TWI654326B

TWI654326B - 蒸鍍裝置

Info

Publication number: TWI654326B
Application number: TW105118782A
Authority: TW
Inventors: 風間良秋; 後藤亮太; 三澤啓太; 七五三木浩一
Original assignee: 日商佳能特機股份有限公司
Priority date: 2015-06-26
Filing date: 2016-06-15
Publication date: 2019-03-21
Also published as: JP2017014616A; KR101989659B1; JP6276804B2; TW201710531A; KR20170001626A

Abstract

提供容易進行蒸發源的保養作業的蒸鍍裝置。

將收容蒸鍍材料的蒸發源(2)設置於蒸發源設置部(40)而進行蒸鍍的蒸鍍裝置，具備包圍前述蒸發源設置部(40)的四周的遮蔽部(5)，前述遮蔽部(5)具有開閉構造。

Description

蒸鍍裝置

本發明，係有關蒸鍍裝置者。

使從蒸發源蒸發而噴出的成膜材料堆積於基板以將薄膜進行成膜的蒸鍍裝置，係廣泛用於有機EL裝置的製造，為了滿足製造上的要求而下了各種的工夫。在專利文獻1，係為了限制從蒸發源所放出的成膜材料的蒸氣的放射範圍，已揭露在收納了蒸發源的蒸發源收納部的外側壁設置限制板。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2011-68980號公報

然而，上述構成的情況下，每次蒸發源的清掃、收容於蒸發源內的成膜材料的補充、交換等的保養作業時，需要卸除限制板及固定作業，保養作業的效率降低。

本發明，係解決如上述的問題點者，提供容易進行蒸發源的保養作業的蒸鍍裝置。

參照附圖而說明本發明的要旨。

本發明之第1態樣，係一種蒸鍍裝置，具備供於將對基板1進行蒸鍍的蒸發源2設置在蒸鍍室用的蒸發源設置部，設置包圍前述蒸發源設置部40的遮蔽部5，並作成將針對從設置在前述蒸發源設置部40的蒸發源2朝向前述基板1而放出的成膜材料的蒸發粒子的往基板1的入射角進行限制的限制板4設於前述遮蔽部5之上方位置的構成，且在前述遮蔽部5係設有開閉部6。

此外，關於一種蒸鍍裝置，其中前述限制板4，係設於在保養時仍不開閉的固定支撐構材。

此外，關於一種蒸鍍裝置，其中前述開閉部6，係在蒸鍍時關閉，在保養時打開。

此外，關於一種蒸鍍裝置，其中前述固定支撐構材7，係構成為具有容許前述開口部6的開閉動作的開口的框狀。

此外，關於一種蒸鍍裝置，其中前述固定支撐構材7，係設於對於前述開閉部6的開閉動作不會干涉的位置。

此外，關於一種蒸鍍裝置，其中作成包圍前述蒸發源 2之側周面的前述遮蔽部5而在與前述蒸發源2的長邊方向之側面對向的位置設置前述開閉部6。

此外，關於一種蒸鍍裝置，其中將前述遮蔽部5構成為使前述開閉部6為開狀態時，前述蒸發源2在其長邊方向整個全長從此開閉部6曝露。

此外，關於一種蒸鍍裝置，其中前述限制板4，係設為相對於前述遮蔽部5可動自如。

此外，關於一種蒸鍍裝置，其中使將前述蒸發源2的四周包圍的前述遮蔽部5的開口部10開閉的遮蔽器9，係設為可相對於前述遮蔽部5而移動。

本發明之第2態樣，係一種蒸鍍裝置，具備設置收容成膜材料的蒸發源的蒸發源設置部、及將前述蒸發源設置部的四周包圍的遮蔽部，前述遮蔽部具有開閉構造。

依本發明相關的蒸鍍裝置時，變得容易進行蒸發源的保養作業，故可縮短保養所需的時間。

1‧‧‧基板

2‧‧‧蒸發源

4‧‧‧限制板

5‧‧‧遮蔽部

6‧‧‧開閉部

7‧‧‧固定支撐構材

9‧‧‧遮蔽器

10‧‧‧開口部

40‧‧‧蒸發源設置部

[圖1]本實施例的概略說明透視圖。

[圖2]本實施例的概略說明剖面圖。

[圖3]本實施例的概略說明剖面圖。

[圖4]本實施例的示意說明側面圖。

針對本發明相關的蒸鍍裝置的實施形態，舉具體的實施例進行說明。

圖1及圖2，係針對本發明相關的蒸鍍裝置的一實施例進行繪示的圖。圖1係蒸鍍裝置的內部構造的透視圖，此等構造係設於未圖示的真空室的內部。圖2，係將圖1在蒸發源支撐體3的短邊方向上的剖圖面。

