JP4445497B2 - 薄膜蒸着装置及びこれを利用した薄膜蒸着方法 - Google Patents

Description

本発明は、薄膜蒸着装置及びこれを利用した薄膜蒸着方法に関し、より詳細には、フルカラー（ｆｕｌｌ−ｃｏｌｏｒ）具現のために基板上に有機薄膜を形成する時に、バッチ（Ｂａｔｃｈ）タイプで基板装着後、ポンピング、蒸着及び基板取出し（Ｖｅｎｔ）を一ラインで連続的に遂行することで、蒸着物質の加熱及び昇温にかかる時間を最小化することができる薄膜蒸着装置及びこれを利用した薄膜蒸着方法に関する。

今後、次世代ディスプレイとして注目されている平板表示装置のうち、有機発光表示装置は、発光層に陰極と陽極を通じて注入された電子と正孔が再結合して励起子（ｅｘｉｔｏｎ）を形成し、形成された励起子からのエネルギーによって特定波長の光が発生する現象を利用する自発光型ディスプレイ装置である。通常、有機発光表示装置の薄膜は、複数の機能層（ホール注入層、ホール伝達層、発光層、電子伝達層、電子注入層、バッフア層及びキャリアブロッキング層）などを含み、このような機能層の組み合わせ及び配列などにより所望の性能を有する有機発光表示装置を製造する。

有機電界発光表示装置は、低電圧で駆動可能であり、軽量の薄型で、視野角が広いだけでなく応答速度もまた早いという長所を具備する。このような有機電界発光表示装置の基板上に有機薄膜を形成する一般的な方法では、蒸着法、イオンプレーティング法及びスパッタリング法のような物理気相蒸着ＰＶＤ法と、ガス反応による化学気相蒸着ＣＶＤ法などがある。

この中、最も一般的に薄膜を形成する方法である真空蒸着法は、真空チャンバの下部に蒸発源とその上部に成膜用基板及びマスクを設置して薄膜を形成するのである。

以下では図面を参照して従来の薄膜蒸着装置を具体的に説明する。
図１は、従来技術による薄膜蒸着装置を示す概略的な平面図である。

図１のように、従来の薄膜蒸着装置は基板１２をそれぞれのチャンバ１３、１４、１５、１６、１７、１８に移送することができるロボットアーム１１を具備する移送室１０が含まれる。そして、前記ロボットアーム１１によってそれぞれの前記チャンバ１３、１４、１５、１６、１７、１８に前記基板１２が投入・取出しされつつ前記基板１２上に順次有機薄膜が形成される。

それぞれのチャンバ１３、１４、１５、１６、１７、１８には基板１２の投入・取り出しができるゲート１３ａ、１４ａ、１５ａ、１６ａ、１７ａ、１８ａが形成されており、前記チャンバ１３、１４、１５、１６、１７、１８内部には多様な蒸着物質を具備した蒸発源１４ｂ、１５ｂ、１６ｂ、１７ｂ、１８ｂが設置されている。

したがって、外部に連結されたチャンバ１３に基板が投入されれば、前記基板１２はロボットアーム１１でゲート１４ａを通じて第１チャンバ１４に移送される。前記第１チャンバ１４内の基板ホルダー上に前記基板１２が位置されて、下部に具備された第１蒸着物質を加熱して前記基板１２上に蒸着させる。

前記第１蒸着物質の蒸着が完了すれば、ロボットアーム１１が前記基板１２を取出して第２チャンバ１５に投入する。前記第１チャンバ１４での場合と同じく第２蒸着物質を基板１２上に蒸着させて、残りの第３チャンバ１６、第４チャンバ１７及び第５チャンバ１８でそれぞれの蒸着物質を順次基板１２上に蒸着させる。

多様な蒸着物質の蒸着が完了した基板１２は、再度ロボットアーム１１によってチャンバ外部に移送されるようになって、また新しい基板がチャンバに投入されて同じ工程を繰り返すようになる。

しかし、前述のような方法は一つの基板が多くのチャンバを移動して多様な蒸着物質の蒸着が完了して基板を取出した後、また他の基板がチャンバ内に投入されるので、一つの基板を蒸着するのに長い時間が消費されるという問題点がある。

