JP2007002291A - 蒸発源、蒸着装置及び蒸着方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明に係る蒸発源は、蒸発材料が収容される容器1と、前記容器1に繋げられ、該容器内で蒸発した材料が流入される蒸発材料通路3と、前記蒸発材料通路3に繋げられ、前記蒸発した材料が該蒸発材料通路3の外に放出される第1乃至第4の材料放出用開口部4a〜4dと、を具備し、前記第1乃至第4の材料放出用開口部を結ぶ線によって形成される図形が略正方形となるように、前記第1乃至第4の材料放出用開口部が配置されていることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
この蒸着装置は一つの蒸発源101を有し、この蒸発源101の上方に被成膜基板102が保持されるようになっている。被成膜基板102の平面形状は、例えば200mm×200mmの四角形である。蒸発源101は、その熱源として例えばシーズヒータ(図示せず)を用いている。このシーズヒータの熱は坩堝を介して蒸発材料に伝達され、蒸発材料を蒸発させ、被成膜基板102の表面に薄膜を蒸着により形成する。
前記容器に繋げられ、該容器内で蒸発又は昇華した材料が流入される材料通路と、
前記材料通路に繋げられ、前記蒸発又は昇華した材料が該材料通路の外に放出される3つ以上の開口部と、
を具備し、
前記3つ以上の開口部を結ぶ線によって形成される図形が多角形となるように、前記3つ以上の開口部が配置されていることを特徴とする。
前記第1容器に繋げられ、該第1容器内で蒸発又は昇華した材料が流入される第1材料通路と、
前記第1材料通路に繋げられ、前記蒸発又は昇華した材料が該第1材料通路の外に放出される3つ以上の第1開口部と、
第2蒸発材料又は第2昇華材料が収容される第2容器と、
前記第2容器に繋げられ、該第2容器内で蒸発又は昇華した材料が流入される第2材料通路と、
前記第2材料通路に繋げられ、前記蒸発又は昇華した材料が該第2材料通路の外に放出される3つ以上の第2開口部と、
を具備し、
前記3つ以上の第1開口部を結ぶ線によって形成される図形が多角形となるように、前記3つ以上の第1開口部が配置され、
前記3つ以上の第2開口部を結ぶ線によって形成される図形が多角形となるように、前記3つ以上の第2開口部が配置されていることを特徴とする。
また、本発明に係る蒸発源において、前記第1開口部を結ぶ線によって形成される多角形及び前記第2開口部を結ぶ線によって形成される多角形それぞれが略正方形であり、前記第1開口部及び前記第2開口部それぞれが略同一円周上に配置され、隣り合う第1開口部及び第2開口部それぞれと前記円の中心とを結ぶ線によって形成される角度が34°以内であることが好ましい。
請求項1乃至4のいずれか一項に記載の蒸発源と、
前記蒸発源が収容された蒸着室と、
を具備することを特徴とする。
蒸着室と、
前記蒸着室内に配置され、請求項1に記載の蒸発源と、
前記蒸着室内に配置され、前記蒸発源に対向するように被成膜基板が保持される基板保持機構と、
を具備し、
前記多角形が略正方形であり、前記基板保持機構に保持された被成膜基板と前記開口部との距離が前記略正方形の一辺の長さに略等しいことを特徴とする。
蒸着室と、
前記蒸着室内に配置され、請求項4に記載の蒸発源と、
前記蒸着室内に配置され、前記蒸発源に対向するように被成膜基板が保持される基板保持機構と、
を具備し、
前記基板保持機構に保持された被成膜基板と前記第1開口部及び前記第2開口部それぞれとの距離が前記略正方形の一辺の長さに略等しいことを特徴とする。
前記3つ以上の開口部を結ぶ線によって形成される図形が多角形となるように、前記3つ以上の開口部が配置されていることを特徴とする。
前記3つ以上の第1開口部を結ぶ線によって形成される図形が多角形となるように、前記3つ以上の第1開口部が配置され、
前記3つ以上の第2開口部を結ぶ線によって形成される図形が多角形となるように、前記3つ以上の第2開口部が配置されていることを特徴とする。
(実施の形態1)
図1(A)は、本発明の実施の形態1による蒸発源を示す平面図であり、図1(B)は、図1(A)に示す1B−1B線に沿った断面図である。
尚、本実施の形態では、加熱されると蒸発する蒸発材料を用いているが、加熱されると昇華する昇華材料を用いることも可能である。
具体的には、例えば距離R0を230mmとし、距離R2を230mmとすると、200mm×200mmの四角形である被成膜基板に成膜された薄膜の膜厚分布は±1.70%にできることが確認された。
例えば、複数の材料放出用開口部それぞれを結ぶ線によって形成される多角形が略正多角形になるように、前記材料放出用開口部を配置することも可能であり、この場合も成膜効率を維持しつつ被成膜基板に膜厚均一性の高い薄膜を成膜することができる。
本実施の形態による共蒸発源は、2つの蒸発材料を蒸発させて被成膜基板に薄膜を成膜するものであり、いわゆる共蒸着によって被成膜基板に薄膜を成膜するものである。
尚、本実施の形態では、第2蒸発源20の蒸発材料として加熱されると蒸発する蒸発材料を用いているが、加熱されると昇華する昇華材料を用いることも可能である。
図4に示すように、第2蒸発源20の上に第1蒸発源10を重ねるように配置し、第2蒸発源20の第2開口部15a内に第1蒸発源10の容器1及びランプヒータ2等を挿入する。第1蒸発源の上部板状部材4の対角線7と第2蒸発源の上部板状部材14の対角線17とで作る角度θが34°以内、好ましくは30°以内となるような位置関係で、第2蒸発源に第1蒸発源を重ねて配置する。つまり、第1蒸発源10を図2に示す第1蒸発源の位置に対して+17°以内、好ましくは+15°以内回転させ、第2蒸発源20を図3に示す第2蒸発源の位置に対して−17°以内、好ましくは−15°以内回転させることにより、角度θが34°以内、好ましくは30°以内になるように配置する。