首先，在針對本發明相關的蒸鍍裝置的主要構成進行說明後，說明其他構成。

在蒸發源支撐體3之上表面係設有蒸發源設置部40，在蒸鍍源設置部40係設置收容了成膜材料的蒸發源2。在蒸發源支撐體3之上表面，係進一步設有包圍蒸發源2的四周的遮蔽部5。在本說明書中，遮蔽部5，係存在於蒸發源2的下部(設置蒸發源的蒸鍍室的底面)與上部(蒸發源的基板側)以外的蒸發源2的周圍，將此狀態表示為「包圍四周」。換言之，遮蔽部5，係存在於蒸發源之側周。遮蔽部5，係優選上配置成防止往蒸發源之側周方向的成膜材料的飛散。

蒸發源2，係是於一方向長形的形狀的所謂線源，呈將並置多數個材料放出口11的上蓋(未圖示)裝卸自如地設於容器主體的構成。在蒸發源2的內部，係具備供於收容成膜材料用的材料容器，透過將上蓋卸除，使得可進行材料容器內的成膜材料的補充、交換等。

蒸發源2，係可卸除地設置於蒸發源設置部40。蒸發源設置部40，係具有與蒸發源2的底面大致相同的面積，故包圍蒸發源2的四周而設的遮蔽部5，係變成包圍蒸發源設置部40的四周而設。此外，蒸發源設置部40，係設有供於決定蒸發源2的設置位置用的未圖示的定位構材。為此，即使暫時卸除蒸發源2，仍可再次設置於相同的位置。

遮蔽部5，係以包圍蒸發源2之側周面的構材而構成，為將從蒸發源2所放出的成膜材料的蒸氣進行遮蔽者。在本實施例，係在蒸發源2，亦即在蒸發源設置部40的四周將各構材立設為垂直狀態而構成俯視矩形狀的遮蔽部5。在蒸發源支撐體3之上表面，係進一步設有固定支撐構材7，在固定支撐構材7，係為了限制從蒸發源2朝向基板1所放出的成膜材料的蒸鍍粒子相對於基板1的入射角，設有限制板4。限制板4，係配置於前述遮蔽部5之上方位置。

因成膜使得收容於蒸發源2的材料的量變少時，成膜速度變不穩定，變得無法獲得既定的膜厚或膜質降低。為了抑制發生如此的狀況，進行蒸發源2的保養。在蒸鍍裝置保養時，係將蒸發源2之上蓋卸除而進行內部的清掃，在收容具備於內部的材料的容器內補充成膜材料。需要保養的間隔，係依存於成膜時間與成膜速度，故在蒸鍍裝置用作為量產機的情況下，保養的頻率變高。

然而，蒸發源2的四周被遮蔽部5包圍，故在保持此狀態下係保養非常困難。本實施例之情況下，在蒸發源2 之上部係進一步配置限制板4故更加困難。在示於專利文獻1的歷來的蒸鍍裝置的構成方面，係每次保養作業時，需要限制板等包圍蒸發源而設的構材的卸除及固定作業，保養作業的效率降低。

所以，在本發明相關的蒸鍍裝置，係在遮蔽部5設置開閉構造，設置可透過開閉構造，而變更為遮蔽部5包圍蒸發源的狀態(閉狀態)與蒸發源曝露的狀態(開狀態)的保養用的開閉部6。例如，在蒸鍍時，係可使開閉部6成為閉狀態，在保養時等，可利用開閉構造，而打開開閉部6。藉此，保養作業的效率提升。

