫通穴4cが形成され、この貫通孔4cを介して各放出孔5bの上部に背丈の長い放出ノズル22が突設されているとともに、第1放出用容器4の表面における貫通孔4cの近傍に形成される各放出孔4bの上部に背丈の短い放出ノズル21が突設されている。なお、放出ノズル21および放出ノズル22の背丈は、ガラス基板1と各ノズル21,22の開口部との間隔を等しくするため、各ノズル21,22の開口部の高さ位置が同一となるよう形成されている。
ここで、上記オリフィス23aの口径φD´の設定方法について説明する。
まず、蒸着材料A,Bであるホール輸送性材料α−NPDを蒸着する際の各放出用容器4,5および各放出ノズル21,22内における各蒸発材料A´、B´の平均自由工程σは、α−NPDの擬似的球体の直径dを10×10−8(Å)、排気量1000L/sおよびガス放出量などから試算した各放出用容器4,5内の真空度(蒸気圧)Pを0.13(Pa)、各放出用容器4,5の最大加熱温度350(℃)(すなわちT=623.15(K))、係数をAとすると、
σ∝A・T/dP ・・・(b)
より、σ≒14mmとなる。なお、各放出用容器4,5における拡散空間4a,5aの厚さ(以下、放出用容器4,5の厚さという)は、各放出用容器4,5内における蒸発材料A´、B´が容器の内壁と衝突せずに確実に移動することができることを考慮して、各蒸発材料A´、B´の平均自由工程以下である10mmとして製作する。このように、各放出用容器4,5の厚さを10mmとすることにより、各放出用容器4,5および各放出ノズル21,22内における各蒸発材料A´、B´を希薄流とすることができる。
次に、ガラス基板1に対する蒸着作業を行う前に厚さ10mmの各放出用容器4,5を使用して蒸着材料A、Bを蒸発させ、その時の放出ノズル21,22の口径φDとcosθ則のn値との関係を示すグラフM(図4の実線)を作成するとともに、口径φDが6.5mmの放出ノズル21,22に設けられたオリフィス部材23,24の口径φD´とcosθ則のn値との関係を示すグラフN(図4の一点鎖線)を作成する(図4参照)。なお、上記グラフMは、放出ノズル21,22の口径φDの大きさ変化させて、それら口径φDごとの蒸発材料の放出量を計測することにより作成され、上記グラフNは、所定の口径φDの放出ノズル21,22に設けられたオリフィス部材23,24の口径φD´の大きさを変化させて、それら口径φD´ごとの蒸発材料の放出量を計測することにより作成される。また、上記各グラフにおいては、各放出ノズル21,22の鉛直方向からの角度を立体角αとすると、cosθ則のn値が最適な範囲である4〜6のとき、ガラス基板1の蒸着面に均一に蒸着させる立体角αで蒸発材料を放出することができ、またcosθ則のn値が小さくなるにつれて立体角αは大きくなり、cosθ則のn値が大きくなるにつれて立体角αは小さくなる、すなわちcosθ則のn値が大きいほど指向性が強くなり(狭まり)、n値が小さいほど指向性が弱くなる(拡がる)。
ここで、各放出ノズル21,22に設けられたオリフィス部材23,24から放出される各蒸発材料A´、B´の指向性を弱めるためには、すなわちガラス基板1における膜厚の均一性を維持させるためには、cosθ則のn値が6以下(n≦6)となることが望まれ、図4のグラフにより、このオリフィス部材23,24が上記条件を満たすには、オリフィス部材23,24の口径φD´を5.2mm程度にすればよいことがわかる。
このように、オリフィス部材23,24の口径φD´(5.2mm)を放出ノズル21,22の口径φD(6.5mm)の10%以上且つ80%以下の大きさとすることにより、すなわち放出ノズル21,22の口径φDとオリフィス部材23,24の口径φD´とが、
0.1≦φD´/φD≦0.8 ・・・(a)
の関係を満たすことにより、n値が6以下のcosθ則による蒸発材料A´、B´の放出が行われ、オリフィス部材23,24から放出される各蒸発材料A´、B´の指向性が弱まることとなるため、各蒸発材料A´、B´はオリフィス部材23,24から拡がりをもって放出され、被蒸着部材の蒸着面に均一に蒸着可能となり、したがってガラス基板1の膜厚分布の均一性を向上させることができる。
また、ガラス基板1の膜厚分布の均一性が向上されることにより、ガラス基板1と各放出用容器4,5との間隔を小さくすることができるため、材料収率を向上させることができ、また蒸着用容器3のサイズを小型化することができるため、蒸着用容器3内を減圧する時間を短縮することができる。
また、各蒸発材料A´、B´はオリフィス部材23,24から拡がりをもって放出されることとなるため、ガラス基板1の蒸着面が広い場合でも、各放出ノズル21同士の間隔および各放出ノズル22同士の間隔を比較的広くすることができ、したがって各放出ノズル21,22の数を減らすことができる。このとき、使用しない放出ノズル21,22には、図5に示すように、着脱自在な蓋部材25を設けて蒸発材料A´,B´がガラス基板1に放出されないようにする。
具体例として、従来、370mm×470mmサイズのガラス基板1に対して蒸着を行う際、各放出用容器にはそれぞれ口径φDが6.5mmの13個の放出ノズルが設けられ、またガラス基板と各放出用容器との間隔が300mmとされていたが、本発明では、各放出用容器4,5にそれぞれ口径φDが6.5mmの5本〜8本の放出ノズル21,22を設けるとともに口径φD´が5.2mmのオリフィス部材23,24を設け、またガラス基板1と各放出用容器4,5との間隔を150mm〜200mmとすればよくなり、従来と変わらぬ膜厚均一性(±3%以内)を維持することができ、材料収率においては20%以上を得ることができた。
また、オリフィス部材23,24は放出ノズル21,22に対して着脱自在とされており、蒸着材料A,B、ガラス基板1に対する蒸着量、および放出用容器4,5の加熱温度や真空度等を変更する際、口径φD´が上記(a)式の条件を満たすオリフィス部材23,24に取り替えることのみ、もしくはオリフィス部材23,24に取り替えるとともに蓋部材25を用いてレイアウトを変更することで対応することができるため、上述した変更に対してスムーズに対応することができ、したがって作業時間を大幅に短縮することができる。
なお、上記実施の形態においては、図4におけるオリフィス部材23,24の口径φD´とcosθ則のn値との関係を示すグラフの特性は、放出ノズル21,22の口径φDの大きさを変えても同じであったため、いずれの口径φDの放出ノズル21,22を使用しても、上記(a)式の関係は成立する。
また、上記実施の形態においては、各放出用容器4,5の表面に設けられる放出孔4b,5bを、縦横に、すなわち二次元的に配置したが、例えば一列(一次元的)に配置してもよい。
また、上記実施の形態においては、第1および第2蒸発用容器6,7を蒸着用容器3の外方に配置したが、これら蒸発用容器6,7を、蒸発材料誘導管8,9を含めて蒸着用容器3内に配置してもよい。
本発明の実施の形態に係る蒸着装置の概略構成を示す断面図である。 同蒸着装置における要部斜視図である。 図2のC−C断面図である。 同放出ノズルの口径およびオリフィス部材の口径とcosθ則のn値との関係を示す図である。 同使用しない放出ノズルに蓋部材を設けた蒸着装置の断面図である。
符号の説明
1 ガラス基板
3 蒸着用容器
4 第1放出用容器
4a 拡散空間
4b 放出孔
5 第2放出用容器
5a 拡散空間
5b 放出孔
5c 放出ノズル
5d 放出量検出孔
6 第1蒸発用容器
7 第2蒸発用容器
8 第1蒸発材料誘導管
9 第2蒸発材料誘導管
15 シースヒータ

