CN106282930A - 蒸镀装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种蒸镀装置,其易于进行蒸发源的维护作业。一种蒸镀装置,其将收纳有蒸镀材料的蒸发源(2)设置于蒸发源设置部(40)进行蒸镀,其中,该蒸镀装置具备包围所述蒸发源设置部(40)的四周的遮蔽部(5),所述遮蔽部(5)具有开闭结构。

Description

蒸镀装置
技术领域
本发明涉及蒸镀装置。
背景技术
从蒸发源蒸发并喷出的成膜材料堆积在基板上而形成薄膜的蒸镀装置在有机EL器件的制造中被广泛应用,并且为了满足制造上的要求进行了各种研究。在专利文献1中,公开了这样的技术:为了限制从蒸发源释放出的成膜材料的蒸气的放射范围,在收纳有蒸发源的蒸发源收纳部的外侧壁设置限制板。
专利文献1:日本特开2011-68980号公报
可是,在上述结构的情况下,每当进行蒸发源的清扫或收纳在蒸发源内的成膜材料的补充或更换等维护作业时,都需要进行卸下和固定限制板的作业,维护作业的效率低下。
发明内容
本发明是为了解决上述那样的问题而完成的,目的在于提供一种容易进行蒸发源的维护作业的蒸镀装置。
参照附图对本发明的主旨进行说明。
本发明的第1形态是蒸镀装置,其具备蒸发源设置部,所述蒸发源设置部用于将对基板1进行蒸镀的蒸发源2设置于蒸镀室,其特征在于,所述蒸镀装置构成为,在所述蒸镀装置中设置有包围所述蒸发源设置部40的遮蔽部5,在所述遮蔽部5的上方位置设置有限制板4,所述限制板4用于限制从设置于所述蒸发源设置部40的蒸发源2朝向基板1释放出的成膜材料的蒸发粒子相对于基板1的入射角,在所述遮蔽部5中设置有开闭部6。
另外,涉及一种蒸镀装置,其特征在于,所述限制板4设置于在维护时也不进行开闭的固定支承部件上。
另外,涉及一种蒸镀装置,其特征在于,所述开闭部6在蒸镀时闭合,在维护时打开。
另外,涉及一种蒸镀装置,其特征在于,所述固定支承部件7构成为框状,所述框状具有容许所述开闭部6的开闭动作的开口。
另外,涉及一种蒸镀装置,其特征在于,所述固定支承部件7设置在不对所述开闭部6的开闭动作产生干涉的位置。
另外,涉及一种蒸镀装置,其特征在于,在包围所述蒸发源2的侧周面的所述遮蔽部5的与所述蒸发源2的长度方向的侧面对置的位置处设置了所述开闭部6。
另外,涉及一种蒸镀装置,其特征在于,所述遮蔽部5构成为:在将所述开闭部6设置成打开状态时,蒸发源2在其长度方向全长上从该开闭部6露出。
另外,涉及一种蒸镀装置,其特征在于,所述限制板4被设置成相对于所述遮蔽部5能够自由活动。
另外,涉及一种蒸镀装置,其特征在于,使包围所述蒸发源2的四周的所述遮蔽部5的开口部10开闭的挡板9被设置成相对于所述遮蔽部5能够自由活动。
本发明的第2形态涉及蒸镀装置,其具备:蒸发源设置部,其用于设置收纳成膜材料的蒸发源;和遮蔽部,其包围所述蒸发源设置部的四周,其特征在于,所述遮蔽部具有开闭结构。
根据本发明的蒸镀装置,容易进行蒸发源的维护作业,因此能够缩短维护所需要的时间。
附图说明
图1是本实施例的概要说明立体图。
图2是本实施例的概要说明剖视图。
图3是本实施例的概要说明剖视图。
图4是本实施例的概要说明侧视图。
标号说明
1:基板;
2:蒸发源;
4:限制板;
5:遮蔽部;
6:开闭部;
7:固定支承部件;
9:挡板;
10:开口部;
40:蒸发源设置部。
具体实施方式
对于本发明的蒸镀装置的实施方式,列举具体的实施例进行说明。
图1和图2是示出本发明的蒸镀装置的一个实施例的图。图1是蒸镀装置的内部结构的立体图,这些结构被设置在未图示的真空室的内部。图2是图1的在蒸发源支承体3的短边方向上的剖视图。