具體而言，將遮蔽部5，以一對的固定構材14與一對的可動構材15而構成，該一對的固定構材14係位於蒸發源2的短邊方向之側面側，固定於蒸發源支撐體3的對向，該一對的可動構材15係位於蒸發源2的長邊方向之側面側，可在一對的固定構材14之間相對於固定構材14而移動。

可動構材15，係比蒸發源2的長邊方向長形，一對的可動構材15係在一對的固定構材14之間對向而配置。可動構材15的兩端部，係藉軸旋轉支撐部17在固定構材14的內面下部被軸旋轉支撐，呈可作成使可動構材15以軸旋轉支撐部17旋轉而從垂直立設狀態往外方打開的狀態的構成。藉如此的開閉構造，從而實現可變更為蒸發源2在長邊方向整個全長被遮蔽的狀態與被曝露的狀態的開閉部6。

於本實施例中，遮蔽部5，係除了將從蒸發源2所放出的成膜材料的蒸氣進行遮蔽的功能以外，具有將從蒸發源2所發出的熱進行遮蔽的功能。因此，固定構材14及可動構材15，係呈設有水等的冷媒在內部流通的冷媒流通路13的冷卻板，在可動構材15的內側面係設有將冷媒流通路13閉塞的閉塞板16。

固定支撐構材7，係構成為具有容許開閉部6的開閉動作的開口的框狀。具體而言，固定支撐構材7，係作成具有設置在不干涉開閉部6的開閉動作的位置的4個腳部18，並在此腳部18之上端架設水平材的構成。

4個腳部18，係相對於蒸發源2，立設在比用於各固定構材14的開閉的軸旋轉支撐部17外側的位置。亦即，蒸發源的長邊方向上的腳部18之間隔，係比蒸發源的長邊方向上的可動構材的長度長。

水平材，係具有與固定構材14平行的一對的短形水平材19、及與可動構材15平行的一對的長形水平材20。另外，各腳部18的高度，係設定為水平材(19、20)設於比可動構材15之上端高的位置。

因此，蒸發源2，係配置在被以4個腳部18與水平材而構成的框狀的固定支撐構材7所包圍的區域之中。本實施例中固定支撐構材7係以剖面視L字狀的角材而構成。

在是固定支撐構材7之上表面的長形水平材20上，係設有一對的限制板4。

設置限制板4，使得成膜材料的蒸鍍粒子往基板1入射的角度受限制，可在使用了遮罩的成膜中，將以侵入於遮罩與基板之間的角度而入射至基板的蒸鍍粒子進行遮蔽。

限制板4，係呈可透過分別設於長形水平材20上的滑動導引構材，而水平移動以自由地予以接近遠離，可在期望的位置進行固定。限制板4係具有與長形水平材20大致相同的長度，透過調整一對的限制板4彼此之間隔，使得可容易進行入射角的調整。

在圖3及圖4中，繪示透過可動構材15的打開轉動而使蒸發源2在其長邊方向整個全長曝露的狀態。圖3係從蒸發源2的長邊方向所見的圖，圖4係從蒸發源2的短邊方向所見的圖。如此，使蒸發源2在長邊方向整個全長予以曝露，使得容易進行將蒸發源2之上蓋卸除等。亦即，透過設置開閉部6，使得變得不需要設於蒸發源2的周圍的構材的卸除及固定作業，故保養的作業性提升。另外，在圖中，係雖可開閉地構成位於長邊方向之側面側的一對的可動構材15，惟只要可進行保養作業，則亦可僅在長邊方向之側面側的一方設置可動構材15，使另一方為固定構材。

尤其，限制板4，係供於限制成膜材料的蒸鍍粒子往基板1入射的角度用的位置為重要，故暫時卸除時，要再現卸除前的狀態需要相當的時間。然而，本發明的蒸鍍裝置係具有保養用的開閉部6，故使蒸鍍時關閉的狀態的可動構材15，在保養時成為打開的狀態，使得可簡單地進行保養。如此，在保養時亦不需要卸除限制板4，故可維持限制板4的位置下進行保養，保養的作業性格外提升。保養的結束後，再次關閉可動構材15即可恢復至可容易地蒸鍍的狀態。