Claims (5)

  1. 蒸着材料を加熱して蒸発材料を得るための蒸発源と、前記蒸発源で得られた蒸発材料を移送する蒸発材料誘導路と、減圧された蒸着用容器内に設けられ前記蒸発材料誘導路から流入する蒸発材料を被蒸着部材へ放出する放出用部材とを備えた蒸着装置であって、
    前記蒸発材料誘導路および前記放出用部材は所定の温度に維持されるとともにそれらの内部の蒸発材料が希薄流をなしており、
    前記放出用部材の上面に前記被蒸着部材へ蒸発材料を放出するためのノズル部材が突設されるとともに、前記ノズル部材の先端側に蒸発材料を拡散するための絞り部材が設けられており、前記ノズル部材の口径φDと前記絞り部材の口径φD´とが
    φD´/φD≦0.8
    の関係を満たしていること
    を特徴とする蒸着装置。
  2. 絞り部材はノズル部材に対して着脱自在に設けられており、蒸着材料や被蒸着部材に対する蒸着量等を変更する際、口径φD´が上式の条件を満たす絞り部材に取り替えること
    を特徴とする請求項1に記載の蒸着装置。
  3. 放出用部材は、蒸発材料を拡散させる拡散空間を有すること
    を特徴とする請求項1または請求項2に記載の蒸着装置。
  4. 蒸発源を複数備えるとともに前記各蒸発源ごとに放出用部材を備え、前記各放出用部材の上面には所定間隔おきに複数の放出孔が形成されており、前記各放出孔に前記各放出用部材へ蒸発材料を放出するための複数のノズル部材が着脱自在に設けられるとともに、前記各ノズル部材の先端側に蒸発材料を拡散するための複数の絞り部材が着脱自在に設けられていること
    を特徴とする請求項1に記載の蒸着装置。
  5. 使用しないノズル部材の先端側に着脱自在な蓋部材を設けること
    を特徴とする請求項4に記載の蒸着装置。
JP2005041445A 2005-02-18 2005-02-18 蒸着装置 Active JP4545010B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005041445A JP4545010B2 (ja) 2005-02-18 2005-02-18 蒸着装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005041445A JP4545010B2 (ja) 2005-02-18 2005-02-18 蒸着装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006225725A true JP2006225725A (ja) 2006-08-31
JP4545010B2 JP4545010B2 (ja) 2010-09-15