さらに、それぞれのチャンバに具備された蒸着物質は、複数の基板に有機薄膜を形成することができるほどの量なので、蒸着物質の加熱及び昇温にかかる時間が長くなるという問題点がある。
米国特許公開ＵＳ５，９５０，１０９号明細書

したがって、本発明は上記従来の問題点を解決するために考案された発明で、本発明の目的はフルカラー（ｆｕｌｌ−ｃｏｌｏｒ）具現のために基板上に有機薄膜を形成する時に、バッチタイプで基板装着後、ポンピング、蒸着及び基板取出しを一ラインで連続的に遂行することができる薄膜蒸着装置及びこれを利用した薄膜蒸着方法を提供することにある。

上述した目的を果たすために、本発明による薄膜蒸着装置は内部を真空で維持させるポンプ部を具備して、基板上に蒸着物質を蒸着する工程を遂行する少なくとも一つのチャンバと、前記チャンバ内部に蒸着物質が蒸着される前記基板及びマスクを支持する基板ホルダーと、前記チャンバ内部に前記基板と対向するように設置されて、少なくとも一つの蒸着物質を収納・加熱して蒸発させる多重蒸着物質るつぼと、前記蒸着物質の中で選択されるいずれか一つを局所的に加熱する加熱部を具備する蒸発源、及び前記チャンバを少なくとも一つのチャンバ安着位置に順次移動させるチャンバ移動手段とを含む。

好ましくは、前記多重蒸着物質るつぼに具備された各蒸着物質の量は前記基板に一度に蒸着される量であり、前記多重蒸着物質るつぼに各蒸着物質当り２ｃｃないし５ｃｃの範囲である。そして、前記基板は無回転基板であり、前記チャンバの一領域にそれぞれの前記蒸着物質が蒸着されるパターンによって前記マスクを投入・取出しさせるマスク交換手段をさらに具備する。

また、前記チャンバ移動手段は少なくとも一つのチャンバ安着位置をレールに沿って移動し、前記るつぼは熱伝導度の高いセラミックス、チタン（Ｔｉ）及びステンレススチールからなるグループより選ばれるいずれか一つで形成されて、前記熱伝導度の高いセラミックスはグラファイト（Ｇｒａｐｈｉｔｅ）、シリコンカーバイド（ＳｉＣ）、アルミニウムナイトライド（ＡｌＮ）、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）、ボロンナイトライド（ＢＮ）、及び石英からなるグループより選ばれるいずれか一つで形成される。そして、前記ヒータはセラミックスヒータ、タンタルヒータ（Ｔａ）及びタングステンヒータからなるグループより選ばれるいずれか一つで形成される。

また、本発明による薄膜蒸着装置を利用した薄膜蒸着方法は、少なくとも一つの蒸着物質を収納・加熱して蒸発させる多重蒸着物質るつぼが具備された蒸発源を設置して、前記蒸発源と対向するように基板ホルダーに前記蒸着物質が蒸着される第１基板及びマスクを装着させたチャンバを準備する第１段階と、前記チャンバをポンプ部によって内部を真空で維持させて、前記チャンバをチャンバ移動手段によって第１チャンバ安着位置に移動させる第２段階と、前記蒸発源に設置された加熱部によって第１蒸着物質を局所的に加熱して前記第１基板上に前記第１蒸着物質を蒸着させる第３段階と、前記第１基板が具備されたチャンバを第２チャンバ安着位置に移動させて、第２蒸着物質を局所的に加熱して前記第１基板上に第２蒸着物質を蒸着させると同時に第１チャンバ安着位置に第２基板を具備したチャンバを移動させて、第１蒸着物質を局所的に加熱して前記第２基板上に蒸着させる第４段階と、前記第１基板が具備されたチャンバを最後のチャンバ安着位置に移動させて前記多重蒸着物質るつぼに具備された最後の蒸着物質を第１基板上に蒸着させると同時に各チャンバ安着位置に位置されたチャンバでそれぞれの蒸着物質を加熱して基板上に蒸着させる第５段階、及び前記第１基板に蒸着物質の蒸着が完了すれば前記第１基板を取り出す第６段階とを含む。