本発明の実施の形態3による蒸着装置について説明する。
この蒸着装置は、ガラス基板などの被成膜基板に薄膜を蒸着するためのものである。蒸着装置は蒸着室となるチャンバーを備えている。チャンバー内には蒸発源が配置されており、この蒸発源は、実施の形態1による蒸発源を用いても良いし、実施の形態2による共蒸発源を用いても良い。
上記蒸着装置は、蒸発源を加熱して蒸発材料又は昇華材料を材料放出用開口部から上方に放出させることにより、前記基板保持機構に静止状態で保持された被成膜基板の全面に蒸着膜を成膜するようになっている。
1a…開口部
2…ランプヒータ
3,13…蒸発材料通路
4,14…上部板状部材
4a〜4d,14a〜14d…第1乃至第4の材料放出用開口部
5,15…下部板状部材
6a,6b,6c,6d,16a,16b,16c,16d…支持脚
7…第1蒸発源の上部板状部材の対角線
10…第1蒸発源
15a…第2開口部
17…第2蒸発源の上部板状部材の対角線
20…第2蒸発源
101…蒸発源
102…被成膜基板
θ…角度
R0…被成膜基板の中央部と蒸発源との距離
R1…被成膜基板の縁部と蒸発源との距離
Claims (9)
- 蒸発材料又は昇華材料が収容される容器と、
前記容器に繋げられ、該容器内で蒸発又は昇華した材料が流入される材料通路と、
前記材料通路に繋げられ、前記蒸発又は昇華した材料が該材料通路の外に放出される3つ以上の開口部と、
を具備し、
前記3つ以上の開口部を結ぶ線によって形成される図形が多角形となるように、前記3つ以上の開口部が配置されていることを特徴とする蒸発源。 - 第1蒸発材料又は第1昇華材料が収容される第1容器と、
前記第1容器に繋げられ、該第1容器内で蒸発又は昇華した材料が流入される第1材料通路と、
前記第1材料通路に繋げられ、前記蒸発又は昇華した材料が該第1材料通路の外に放出される3つ以上の第1開口部と、
第2蒸発材料又は第2昇華材料が収容される第2容器と、
前記第2容器に繋げられ、該第2容器内で蒸発又は昇華した材料が流入される第2材料通路と、
前記第2材料通路に繋げられ、前記蒸発又は昇華した材料が該第2材料通路の外に放出される3つ以上の第2開口部と、
を具備し、
前記3つ以上の第1開口部を結ぶ線によって形成される図形が多角形となるように、前記3つ以上の第1開口部が配置され、
前記3つ以上の第2開口部を結ぶ線によって形成される図形が多角形となるように、前記3つ以上の第2開口部が配置されていることを特徴とする蒸発源。 - 請求項1又は2において、前記多角形が略正多角形であることを特徴とする蒸発源。
- 請求項2において、前記第1開口部を結ぶ線によって形成される多角形及び前記第2開口部を結ぶ線によって形成される多角形それぞれが略正方形であり、前記第1開口部及び前記第2開口部それぞれが略同一円周上に配置され、隣り合う第1開口部及び第2開口部それぞれと前記円の中心とを結ぶ線によって形成される角度が34°以内であることを特徴とする蒸発源。
- 被成膜基板に蒸着膜を成膜する蒸着装置であって、
請求項1乃至4のいずれか一項に記載の蒸発源と、
前記蒸発源が収容された蒸着室と、
を具備することを特徴とする蒸着装置。 - 被成膜基板に蒸着膜を成膜する蒸着装置であって、
蒸着室と、
前記蒸着室内に配置され、請求項1に記載の蒸発源と、
前記蒸着室内に配置され、前記蒸発源に対向するように被成膜基板が保持される基板保持機構と、
を具備し、
前記多角形が略正方形であり、前記基板保持機構に保持された被成膜基板と前記開口部との距離が前記略正方形の一辺の長さに略等しいことを特徴とする蒸着装置。 - 被成膜基板に蒸着膜を成膜する蒸着装置であって、
蒸着室と、
前記蒸着室内に配置され、請求項4に記載の蒸発源と、
前記蒸着室内に配置され、前記蒸発源に対向するように被成膜基板が保持される基板保持機構と、
を具備し、
前記基板保持機構に保持された被成膜基板と前記第1開口部及び前記第2開口部それぞれとの距離が前記略正方形の一辺の長さに略等しいことを特徴とする蒸着装置。 - 蒸発材料又は昇華材料を加熱して蒸発又は昇華させ、この蒸発又は昇華させた材料を3つ以上の開口部から放出させ、この放出させた材料を被成膜基板に蒸着させる蒸着方法であって、
前記3つ以上の開口部を結ぶ線によって形成される図形が多角形となるように、前記3つ以上の開口部が配置されていることを特徴とする蒸着方法。 - 第1蒸発材料又は第1昇華材料を加熱して蒸発又は昇華させ、この蒸発又は昇華させた第1材料を3つ以上の第1開口部から放出させると共に、第2蒸発材料又は第2昇華材料を加熱して蒸発又は昇華させ、この蒸発又は昇華させた第2材料を3つ以上の第2開口部から放出させ、この放出させた第1材料及び第2材料を被成膜基板に蒸着させる蒸着方法であって、
前記3つ以上の第1開口部を結ぶ線によって形成される図形が多角形となるように、前記3つ以上の第1開口部が配置され、
前記3つ以上の第2開口部を結ぶ線によって形成される図形が多角形となるように、前記3つ以上の第2開口部が配置されていることを特徴とする蒸着方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005183197A JP4841872B2 (ja) | 2005-06-23 | 2005-06-23 | 蒸発源及び蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publication Number | Publication Date |