Family

ID=36987346

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005041445A Active JP4545010B2 (ja) 2005-02-18 2005-02-18 蒸着装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4545010B2 (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007002291A (ja) * 2005-06-23 2007-01-11 Utec:Kk 蒸発源、蒸着装置及び蒸着方法
JP2008075095A (ja) * 2006-09-19 2008-04-03 Hitachi Zosen Corp 真空蒸着装置および真空蒸着方法
JP2012057235A (ja) * 2010-09-13 2012-03-22 Hitachi Zosen Corp 真空蒸着装置
CN102565839A (zh) * 2010-11-02 2012-07-11 索尼公司 辐射检测元件、辐射检测模块及辐射图像诊断设备
JP2012241285A (ja) * 2011-05-18 2012-12-10 Riber 真空蒸着システムのためのインジェクター
JP2012251213A (ja) * 2011-06-03 2012-12-20 Ulvac Japan Ltd 成膜装置
WO2013125598A1 (ja) * 2012-02-23 2013-08-29 旭硝子株式会社 フッ素含有有機ケイ素化合物薄膜の製造装置、及び、製造方法
KR20140098693A (ko) * 2013-01-31 2014-08-08 히다치 조센 가부시키가이샤 진공증착장치 및 진공증착방법
KR20150048620A (ko) * 2013-10-24 2015-05-07 히다치 조센 가부시키가이샤 진공증착장치용 매니폴드
WO2016095997A1 (en) * 2014-12-17 2016-06-23 Applied Materials, Inc. Material deposition arrangement, a vacuum deposition system and method for depositing material
KR20170083587A (ko) * 2014-11-07 2017-07-18 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 진공 증착을 위한 재료 소스 배열체 및 노즐

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63171866A (ja) * 1987-01-09 1988-07-15 Fuji Electric Co Ltd 電子写真用感光体製造装置
JPH02290963A (ja) * 1989-04-28 1990-11-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd 蒸着用るつぼ
JPH06228740A (ja) * 1993-01-29 1994-08-16 Sony Corp 真空蒸着装置
JP2004018997A (ja) * 2002-06-20 2004-01-22 Eiko Engineering Co Ltd 薄膜堆積用分子線源セル
JP2004307877A (ja) * 2003-04-02 2004-11-04 Nippon Biitec:Kk 薄膜堆積用分子線源とそれを使用した薄膜堆積方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63171866A (ja) * 1987-01-09 1988-07-15 Fuji Electric Co Ltd 電子写真用感光体製造装置
JPH02290963A (ja) * 1989-04-28 1990-11-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd 蒸着用るつぼ
JPH06228740A (ja) * 1993-01-29 1994-08-16 Sony Corp 真空蒸着装置
JP2004018997A (ja) * 2002-06-20 2004-01-22 Eiko Engineering Co Ltd 薄膜堆積用分子線源セル
JP2004307877A (ja) * 2003-04-02 2004-11-04 Nippon Biitec:Kk 薄膜堆積用分子線源とそれを使用した薄膜堆積方法