好ましくは、前記第２ないし第５段階において、前記チャンバ移動手段はレールを具備して前記チャンバを各チャンバ安着位置に移動させて、前記基板上に各チャンバ安着位置で加熱されるそれぞれの蒸着物質を順次蒸着させる。そして、前記第１段階において、前記多重蒸着物質るつぼに具備された各蒸着物質の量は、前記基板に一度に蒸着される量であり、さらに好ましくは２ｃｃないし５ｃｃの範囲である。また、前記第３ないし第５段階において、マスク交換手段によって前記チャンバの一領域にそれぞれの前記蒸着物質が蒸着されるパターンによってマスクを投入・取出しさせる。

以上、説明したように、本発明によれば、フルカラー具現のために基板上に有機薄膜を形成する時に、バッチタイプで一つの基板に蒸着されるようにそれぞれの蒸着物質を蒸発源内部に位置させて、基板装着後、ポンピング、蒸着及び基板取出しを一ラインで連続的に遂行するので、蒸着物質の加熱及び昇温にかかる時間を最小化することができるだけでなく、簡単なチャンバ構成によって製作コスト及び運営費を低減することができる。

以下では、本発明の実施例を図面を参照して具体的に説明する。
図２は本発明による薄膜蒸着装置を示す概略的な平面図である。

図２のように、少なくとも一つのチャンバ安着位置Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅが具備されたレール形状で構成されたチャンバ移動手段２０にそれぞれチャンバ２１が位置している。前記チャンバ２１は、一つのチャンバ安着位置で蒸着が完了すれば順次その次のチャンバ安着位置に移動されて、前記チャンバ２１は内部を真空で維持させるポンプ部（図示せず）を具備して、基板２４上に蒸着物質を蒸着する工程を遂行する。

そして、前記チャンバ２１内部には蒸着物質が蒸着される基板及びマスクを支持する基板ホルダーが設置されている。前記チャンバ２１内部の前記基板２４と対向する位置には少なくとも一つの蒸着物質２３ａ、２３ｂ、２３ｃ、２３ｄ、２３ｅを収納・加熱して蒸発させる多重蒸着物質るつぼ２２と、前記蒸着物質２３ａ、２３ｂ、２３ｃ、２３ｄ、２３ｅの中から選択されるいずれか一つを局所的に加熱する加熱部を具備する蒸発源が具備される。

前記多重蒸着物質るつぼ２２に具備された各蒸着物質２３ａ、２３ｂ、２３ｃ、２３ｄ、２３ｅの量は、前記基板２４に一度に蒸着される量で、各蒸着物質２３ａ、２３ｂ、２３ｃ、２３ｄ、２３ｅ当り２ｃｃないし５ｃｃの範囲の量が具備される。

蒸着の時に基板２４は無回転して、図面には図示されなかったが、チャンバ２１の一領域にはそれぞれの前記蒸着物質２３ａ、２３ｂ、２３ｃ、２３ｄ、２３ｅが前記基板２４にパターニングされる形状を取り揃えたマスクを投入・取出しさせるマスク交換手段をさらに具備する。

そして、前記多重蒸着物質るつぼ２２は熱伝導度の高いセラミックス、チタン（Ｔｉ）及びステンレススチールからなるグループより選ばれるいずれか一つで形成されて、前記熱伝導度の高いセラミックスはグラファイト（Ｇｒａｐｈｉｔｅ）、シリコンカーバイド（ＳｉＣ）、アルミニウムナイトライド（ＡｌＮ）、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）、ボロンナイトライド（ＢＮ）及び石英（Ｑｕｒａｔｚ）からなるグループより選ばれるいずれか一つで形成される。また、ヒータはセラミックスヒータ（Ｃｅｒａｍｉｃ ｈｅａｔｅｒ）、タンタルヒータ（Ｔａ）及びタングステンヒータからなるグループより選ばれるいずれか一つで形成される。

本発明による薄膜蒸着装置を利用した薄膜蒸着方法を説明すれば、まず、少なくとも一つの蒸着物質２３ａ、２３ｂ、２３ｃ、２３ｄ、２３ｅを収納・加熱して蒸発させる多重蒸着物質るつぼ２２が具備された蒸発源を設置して、前記蒸発源と対向するように基板ホルダーに前記蒸着物質が蒸着される第１基板及びマスクを装着させたチャンバを準備する。この時、多重蒸着物質るつぼ２２に具備された各蒸着物質の量は２ｃｃないし５ｃｃの範囲で前記基板２４に一度に蒸着される量である。