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JP2007002291A true JP2007002291A (ja) | 2007-01-11 |
JP4841872B2 JP4841872B2 (ja) | 2011-12-21 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010123004A1 (ja) * | 2009-04-21 | 2010-10-28 | 株式会社アルバック | 真空蒸着システム及び真空蒸着方法 |
KR20170001626A (ko) * | 2015-06-26 | 2017-01-04 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 증착 장치 |
CN106282930A (zh) * | 2015-06-26 | 2017-01-04 | 佳能特机株式会社 | 蒸镀装置 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55160422A (en) * | 1979-05-31 | 1980-12-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method and device for thin film growth |
JPS60137896A (ja) * | 1983-12-23 | 1985-07-22 | Hitachi Ltd | 分子線源用ルツボ |
JP2000017425A (ja) * | 1998-07-07 | 2000-01-18 | Ulvac Corp | 有機化合物用の容器、及び有機薄膜製造方法 |
JP2003129231A (ja) * | 2001-10-26 | 2003-05-08 | Matsushita Electric Works Ltd | 真空蒸着装置及び真空蒸着方法 |
JP2004018997A (ja) * | 2002-06-20 | 2004-01-22 | Eiko Engineering Co Ltd | 薄膜堆積用分子線源セル |
JP2004162108A (ja) * | 2002-11-12 | 2004-06-10 | Eiko Engineering Co Ltd | 薄膜堆積用分子線源セル |
JP2006225725A (ja) * | 2005-02-18 | 2006-08-31 | Hitachi Zosen Corp | 蒸着装置 |
-
2005
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55160422A (en) * | 1979-05-31 | 1980-12-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method and device for thin film growth |
JPS60137896A (ja) * | 1983-12-23 | 1985-07-22 | Hitachi Ltd | 分子線源用ルツボ |
JP2000017425A (ja) * | 1998-07-07 | 2000-01-18 | Ulvac Corp | 有機化合物用の容器、及び有機薄膜製造方法 |
JP2003129231A (ja) * | 2001-10-26 | 2003-05-08 | Matsushita Electric Works Ltd | 真空蒸着装置及び真空蒸着方法 |
JP2004018997A (ja) * | 2002-06-20 | 2004-01-22 | Eiko Engineering Co Ltd | 薄膜堆積用分子線源セル |
JP2004162108A (ja) * | 2002-11-12 | 2004-06-10 | Eiko Engineering Co Ltd | 薄膜堆積用分子線源セル |
JP2006225725A (ja) * | 2005-02-18 | 2006-08-31 | Hitachi Zosen Corp | 蒸着装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010123004A1 (ja) * | 2009-04-21 | 2010-10-28 | 株式会社アルバック | 真空蒸着システム及び真空蒸着方法 |
JP5372144B2 (ja) * | 2009-04-21 | 2013-12-18 | 株式会社アルバック | 真空蒸着システム及び真空蒸着方法 |
KR101388890B1 (ko) * | 2009-04-21 | 2014-04-23 | 가부시키가이샤 알박 | 진공 증착 시스템 및 진공 증착 방법 |
KR20170001626A (ko) * | 2015-06-26 | 2017-01-04 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 증착 장치 |
CN106282930A (zh) * | 2015-06-26 | 2017-01-04 | 佳能特机株式会社 | 蒸镀装置 |
KR101989659B1 (ko) | 2015-06-26 | 2019-06-14 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 증착 장치 |
CN106282930B (zh) * | 2015-06-26 | 2020-05-01 | 佳能特机株式会社 | 蒸镀装置 |
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