JPH02290963A - 蒸着用るつぼ - Google Patents

蒸着用るつぼ

Info

Publication number
JPH02290963A
JPH02290963A JP10932889A JP10932889A JPH02290963A JP H02290963 A JPH02290963 A JP H02290963A JP 10932889 A JP10932889 A JP 10932889A JP 10932889 A JP10932889 A JP 10932889A JP H02290963 A JPH02290963 A JP H02290963A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crucible
lid
crucible lid
vapor deposition
deposition material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10932889A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasushi Nakagiri
康司 中桐
Hiroyoshi Tanaka
博由 田中
Yoshiaki Yamamoto
義明 山本
Fumitoshi Nishiwaki
文俊 西脇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP10932889A priority Critical patent/JPH02290963A/ja
Publication of JPH02290963A publication Critical patent/JPH02290963A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は蒸着用るつぼ、特にクラスターイオンビーム蒸
着法に於で使用する蒸着用るつぼの改良に関する。
従来の技術 薄膜作製の手段として、クラスターイオンビーム蒸着法
がある。この方法に於けるクラスター生成方法は、上面
にノズルを有した蒸着用るつぼを加熱し、ノズルからク
ラスタービームを噴出させるというものである。このメ
カニズムは、るつぼ内の気圧とそれより低い外気圧の差
から生ずる断熱膨張による過冷却を利用して、500か
ら2000個の原子または分子の塊状集団とするという
ものである。
そのノズル付きるつぼの一例を第3図に示す。
蒸着材料を収納するるつぼ本体1と、ノズル2を有する
ねじ込み式の蓋3により構成されており、材質として高
融点材料であるタングステン、タンタル、カーボン等が
用いられている。蓋3の開閉により蒸着材料の補給を行
い、ねじの締め込みにより気圧差を保つ構成となってい
る。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、この場合蒸着材料の溶融時に、蒸着材料
とるつぼ材料との濡れ性が良い場合に、冷却時において
ねじ部に蒸着材料が固着してしまい、るつぼの蓋が開け
られなくなり、蒸着材料の補給が困難となるという課題
があった。しかし、ねじ部を設けて密着性を確保しなけ
れば、るつぼ内外の気圧差を確保できない。
本発明はこの様な問題点に鑑み、蓋が固着してしまうこ
とがなく、また無駄がなくかつ容易に材料供給ができる
蒸着用るつぼを提供しようとするものである。
課題を解決するための手段 本発明は、このような課題を解決するために、中央部に
ノズルを有する平板状のるつぼ蓋を複数カ所の接点で支
え、るつぼ本体と機械的に密着させるるつぼ蓋支持部に
よって、るつぼ本体とるつぼ蓋を固定するように構成し
たものである。
作   用 上記構成によって、得られる作用は次の通りである。
l.るつぼ蓋には、ねじ部が設置されていないので、蓋
のねじ部に蒸着材料が固着することはない。
2.るつぼ蓋とるつぼ本体が接触しているのは平面であ
り、濡れ性が良く万一接触部に蒸着材料が固着しても取
り外しが容易であり、また蓋のみを新しいものに取り替
えることができる。
3.ノズル径やノズル長の違った数種類のるつぼ蓋を、
低いコストで容易に取り替えることができる。
実施例 以下に本発明の一実施例を図面により説明する。
第1図は本実施例における蒸着用るつぼの斜視図で、第
2図は第1図の縦断面図である。
4はノズル9を有する平板状のるつぼ蓋、5はるつぼ蓋
4とるつぼ本体6とを機械的に閉め込み固定するるつぼ
蓋支持部、7はねじ部、8は空間部である。構成材料に
は、タンタル、タングステン、カーボンなどの高融点材
料を用いている。
るつぼ本体6に蒸着材料を挿入し、るつぼ蓋4とるつぼ
蓋支持部5により、蒸着時にノズル9以外の場所から蒸
着材料が漏れ出さないように機械的に密着固定を行う。
その際の密着固定は、るつぼ本体6とるつぼ蓋支持部5
に形成したねじ部7によって行う。るつぼ蓋4はるつぼ
本体6の外周よりも大きく形成され、るつぼ蓋支持部5
にはるつぼ蓋4が常に同じ位置に設置できるように規制
内壁5aが形成されている。又、るつぼ蓋4とねじ部7
との間に距離を設けることにより、るつぼ蓋支持部5と
るつぼ本体6との間には空間部8が形成されている。
このような構成に於で、蒸着材料がるつぼ蓋4とるつぼ
本体6の接触部分に蒸着材料が浸透しても、空間部8の
存在により蒸着材料がるつぼ蓋支持部5やネジ部7に到
達することがないので、るつぼ蓋4とるつぼ蓋支持部5
が固着したりねじ部7が固着することはない。万一 る
っぽ蓋4とるつぼ本体6の接触部が固着しても、るつぼ
蓋4の方がるつぼ本体6の外周よりも大きく形成されて
いるので、るつぼ蓋4の取り外しが容易である。
また、規制内壁5aによりノズル9の位置が蒸着の度に
移動することはない。また、るつぼ蓋4は、平板にノズ
ル9を製作した簡単な構成となっているのでノズル径や
ノズル長が違うるつぼ蓋4と低コストで容易に取り替え
ることが可能である。
この場合、ねじ部7の内径よりもるつぼ蓋4の外径の方
が大きいので、るつぼ蓋4をるつぼ蓋支持部5の内部に
設置する際には、るつぼ蓋支持部5の上部から斜めに挿
入することにより、容易に行うことが可能である。
発明の効果 以上のように本発明による蒸着用るつぼは、中央部にノ
ズルを有する平板状のるつぼ蓋を複数カ所の接点で支え
、るつぼ本体と機械的に密着させるるつぼ蓋支持部を持
つ構成をとっているため、次のような効果が得られる。
蓋のねじ部に蒸着材料が固着して蓋が容易に取り外せな
くなることはなく、無駄なく材料供給を行うことが可能
となる。
また、ノズル径やノズル長の違った数皿類のるつぼ蓋を
、低いコストで容易に取り替えることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例における蒸着用るつぼの斜視
図、第2図は第1図の縦断面図、第3図は従来例の蒸着
用るつぼの縦断面図である。 4...るつぼ蓋、5.,,るつぼ蓋支持部、6...
るつぼ本体、7...ねじ部、8...空間部、9..
.ノズル。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 ほか1名第 図 第 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 中央部にノズルを有する平板状のるつぼ蓋を複数カ所の
    接点で支え、るつぼ本体と機械的に密着させるるつぼ蓋
    支持部を持つことを特徴とする蒸着用るつぼ。
JP10932889A 1989-04-28 1989-04-28 蒸着用るつぼ Pending JPH02290963A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10932889A JPH02290963A (ja) 1989-04-28 1989-04-28 蒸着用るつぼ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10932889A JPH02290963A (ja) 1989-04-28 1989-04-28 蒸着用るつぼ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02290963A true JPH02290963A (ja) 1990-11-30