そうしてから、ポンプ部の作動によって前記チャンバ２１を真空で維持させて、前記チャンバ２１をチャンバ移動手段２０によって第１チャンバ安着位置Ａに移動させる。ここで、前記チャンバ移動手段２０はレールを具備して前記チャンバ２１を各チャンバ安着位置Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅに移動させて、前記基板２４上に各チャンバ安着位置Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅで加熱されるそれぞれの蒸着物質２３ａ、２３ｂ、２３ｃ、２３ｄ、２３ｅを順次蒸着させる。

以後、前記蒸発源に設置された加熱部によって第１蒸着物質を局所的に加熱して前記第１基板上に前記第１蒸着物質を蒸着させる。また、前記第１基板が具備されたチャンバを第２チャンバ安着位置に移動させて、第２蒸着物質を局所的に加熱して前記第１基板上に第２蒸着物質を蒸着させると同時に第１チャンバ安着位置に第２基板を具備したチャンバを移動させて、第１蒸着物質を局所的に加熱して前記第２基板上に蒸着させる。

この時、各蒸着物質２３ａ、２３ｂ、２３ｃ、２３ｄ、２３ｅが前記基板２４にパターニングされる形状によってマスクを各チャンバ別に入れ替るようになるが、図示されなかったがマスク交換手段によって前記チャンバ２１の一領域に前記蒸着物質２３ａ、２３ｂ、２３ｃ、２３ｄ、２３ｅが蒸着されるパターンによってマスクを注入・取出させる。

そして、前記第１基板が具備されたチャンバを最後のチャンバ安着位置に移動させて、前記多重蒸着物質るつぼに具備された最後の蒸着物質を第１基板上に蒸着させると同時に各チャンバ安着位置に位置したチャンバでそれぞれの蒸着物質を加熱して基板上に蒸着させる。

最後に、前記第１基板に蒸着物質の蒸着が完了すれば前記第１基板を取り出す。前記第１基板を取出せば、次に蒸着される基板及び蒸着物質を再度投入するようになって、前記のような過程を繰り返しながら複数の基板に多重蒸着物質を蒸着する。一つのチャンバ内に具備される蒸着物質は一つの基板に蒸着されるほどの量を具備するので、蒸着物質の加熱及び昇温にかかる時間を最小化することができる。

図３は、本発明による薄膜蒸着装置の中で一つのチャンバを示す概略的な断面図である。図３のように、本発明による蒸着装置は内部が真空で維持される真空チャンバ３７と、前記真空チャンバ３７内で蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅが蒸着される基板３２、蒸着パターンが形成されたマスク３８及び前記マスク３８を支持して、少なくとも前記マスク３８の開口と一致する大きさの開口が形成されたマスクホルダー３３が設置されている。

そして、前記基板３２及び前記マスク３８と対向するように設置されて、蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅを収納・加熱して蒸発させる蒸発源（図示せず）を含む。前記マスク３８は前記基板３２と前記蒸発源の間に設置されて、前記蒸発源には蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅを収納している多重蒸着物質るつぼ３０が形成されている。前記るつぼ３０に具備された各蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅの量は、前記基板３２に一度に蒸着される量であり、各蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅ当り２ｃｃないし５ｃｃ範囲の量を具備する。また、前記マスク３８に形成されたパターンのどおり各蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅを順次前記基板３２上に蒸着させる。

前記蒸発源は、ステンレススチール（ＳＵＳ）またはアルミニウムＡｌでなり、一般的に、金属または伝導性セラミックス材質のるつぼを電子ビームまたは抵抗加熱などの方式で加熱して、その内部に収納された蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅが蒸発または昇化されて上部に形成された噴射ノズル（図示せず）を通じて噴射されるようにしたものである。

本発明によれば、蒸発源は蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅが収納されたるつぼ３０と、前記蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅを加熱する加熱部３５を具備する。また、前記るつぼ３０から発生した熱が蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅに影響を及ぼさないように前記るつぼ３０の外部には放熱板（図示せず）が設置されている。