首先,对本发明的蒸镀装置的主要结构进行说明,然后对其它结构进行说明。
在蒸发源支承体3的上表面设置有蒸发源设置部40,在蒸发源设置部40上设置有蒸发源2,该蒸发源2收纳有成膜材料。在蒸发源支承体3的上表面上还设置有遮蔽部5,该遮蔽部5包围蒸发源2的四周。在本说明书中,遮蔽部5存在于除了蒸发源2的下部(蒸镀室的设置有蒸发源的底面)和上部(蒸发源的基板侧)之外的蒸发源2的周围,将该状态表述为“包围四周”。换而言之,遮蔽部5存在于蒸发源的侧周。遮蔽部5优选配置成能够防止成膜材料向蒸发源的侧周方向飞散。
蒸发源2是在一个方向上较长的形状的所谓线源,并且是将并排设置有多个材料释放口11的上盖(未图示)装卸自如地设置于容器主体上的结构。在蒸发源2的内部具备用于收纳成膜材料的材料容器,通过卸下上盖,能够进行材料容器内的成膜材料的补充或更换。
蒸发源2以能够拆卸的方式设置于蒸发源设置部40。蒸发源设置部40具有与蒸发源2的底面大致相同的面积,因此,包围蒸发源2的四周进行设置的遮蔽部5包围蒸发源设置部40的四周进行设置。另外,在蒸发源设置部40上设置有用于决定蒸发源2的设置位置的未图示的定位部件。因此,即使临时将蒸发源2卸下,也能够将其再次设置于相同的位置。
遮蔽部5由包围蒸发源2的侧周面的部件构成,并且遮蔽从蒸发源2释放出的成膜材料的蒸气。在本实施例中,将各个部件呈垂直状态竖立设置在蒸发源2、即蒸发源设置部40的四周,构成了俯视时为矩形状的遮蔽部5。在蒸发源支承体3的上表面上还设置有固定支承部件7,为了限制从蒸发源2朝向基板1释放出的成膜材料的蒸镀粒子相对于基板1的入射角,在固定支承部件7上设置有限制板4。限制板4被配置在所述遮蔽部5的上方位置。
如果收纳在蒸发源2中的材料的量由于成膜而变少,则成膜速度变得不稳定,从而无法获得规定的膜厚或者导致膜质量降低。为了抑制这样的情况发生,进行蒸发源2的维护。在进行蒸镀装置的维护时,将蒸发源2的上盖卸下,进行内部的清扫,向对内部所具备的材料进行收纳的容器内补充成膜材料。维护所需要的间隔取决于成膜时间和成膜速度,因此,在将蒸镀装置用作量产设备的情况下,维护的频率升高。
但是,由于蒸发源2的四周被遮蔽部5包围,因此,在该状态,维护变得非常困难。在本实施例的情况下,由于在蒸发源2的上部还配置有限制板4,因此维护变得更加困难。在专利文献1所示的以往的蒸镀装置的结构中,每当进行维护作业时,需要进行限制板等包围着蒸发源设置的部件的拆卸和固定作业,维护作业的效率低下。
因此,在本发明的蒸镀装置中,在遮蔽部5上设置有开闭结构,通过开闭结构设置了维护用的开闭部6,该开闭部6能够变更为使遮蔽部5包围蒸发源的状态(关闭状态)和使蒸发源露出的状态(打开状态)。例如,在蒸镀时,预先使开闭部6成为关闭状态,在维护时等,能够利用开闭结构使开闭部6打开。由此,维护作业的效率得到提高。
具体来说,遮蔽部5由对置的一对固定部件14、和一对可动部件15构成,这一对固定部件14位于蒸发源2的短边方向的侧面侧,固定于蒸发源支承体3,这一对可动部件15位于蒸发源2的长边方向的侧面侧,并且在一对固定部件14之间能够相对于固定部件14移动。
可动部件15比蒸发源2的长度方向上的长度更长,一对可动部件15被配置成在一对固定部件14之间对置。可动部件15的两端部通过枢轴安装部17枢轴安装在固定部件14的内表面下部,并且为这样的结构:通过枢轴安装部17使可动部件15旋转,从而可动部件15能够从垂直立起设置状态成为向外侧打开的状态。通过这样的开闭结构,实现了如下这样的开闭部6:其能够变更为使蒸发源2在长度方向全长上被遮蔽的状态和使蒸发源2在长度方向全长上露出的状态。