Family

ID=14507442

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10932889A Pending JPH02290963A (ja) 1989-04-28 1989-04-28 蒸着用るつぼ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02290963A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5653813A (en) * 1995-04-03 1997-08-05 Novellus Systems, Inc. Cyclone evaporator
JP2006225725A (ja) * 2005-02-18 2006-08-31 Hitachi Zosen Corp 蒸着装置
US8025733B2 (en) * 2002-07-23 2011-09-27 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Heating crucible and deposition apparatus using the same
DE102014221561A1 (de) 2014-10-23 2016-04-28 Beijing Apollo Ding Rong Solar Technology Co., Ltd. Vorrichtung zur Aufnahme von Verdampfungsgut und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
CN107502864A (zh) * 2017-08-17 2017-12-22 京东方科技集团股份有限公司 一种坩埚盖及其盖合方法和坩埚

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5653813A (en) * 1995-04-03 1997-08-05 Novellus Systems, Inc. Cyclone evaporator
US5901271A (en) * 1995-04-03 1999-05-04 Novellus Systems, Inc. Process of evaporating a liquid in a cyclone evaporator
US8025733B2 (en) * 2002-07-23 2011-09-27 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Heating crucible and deposition apparatus using the same
JP2006225725A (ja) * 2005-02-18 2006-08-31 Hitachi Zosen Corp 蒸着装置
JP4545010B2 (ja) * 2005-02-18 2010-09-15 日立造船株式会社 蒸着装置
DE102014221561A1 (de) 2014-10-23 2016-04-28 Beijing Apollo Ding Rong Solar Technology Co., Ltd. Vorrichtung zur Aufnahme von Verdampfungsgut und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
WO2016062845A1 (de) * 2014-10-23 2016-04-28 Solibro Research Ab Verdampungstiegel
CN107502864A (zh) * 2017-08-17 2017-12-22 京东方科技集团股份有限公司 一种坩埚盖及其盖合方法和坩埚
CN107502864B (zh) * 2017-08-17 2019-08-23 京东方科技集团股份有限公司 一种坩埚盖及其盖合方法和坩埚

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4713612B2 (ja) 単一坩堝とかかる坩堝を利用した流出(エフュージョン)源
US5820681A (en) Unibody crucible and effusion cell employing such a crucible
US5976263A (en) Sources used in molecular beam epitaxy
JPH02290963A (ja) 蒸着用るつぼ
EP1713948A2 (en) Vacuum deposition method and sealed-type evaporation source apparatus for vacuum deposition
US4518846A (en) Heater assembly for molecular beam epitaxy furnace
KR910009841B1 (ko) 진공챔버중에서 피막을 아아크 증착하기 위한 방법 및 장치
JPH07157868A (ja) 抵抗加熱型蒸発源及びそれを用いる薄膜形成方法
JPS63243264A (ja) 薄膜製造装置
JP6291696B2 (ja) 蒸着装置および蒸発源
WO2010098308A1 (ja) 有機化合物蒸気発生装置及び有機薄膜製造装置
US3016873A (en) Coating
JP4209981B2 (ja) 真空蒸着装置における成膜材料供給装置
JPH03177564A (ja) 蒸発源用坩堝
JP4551996B2 (ja) 蒸発装置
JPH1160375A (ja) 分子線エピタキシー用分子線源ルツボ
JPH02270959A (ja) 蒸発源用坩堝
JPH03177565A (ja) 蒸発源用坩堝
JP2009057614A (ja) 蒸着装置及び蒸着方法
JPS6468468A (en) Apparatus for producing thin metallic film
JPS62118517A (ja) 溶融物質の蒸気噴出装置
JPH07138738A (ja) 蒸発用るつぼ及びそれを用いた薄膜形成方法
JPH04359508A (ja) 分子線源容器
JPH01279751A (ja) 薄膜形成装置
JPH01257189A (ja) 蒸発源用るつぼ