そして、図示されなかったが前記蒸発源の一領域には蒸着厚さをモニタリングできる蒸着率測定モニター（図示せず）が設置されている。例えば、サブピクセルの開口率が５０％の場合、前記蒸着率測定モニターによって計算された厚さの２倍がサブピクセル内に蒸着される。

前記蒸着率測定モニターは、蒸発源と一体型に装着されて予定された蒸着率を維持するために設置される。蒸着物質の蒸発位を観測しながら蒸発源と一緒に移動しながら蒸着率をリアルタイムで制御する。また、前記蒸発源の加熱部から出る全体蒸着率が成膜工程に適すかどうかを判断して制御するように構成される。

垂直方向に作動する蒸発源では、基板３２に成膜される精度を調節するために前記蒸発源の加熱部３５の発熱量を調節して気化または昇化される蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅの量を制御する方法が可能である。そして、気化または昇化される同一の蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅの量に対して前記蒸発源の移動速度を調節して単位時間に前記基板３２が前記蒸発源に露出される時間調節を通じて、蒸着率を調節する方法も可能である。

本発明による薄膜蒸着装置を利用して基板３２上に薄膜が蒸着される方法を説明すれば、真空チャンバ３７内に蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅを収納して、加熱部３５を具備する蒸発源を準備する。加熱部３５には前記蒸発源を加熱するように設置された少なくとも一つのヒータ（図示せず）が形成されている。前記ヒータはセラミックスヒータ、タンタルヒータ及びタングステンヒータからなるグループより選ばれるいずれか一つで形成される。

そして、前記蒸発源と対向するように基板３２及びマスク３８をマスクホルダー３３に位置させて、前記蒸発源を移動させて前記基板３２上に蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅを蒸着する。前記基板３２上に蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅを蒸着する成膜段階では蒸着率測定モニターを利用して蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅの蒸発程度を観測しながら前記蒸発源と一緒に移動しながら蒸着率をリアルタイムで制御する。

また、前記基板３２が真空チャンバ３７内に装着された状態で、前記加熱部３５によって加熱されて気化または昇化された蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅが前記基板３２に噴射されて蒸着される。このように、前記蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅを加熱して気化または昇化させてすぐに前記基板３２に蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅを蒸着することができるのは、有機発光素子に使用される蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅである有機物が昇化性が高く、２００℃ないし４００℃の低い温度で気化するからである。前記蒸発源から気化または昇化された蒸着物質３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ、３１ｅは、前記基板３２に移動されて吸着、蒸着、再蒸発などの連続的過程を経て前記基板３２に固体化されて薄膜を形成する。

上記実施例では有機発光表示装置を例として説明したが、薄膜を蒸着するすべてのディスプレイに適用することができる。また、蒸着物質が有機物の場合について説明したが、金属物質の場合にも可能である。

以上添付した図面を参照して本発明について詳細に説明したが、これは例示的なものに過ぎず、当該技術分野における通常の知識を有する者であれば、多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるということを理解することができる。

従来技術による薄膜蒸着装置を示す概略的な平面図である。 本発明による薄膜蒸着装置を示す概略的な平面図である。 本発明による薄膜蒸着装置の中で一つのチャンバを示す概略的な断面図である。

符号の説明

２０ チャンバ移動手段
２１ チャンバ
２２、３０ るつぼ
２４、３２ 基板
２５ ロボットアーム
３５ 加熱部

Claims (14)