接著，基於圖1、2，而詳細說明有關本實施例的蒸鍍裝置的其他具體的構成。

在本實施例，係可動自如地設有將包圍蒸發源2的遮蔽部5的開口部10進行開閉的遮蔽器9。遮蔽器9係設置一對，以比可動構材15稍為長形而配置為可將遮蔽部5的開口部10進行閉塞。具體而言，各遮蔽器9的兩端部，係分別隔著滑動導引構材21而設於固定構材14上。並且，各遮蔽器9在固定構材14之上接近遠離而移動，從而將前述開口部10進行開閉。

此外，遮蔽器9，係作成具有將遮蔽部5的開口部10進行閉塞的水平板部22、及將固定支撐構材7的長形水平材20與可動構材15之間隙進行閉塞的垂直板部23的構成。垂直板部23，係在水平板部22之上表面設置比水平構材22稍短的剖面視L字狀的角材而形成。

並且，將各水平板部22等構成為在將遮蔽器9關閉的狀態下，係水平板部22的對向部重疊，並構成為在蒸鍍時將遮蔽器9打開的狀態下，係水平板部22將長形水平材20與可動構材15之間隙(的大部分)閉塞(圖1、2參照)。

具體而言，在遮蔽部5，係作成在固定構材14的內方，包含寬比前述一對的可動構材15的對向間隔稍小，且高度比固定構材14高的矩形狀的停止用板體8的構成。

在此停止用板體8，係構成為分別設於遮蔽器9的長邊方向兩端部及寬度方向外方側端部的折返部25、26、及設在設於可動構材15的內面側的閉塞板16的兩端部的折返部27，作成將此遮蔽器9及可動構材15關閉的狀態時重疊。因此，上述的遮蔽器9閉塞的遮蔽部5的開口部10，係具體而言係以停止用板體8與可動構材15所包圍的空間的開口部10。

此外，於本實施例中，係構成為可動構材15的閉塞板16的折返部27重疊於停止用板體8的外側，遮蔽器9的折返部25、26重疊於此閉塞板16的外側。因此，變得可確實防止成膜材料從蒸發源2的長邊方向兩端部側的漏出，使得可在將前述成膜材料良好地封入前述空間的狀態下進行將蒸發源2進行蒸鍍前的試運轉(running in)等。

根據以上，依本實施時，如圖示於圖1、2在蒸鍍時係將遮蔽器9打開而將遮蔽部5的開口部10開放，可在透過限制板4而限制入射角的狀態下進行蒸鍍。

此外，在蒸發源2等的保養時，係如圖示於圖3、4將遮蔽器9開至可動構材15及閉塞板16不會干涉的位置，使可動構材15朝外方打開轉動而使蒸發源2在其整個全長從以固定支撐構材7的腳部18與長形水平材20所包圍的空間而蒸發源2而曝露。在此狀態下，將蒸發源2之上蓋卸除而從遮蔽部5取出，使得可進行清掃、成膜材料的補充等，可縮短保養時間。此外，不限於蒸發源2的保養，進行固定構材14、可動構材15、遮蔽器9等的其他構材的清掃時，亦無須接觸設於固定支撐構材7的限制板4，使得可在保養的前後維持一度設定的入射角。此外，入射角的微調整亦透過調整限制板4的背離程度而變得容易進行。

此外，本實施例的蒸發源支撐體3，係具備滑件。具體而言，在蒸鍍室的底面設置延伸於第一方向的導軌31，並設置可相對於此導軌31而往返滑動的框狀的第一方向移動用滑件32。並且，在此第一方向移動用滑件32之上表面設置延伸於第二移動方向的導軌33，在蒸發源支撐體3的下部設置可相對於此導軌33而往返滑動的第二方向移動用滑件35。在此蒸發源支撐體3的底面，係連結供於使蒸發源支撐體3移動用的臂件構材34，可驅動此臂件構材34而使蒸發源支撐體3(蒸發源2)移動於第一方向或第二方向。