在本实施例中,遮蔽部5除了遮蔽从蒸发源2释放出的成膜材料的蒸气这一功能之外,还具有遮蔽从蒸发源2发出的热这一功能。因此,固定部件14和可动部件15成为在内部设有供水等冷却介质流通的冷却介质流通通道13的冷却板,在可动部件15的内侧面设有将冷却介质流通通道13堵住的闭塞板16。
固定支承部件7构成为具有容许开闭部6的开闭动作的开口的框状。具体来说,固定支承部件7构成为:具有设置在不与开闭部6的开闭动作发生干涉的位置处的4个腿部18,并且在该腿部18的上端架设有水平件。
4个腿部18相对于蒸发源2立起设置在比各固定部件14的用于开闭的枢轴安装部17靠外侧的位置。即,腿部18在蒸发源的长度方向上的间隔比可动部件在蒸发源的长度方向上的长度长。
水平件具有:与固定部件14平行的一对短尺寸水平件19;和与可动部件15平行的一对长尺寸水平件20。并且,各腿部18的高度被设置成使水平件(19、20)设置在比可动部件15的上端高的位置。
因此,蒸发源2配置在由框状的固定支承部件7包围的区域中,所述固定支承部件7由4个腿部18和水平件构成。在本实施例中,固定支承部件7由在剖视图中为L字状的角材构成。
在固定支承部件7的上表面、即长尺寸水平件20上,设置有一对限制板4。
通过设置限制板4,成膜材料的蒸镀粒子向基板1入射的角度被限制,在使用掩模的成膜中,能够遮蔽以欲侵入掩模与基板之间的角度向基板入射的蒸镀粒子。
限制板4能够通过分别设置在长尺寸水平件20上的滑动引导部件水平移动从而自由地接近或远离,从而能够固定在所希望的位置。限制板4具有与长尺寸水平件20大致相同的长度,通过调整一对限制板4彼此之间的间隔,能够容易地进行入射角的调整。
在图3和图4中示出了通过可动部件15的打开转动使蒸发源2在其长度方向全长上露出的状态。图3是从蒸发源2的长度方向观察的图,图4是从蒸发源2的短边方向观察的图。这样,通过使蒸发源2在长度方向全长上露出,能够容易地进行将蒸发源2的上盖卸下等的作业。即,通过设置开闭部6,设置在蒸发源2的周围的部件的拆卸和固定作业变得不需要,因此能够提高维护的作业性。并且,在图中,位于长度方向的侧面侧的一对可动部件15构成为能够开闭,但是,只要能够进行维护作业,也可以仅在长度方向的侧面侧的一方设置可动部件15,并将另一方设置成固定部件。
特别是,关于限制板4,用于限制成膜材料的蒸镀粒子朝向基板1入射的角度的位置很重要,因此,一旦卸下限制板4,重现卸下之前的状态需要相当的时间。可是,由于本发明的蒸镀装置具有维护用的开闭部6,因此,通过将在蒸镀时闭合的状态的可动部件15在维护时设置成打开的状态,能够简单地进行维护。这样,在维护时也无需卸下限制板4,因此,能够在维持着限制板4的位置的状态下进行维护,维护的作业性显著提高。如果在维护完成后再次闭合可动部件15,则能够容易地恢复为可蒸镀状态。
接下来,基于图1、2,对本实施例的蒸镀装置的其他具体结构详细地进行说明。
在本实施例中,能够自由活动地设置有挡板9,所述挡板9对包围蒸发源2的遮蔽部5的开口部10进行开闭。挡板9设置有一对,并且比可动部件15稍长,并且配置成能够将遮蔽部5的开口部10堵塞。具体来说,各挡板9的两端部分别经由滑动引导部件21设置在固定部件14上。并且,通过使各挡板9在该固定部件14上接近或远离地移动,来开闭所述开口部10。
另外,挡板9构成为具有:水平板部22,其堵塞遮蔽部5的开口部10;和垂直板部23,其堵塞固定支承部件7的长尺寸水平件20与可动部件15之间的间隙。垂直板部23是在水平板部22的上表面上设置比水平板部22稍短的在剖视图中为L字状的角材而形成的。