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007002291A (ja) * 2005-06-23 2007-01-11 Utec:Kk 蒸発源、蒸着装置及び蒸着方法
JP2008075095A (ja) * 2006-09-19 2008-04-03 Hitachi Zosen Corp 真空蒸着装置および真空蒸着方法
JP2012057235A (ja) * 2010-09-13 2012-03-22 Hitachi Zosen Corp 真空蒸着装置
CN102565839A (zh) * 2010-11-02 2012-07-11 索尼公司 辐射检测元件、辐射检测模块及辐射图像诊断设备
JP2012241285A (ja) * 2011-05-18 2012-12-10 Riber 真空蒸着システムのためのインジェクター
JP2012251213A (ja) * 2011-06-03 2012-12-20 Ulvac Japan Ltd 成膜装置
WO2013125598A1 (ja) * 2012-02-23 2013-08-29 旭硝子株式会社 フッ素含有有機ケイ素化合物薄膜の製造装置、及び、製造方法
KR20140098693A (ko) * 2013-01-31 2014-08-08 히다치 조센 가부시키가이샤 진공증착장치 및 진공증착방법
JP2014167165A (ja) * 2013-01-31 2014-09-11 Hitachi Zosen Corp 真空蒸着装置および真空蒸着方法
KR102192495B1 (ko) * 2013-01-31 2020-12-17 히다치 조센 가부시키가이샤 진공증착장치 및 진공증착방법
JP2015108185A (ja) * 2013-10-24 2015-06-11 日立造船株式会社 真空蒸着装置用マニホールド
TWI661067B (zh) * 2013-10-24 2019-06-01 日立造船股份有限公司 真空蒸鍍裝置用岐管
KR20150048620A (ko) * 2013-10-24 2015-05-07 히다치 조센 가부시키가이샤 진공증착장치용 매니폴드
KR102192500B1 (ko) 2013-10-24 2020-12-17 히다치 조센 가부시키가이샤 진공증착장치용 매니폴드
KR20170083587A (ko) * 2014-11-07 2017-07-18 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 진공 증착을 위한 재료 소스 배열체 및 노즐
JP2017534767A (ja) * 2014-11-07 2017-11-24 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated 真空堆積のための材料源アレンジメント及びノズル
KR102018865B1 (ko) 2014-11-07 2019-09-05 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 진공 증착을 위한 재료 소스 배열체 및 노즐
WO2016095997A1 (en) * 2014-12-17 2016-06-23 Applied Materials, Inc. Material deposition arrangement, a vacuum deposition system and method for depositing material
CN107109624A (zh) * 2014-12-17 2017-08-29 应用材料公司 材料沉积布置、真空沉积系统和沉积材料的方法
JP2018501405A (ja) * 2014-12-17 2018-01-18 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated 材料堆積装置、真空堆積システム、及び材料堆積方法
TWI619829B (zh) * 2014-12-17 2018-04-01 應用材料股份有限公司 材料沉積裝置、真空沉積系統及沉積材料的方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4545010B2 (ja) 2010-09-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4545010B2 (ja) 蒸着装置
CN103328681B (zh) 坩埚和蒸镀装置
JP4996430B2 (ja) 蒸気発生装置、蒸着装置、成膜方法
JP5492120B2 (ja) 蒸発源および蒸着装置
CN103710682B (zh) 沉积装置以及使用该装置制造有机发光显示器的方法
JP4458932B2 (ja) 蒸着装置
ES2486307T3 (es) Inyector para un sistema de deposición de vapor bajo vacío
JP2008121098A (ja) 蒸発源およびこれを用いた真空蒸着装置
TWI596224B (zh) 真空蒸鍍裝置
TW200904998A (en) Deposition source, deposition apparatus, and forming method of organic film
CN101445907A (zh) 蒸镀装置
JPWO2009034916A1 (ja) 蒸気放出装置、有機薄膜蒸着装置及び有機薄膜蒸着方法
KR20170095371A (ko) 재료 증착 어레인지먼트, 진공 증착 시스템, 및 재료를 증착하기 위한 방법
US20110042208A1 (en) Film forming source, vapor deposition apparatus, and apparatus for manufacturing an organic el element
KR20060066622A (ko) 박막형성용 분자공급장치
KR20140098693A (ko) 진공증착장치 및 진공증착방법
JPWO2018199184A1 (ja) 蒸発源及び成膜装置
JPWO2019064426A1 (ja) 蒸着源および蒸着装置並びに蒸着膜製造方法
TWI625415B (zh) 沉積設備及使用其製造有機發光二極體顯示器之方法
JP4827953B2 (ja) 蒸着装置
KR101660393B1 (ko) 증발원 및 이를 구비한 증착장치
JP2009228090A (ja) 蒸着装置及び蒸着源
TW201925504A (zh) 蒸鍍裝置和蒸鍍方法
JP2010126753A (ja) 蒸着装置および有機発光装置の製造方法
JP5127372B2 (ja) 蒸着装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071226

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20080430

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100225

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100302

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100427

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100601

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100629

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130709

Year of fee payment: 3

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4545010

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130709

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250