因此，例如於第一方向並置2個蒸鍍區域，使得可使一個蒸發源2，在一個蒸鍍區域往返移動於成膜移動方向(第二方向)而進行成膜後，予以移動於蒸鍍區域移動方向(第一方向)而在其他蒸鍍區域同樣地進行成膜等。本實施例之情況下，構成為在一個蒸鍍區域進行成膜時，係使蒸發源2移動於與蒸發源2的長邊方向交叉的方向而進行成膜。

另外，本發明，係非限於本實施例者，各構成要件的具體構成係可適當設計者。

Claims

一種蒸鍍裝置，在蒸鍍室具備供於設置收容成膜材料的蒸發源用的蒸發源設置部，特徵在於：設置將前述蒸發源設置部包圍的遮蔽部，並作成將針對從設置於前述蒸發源設置部的蒸發源朝向基板所放出的成膜材料的蒸發粒子的往基板的入射角進行限制的限制板設於前述遮蔽部之上方位置的構成，且在前述遮蔽部係設有開閉部。
如申請專利範圍第1項之蒸鍍裝置，其中，前述限制板，係設於在保養時仍不開閉的固定支撐構材。
如申請專利範圍第1項之蒸鍍裝置，其中，前述開閉部，係在蒸鍍時關閉，在保養時打開。
如申請專利範圍第2項之蒸鍍裝置，其中，前述固定支撐構材，係構成為具有容許前述開口部的開閉動作的開口的框狀。
如申請專利範圍第2項之蒸鍍裝置，其中，前述固定支撐構材，係設於對於前述開閉部的開閉動作不會干涉的位置。
如申請專利範圍第1項之蒸鍍裝置，其中，在包圍前述蒸發源設置部的四周的前述遮蔽部的與前述蒸發源設置部的長邊方向之側面對向的位置設置前述開閉部。
如申請專利範圍第6項之蒸鍍裝置，其中，將前述遮蔽部構成為使前述開閉部為開狀態時，設置於前述蒸發源設置部的蒸發源在其長邊方向整個全長從此開閉部曝露。
如申請專利範圍第1項之蒸鍍裝置，其中，前述限制板，係設為相對於前述遮蔽部可動自如。
如申請專利範圍第1~8項中任1項之蒸鍍裝置，其中，使將前述蒸發源設置部包圍的前述遮蔽部的開口部開閉的遮蔽器，係設為可相對於前述遮蔽部移動自如。
一種蒸鍍裝置，具備供於設置收容成膜材料的蒸發源用的蒸發源設置部、及將前述蒸發源設置部的四周包圍的遮蔽部，特徵在於：前述遮蔽部具有開閉構造。
如申請專利範圍第10項之蒸鍍裝置，其中，前述蒸發源設置部設於蒸發源支撐體之上，前述遮蔽部具備夾著前述蒸發源設置部而對向的一對的固定構材、及在前述一對的固定構材之間夾著前述蒸發源設置部而對向的一對的構材，前述一對的固定構材固定於前述蒸發源支撐體，前述一對的構材中的至少一方為以設於兩端部的軸旋轉支撐部而軸旋轉支撐於前述一對的固定構材的內面下部的可動構材。
如申請專利範圍第11項之蒸鍍裝置，其中，前述蒸發源設置部在一方向呈長形的形狀，前述可動構材係沿著前述蒸發源設置部的長邊方向而設。
如申請專利範圍第11或12項之蒸鍍裝置，其中，在前述蒸發源支撐體，係設有將前述蒸發源設置部包圍的框狀的固定支撐構材，在前述固定支撐構材之上表面設有限制板。
如申請專利範圍第13項之蒸鍍裝置，其中，構成前述固定支撐構材的框的前述蒸發源設置部的長邊方向上的間隔，比前述可動構材的前述蒸發源設置部的長邊方向上的長度長。
一種蒸鍍裝置，將隔著遮罩而對基板進行蒸鍍的蒸發源，設於蒸鍍室而成，特徵在於：設置將前述蒸發源包圍的遮蔽部，並作成將針對從前述蒸發源朝向前述基板而飛散的成膜材料的往基板的入射角進行限制的限制板設於前述遮蔽部之上方位置的構成，且在前述遮蔽部，係設置在保養時開閉而將前述蒸發源進行曝露隱蔽的保養用開閉部，而前述限制板係設於在保養時仍不開閉的固定支撐構材。