并且,在闭合挡板9的状态下,以水平板部22的对置部重合的方式构成各水平板部22等,在蒸镀时打开挡板9的状态下,水平板部22构成为将长尺寸水平件20与可动部件15之间的间隙(的大部分)堵塞(参照图1、2)。
具体来说,关于遮蔽部5,构成为:在固定部件14的内侧含有矩形状的封闭用板体8,所述封闭用板体8的宽度比所述一对可动部件15的对置间隔稍小,并且所述封闭用板体8的高度比固定部件14高。
关于该封闭用板体8,构成为:在设置成使该挡板9和可动部件15闭合的状态时,分别设置在挡板9的长度方向两端部和宽度方向外侧端部的折返部25、26、和设置在闭塞板16的两端部的折返部27重合,其中,所述闭塞板16设置于可动部件15的内表面侧。因此,由上述的挡板9堵塞的遮蔽部5的开口部10具体来说是由封闭用板体8和可动部件15包围的空间的开口部10。
另外,在本实施例中,构成为,可动部件15的闭塞板16的折返部27与封闭用板体8的外侧重合,挡板9的折返部25、26与该闭塞板16的外侧重合。因此,可靠地防止了成膜材料从蒸发源2的长度方向两端部侧漏出,能够在将所述成膜材料良好地封入所述空间中的状态下进行对蒸发源2蒸镀之前的适应性运转等。
如上,根据本实施例,能够如图1、2所图示的那样在蒸镀时打开挡板9从而敞开遮蔽部5的开口部10,并在利用限制板4限制了入射角的状态下进行蒸镀。
另外,在维护蒸发源2等时,如图3、4所图示的那样将挡板9打开至不与可动部件15和闭塞板16发生干涉的位置,并使可动部件15向外侧进行打开转动,从而使蒸发源2在其全长上从由固定支承部件7的腿部18和长尺寸水平件20包围的空间露出。在该状态下,能够将蒸发源2的上盖卸下并从遮蔽部5取出蒸发源2,进行清扫或成膜材料的补充,能够缩短维护时间。另外,不限于对蒸发源2的维护,在进行固定部件14、可动部件15、挡板9等其他部件的清扫时,也无需接触设置于固定支承部件7上的限制板4,从而能够在维护的前后对一次设定的入射角进行维持。另外,通过调整限制板4的背离程度,也能够容易地进行入射角的微调。
另外,本实施例的蒸发源支承体3具备滑动件。具体来说,在蒸镀室的底面上,设置有在第一方向上延伸的轨道31,并且设置有相对于该轨道31能够往复滑动移动的框状的第一方向移动用滑动件32。并且,在该第一方向移动用滑动件32的上表面设有在第二移动方向上延伸的轨道33,在蒸发源支承体3的下部,设有相对于该轨道33能够往复滑动移动的第二方向移动用滑动件35。在该蒸发源支承体3的底面,连结有用于使蒸发源支承体3移动的臂部件34,驱动该臂部件34能够使蒸发源支承体3(蒸发源2)在第一方向或者第二方向上移动。
因此,可以在例如第一方向上并排设置2个蒸镀区域,使一个蒸发源2在一个蒸镀区域中沿着成膜移动方向(第二方向)往复移动进行成膜后,在蒸镀区域移动方向(第一方向)上移动,从而在另一个蒸镀区域中同样地进行成膜等。在本实施例的情况下,构成为:在一个蒸镀区域中进行成膜时,使蒸发源2在与蒸发源2的长度方向交叉的方向上移动来进行成膜。
并且,本发明并不限于本实施例,各结构要素的具体结构都能够适当地设计。

Claims (15)

1.一种蒸镀装置,其是在蒸镀室中具备蒸发源设置部的蒸镀装置,所述蒸发源设置部用于设置收纳成膜材料的蒸发源,其特征在于,
所述蒸镀装置构成为,在所述蒸镀装置中设置有包围所述蒸发源设置部的遮蔽部,在所述遮蔽部的上方位置设置有限制板,所述限制板用于限制从设置于所述蒸发源设置部的蒸发源朝向基板释放出的成膜材料的蒸发粒子相对于基板的入射角,在所述遮蔽部中设置有开闭部。
2.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,