1. 内部を真空で維持させるポンプ部を具備して、基板上に蒸着物質を蒸着する工程を遂行する少なくともニつのチャンバと、
   前記チャンバ内部に設置される、蒸着物質が蒸着される前記基板及びマスクを支持する基板ホルダーと、
   前記チャンバ内部に前記基板と対向するように設置されて、少なくともニつの蒸着物質を収納・加熱して蒸発させる多重蒸着物質るつぼと、前記蒸着物質の中で選択されるいずれか一つを局所的に加熱する加熱部とを具備する蒸発源と、
   前記チャンバを少なくともニつのチャンバ安着位置に順次移動させるチャンバ移動手段と、
   を含むことを特徴とする薄膜蒸着装置。
2. 前記多重蒸着物質るつぼに具備された各蒸着物質の量は前記基板に一度に蒸着される量であることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
3. 前記多重蒸着物質るつぼには各蒸着物質当り２ｃｃないし５ｃｃ範囲の量が具備されることを特徴とする請求項２に記載の薄膜蒸着装置。
4. 前記基板は、
   無回転基板であることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
5. 前記チャンバの一領域にそれぞれの前記蒸着物質が蒸着されるパターンによって前記マスクを投入・取出しさせるマスク交換手段をさらに具備することを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
6. 前記チャンバ移動手段は、
   少なくともニつのチャンバ安着位置をレールに沿って移動することを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
7. 前記るつぼは、
   熱伝導度の高いセラミックス、チタンＴｉ及びステンレススチールからなるグループより選ばれるいずれか一つで形成されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
8. 前記熱伝導度の高いセラミックスは、
   グラファイト、シリコンカーバイドＳｉＣ、アルミニウムナイトライドＡｌＮ、アルミナＡｌ_２Ｏ_３、ボロンナイトライドＢＮ及び石英Ｑｕｒａｔｚからなるグループより選ばれるいずれか一つで形成されることを特徴とする請求項７に記載の薄膜蒸着装置。
9. 前記加熱部で用いられるヒータは、
   セラミックスヒータＣｅｒａｍｉｃｈｅａｔｅｒ、タンタルヒータＴａ及びタングステンヒータからなるグループより選ばれるいずれか一つで形成されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
10. 少なくともニつの蒸着物質を収納・加熱して蒸発させる多重蒸着物質るつぼが具備された蒸発源を設置して、前記蒸発源と対向するように基板ホルダーに前記蒸着物質が蒸着される第１基板及びマスクを装着させたチャンバを準備する第１段階と、
    前記チャンバをポンプ部によって内部を真空で維持させて、前記チャンバをチャンバ移動手段によって第１チャンバ安着位置に移動させる第２段階と、
    前記蒸発源に設置された加熱部によって第１蒸着物質を局所的に加熱して前記第１基板上に前記第１蒸着物質を蒸着させる第３段階と、
    前記第１基板が具備されたチャンバを第２チャンバ安着位置に移動させて、第２蒸着物質を局所的に加熱して前記第１基板上に第２蒸着物質を蒸着させると同時に第１チャンバ安着位置に第２基板を具備したチャンバを移動させて、第１蒸着物質を局所的に加熱して前記第２基板上に蒸着させる第４段階と、
    前記第１基板が具備されたチャンバを最後のチャンバ安着位置に移動させて前記多重蒸着物質るつぼに具備された最後の蒸着物質を第１基板上に蒸着させると同時に各チャンバ安着位置に位置されたチャンバでそれぞれの蒸着物質を加熱して基板上に蒸着させる第５段階と、
    前記第１基板に蒸着物質の蒸着が完了すれば前記第１基板を取り出す第６段階と、
    を含むことを特徴とする薄膜蒸着装置を利用した薄膜蒸着方法。
11. 前記第２ないし第５段階において、
    前記チャンバ移動手段はレールを具備して前記チャンバを各チャンバ安着位置に移動させて、前記基板上に各チャンバ安着位置で加熱されるそれぞれの蒸着物質を順次蒸着させることを特徴とする請求項１０に記載の薄膜蒸着装置を利用した薄膜蒸着方法。
12. 前記第１段階において、
    前記多重蒸着物質るつぼに具備された各蒸着物質の量は、前記基板に一度に蒸着される量であることを特徴とする請求項１０に記載の薄膜蒸着装置を利用した薄膜蒸着方法。
13. 前記第１段階において、
    前記多重蒸着物質るつぼに具備された各蒸着物質の量は２ｃｃないし５ｃｃ範囲であることを特徴とする請求項１２に記載の薄膜蒸着装置を利用した薄膜蒸着方法。
14. 前記第３ないし第５段階において、
    マスク交換手段によって前記チャンバの一領域にそれぞれの前記蒸着物質が蒸着されるパターンによってマスクを投入・取出しさせることを特徴とする請求項１０に記載の薄膜蒸着装置を利用した薄膜蒸着方法。

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