JP7376426B2 - 真空蒸着装置用の蒸着源 - Google Patents
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Description
Claims (6)
- 真空チャンバ内に配置されて被蒸着物に対して蒸着するための真空蒸着装置用の蒸着源において、
蒸着物質が充填される坩堝と、坩堝の上面開口にこの坩堝と熱的に縁切りさせた状態で取り付けられるキャップ体と、キャップ体を主として加熱する加熱手段とを備え、加熱手段で加熱されるキャップ体からの輻射で坩堝に充填された蒸着物質の上層部が加熱され、
キャップ体に、加熱により気化または昇華した蒸着物質の通過を許容する放出開口が開設されることを特徴とする真空蒸着装置用の蒸着源。 - 前記キャップ体は、前記蒸着物質の上層部に対向配置され、前記放出開口が開設された板状部を有し、前記坩堝は、前記蒸着物質が充填される下坩堝部と、下坩堝部の上側にこの下坩堝部と熱的に縁切りさせた状態で組み付けられ、前記キャップ体の板状部を内包する上坩堝部とを有し、上坩堝部の周囲に前記加熱手段が配置されることを特徴とする請求項1記載の真空蒸着装置用の蒸着源。
- 前記キャップ体と前記上坩堝部とが一体に形成されることを特徴とする請求項2記載の真空蒸着装置用の蒸着源。
- 前記キャップ体は、前記板状部の外縁から上方向及び下方向の少なくとも一方向にのびて上坩堝部の内面に少なくとも部分的に対向する筒状部を有することを特徴とする請求項2記載の真空蒸着装置用の蒸着源。
- 前記下坩堝部は、前記上坩堝部と同等以下の熱伝導率を有する材料で構成されることを特徴とする請求項2~4のいずれか1項記載の真空蒸着装置用の蒸着源。
- 前記上坩堝部及び前記キャップ体の少なくとも一方が導電性材料で構成され、前記加熱手段が誘導加熱式のものであることを特徴とする請求項2~5のいずれか1項記載の真空蒸着装置用の蒸着源。
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