所述限制板设置于在维护时也不进行开闭的固定支承部件上。
3.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,
所述开闭部在蒸镀时闭合,在维护时打开。
4.根据权利要求2所述的蒸镀装置,其特征在于,
所述固定支承部件构成为框状,所述框状具有容许所述开闭部的开闭动作的开口。
5.根据权利要求2所述的蒸镀装置,其特征在于,
所述固定支承部件设置在不对所述开闭部的开闭动作产生干涉的位置。
6.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,
在包围所述蒸发源设置部的四周的所述遮蔽部的与所述蒸发源设置部的长度方向的侧面对置的位置处设置了所述开闭部。
7.根据权利要求6所述的蒸镀装置,其特征在于,
所述遮蔽部构成为:在将所述开闭部设置成打开状态时,设在所述蒸发源设置部的蒸发源在其长度方向的全长上从该开闭部露出。
8.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,
所述限制板被设置成相对于所述遮蔽部能够自由活动。
9.根据权利要求1~8中的任意一项所述的蒸镀装置,其特征在于,
使包围所述蒸发源设置部的所述遮蔽部的开口部开闭的挡板被设置成相对于所述遮蔽部能够自由活动。
10.一种蒸镀装置,其具备:
蒸发源设置部,其用于设置收纳成膜材料的蒸发源;和
遮蔽部,其包围所述蒸发源设置部的四周,
其特征在于,
所述遮蔽部具有开闭结构。
11.根据权利要求10所述的蒸镀装置,其特征在于,
所述蒸发源设置部被设置在蒸发源支承体上,
所述遮蔽部具备:隔着所述蒸发源设置部对置的一对固定部件;和在所述一对固定部件之间隔着所述蒸发源设置部对置的一对部件,
所述一对固定部件固定于所述蒸发源支承体,
所述一对部件中的至少一方是通过设置于其两端部的枢轴安装部枢轴安装于所述一对固定部件的内表面下部的可动部件。
12.根据权利要求11所述的蒸镀装置,其特征在于,
所述蒸发源设置部形成为在一个方向上较长的形状,
所述可动部件沿着所述蒸发源设置部的长度方向设置。
13.根据权利要求11或12所述的蒸镀装置,其特征在于,
在所述蒸发源支承体上设置有包围所述蒸发源设置部的框状的固定支承部件,在所述固定支承部件的上表面设有限制板。
14.根据权利要求13所述的蒸镀装置,其特征在于,
构成所述固定支承部件的框在所述蒸发源设置部的长度方向上的间隔比所述可动部件在所述蒸发源设置部的长度方向上的长度长。
15.一种蒸镀装置,其是在蒸镀室中设置蒸发源而成的蒸镀装置,其中,所述蒸发源隔着掩模对基板进行蒸镀,其特征在于,
所述蒸镀装置构成为,在所述蒸镀装置中设有包围所述蒸发源的遮蔽部,在所述遮蔽部的上方位置设置有限制板,所述限制板用于限制从所述蒸发源朝向所述基板飞散的成膜材料相对于基板的入射角,
在所述遮蔽部中设有维护用开闭部,所述维护用开闭部在维护时开闭从而使所述蒸发源露出或隐藏,所述限制板设置于在维护时也不进行开闭的固定支承部件上。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020113730A1 (zh) * 2018-12-04 2020-06-11 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸发装置
CN111684100A (zh) * 2019-01-10 2020-09-18 株式会社爱发科 蒸镀装置
CN114517285A (zh) * 2022-02-18 2022-05-20 武汉普昊科技有限公司 一种高温线性蒸发源装置
WO2024011752A1 (zh) * 2022-07-13 2024-01-18 昆山国显光电有限公司 蒸镀设备、蒸镀系统以及蒸镀方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01208449A (ja) * 1988-02-13 1989-08-22 Kobe Steel Ltd ダブルチャンバ真空成膜装置
JP2007002291A (ja) * 2005-06-23 2007-01-11 Utec:Kk 蒸発源、蒸着装置及び蒸着方法
CN1896846A (zh) * 2005-07-14 2007-01-17 精工爱普生株式会社 取向膜的制造装置和制造方法、液晶装置以及电子机器
JP2009132966A (ja) * 2007-11-30 2009-06-18 Shincron:Kk 成膜装置
JP2009161828A (ja) * 2008-01-09 2009-07-23 Showa Shinku:Kk 真空蒸着装置
CN103160788A (zh) * 2011-12-16 2013-06-19 上海大学 真空蒸发系统
CN101962750B (zh) * 2009-07-24 2013-07-03 株式会社日立高新技术 真空蒸镀方法及其装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01208449A (ja) * 1988-02-13 1989-08-22 Kobe Steel Ltd ダブルチャンバ真空成膜装置
JP2007002291A (ja) * 2005-06-23 2007-01-11 Utec:Kk 蒸発源、蒸着装置及び蒸着方法
CN1896846A (zh) * 2005-07-14 2007-01-17 精工爱普生株式会社 取向膜的制造装置和制造方法、液晶装置以及电子机器
JP2009132966A (ja) * 2007-11-30 2009-06-18 Shincron:Kk 成膜装置
JP2009161828A (ja) * 2008-01-09 2009-07-23 Showa Shinku:Kk 真空蒸着装置
CN101962750B (zh) * 2009-07-24 2013-07-03 株式会社日立高新技术 真空蒸镀方法及其装置
CN103160788A (zh) * 2011-12-16 2013-06-19 上海大学 真空蒸发系统

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020113730A1 (zh) * 2018-12-04 2020-06-11 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸发装置
CN111684100A (zh) * 2019-01-10 2020-09-18 株式会社爱发科 蒸镀装置
CN114517285A (zh) * 2022-02-18 2022-05-20 武汉普昊科技有限公司 一种高温线性蒸发源装置
CN114517285B (zh) * 2022-02-18 2023-10-20 武汉普昊科技有限公司 一种高温线性蒸发源装置
WO2024011752A1 (zh) * 2022-07-13 2024-01-18 昆山国显光电有限公司 蒸镀设备、蒸镀系统以及蒸镀方法

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