JP4583200B2 - 蒸着装置 - Google Patents

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Description

本発明は、被蒸着部材に蒸発させた材料を蒸着させる装置に関し、例えば有機ELディスプレイなどの画像表示部を製造するための蒸着装置などにも適用可能な技術に関するものである。
近年、ディスプレイの薄型化が進み、この種のディスプレイとしては、液晶ディスプレイの実用化が非常に進んでいる。この液晶画面については、バックライトを必要とするもので、視野範囲、消費電力などの点で難点があり、最近、自発光性の有機EL方式のディスプレイが注目されている。
ところで、有機ELディスプレイの基本構造は、ガラス基板上に、陽極(透明電極)を配置し、この上に、ホール輸送層および発光層が順番に配置され、さらに陰極が配置されたものであり、少なくとも、前記発光層については、有機材料が蒸着により形成されている。
そして、基板上に、蒸着により薄膜を形成する場合、真空容器内の下部に有機材料の蒸発装置を配置しておき、真空状態で蒸発装置を加熱し、蒸発装置からその蒸気(以下、蒸発材料という)を真空容器内の上部に配置された基板の表面に付着させることにより薄膜が形成されていた。
ところで、上述した蒸着装置には、通常、上記基板に蒸着される蒸着膜の膜厚を検出し監視を行うための水晶振動子式の膜厚計が基板の端部に備えられている。そして、この水晶振動子式の膜厚計により基板に成膜される膜厚の測定を行い、蒸着材料の蒸発量を制御することにより、蒸着膜の品質の向上がはかられていた(例えば、特許文献1参照)。
特開平11−29854号公報
しかし、蒸発材料の放出量の計測を行う際、上記特許文献1に示す構成では、上記蒸発材料は蒸発装置の開口部から基板へ広がりをもって放出されるので、開口部且つ飛翔経路の中心から離れるほど蒸発材料の密度が小さくなり、膜厚計には基板よりも密度の小さな蒸発材料が飛来する。このため、基板中心部における蒸発材料の変動量と基板端部における蒸発材料の変動量とが異なり、蒸発材料の放出量の計測を精度よく行うことができず、基板に成膜される膜厚を正確に検出することができないという問題がある。
そこで本発明は、蒸発材料の放出量の計測を精度よく行うことにより、被蒸着部材に成膜される膜厚を正確に検出することができる蒸着装置を提供することを目的としたものである。
前記した目的を達成するために、本発明の請求項1に記載の発明は、蒸着材料を加熱・蒸発して得た蒸発材料を、被蒸着部材に蒸着させる蒸着装置であって、蒸着用容器内に、前記蒸着材料を加熱・蒸発させる蒸発手段と、蒸発レートを検出する蒸発レート検出手段とを備え、蒸発手段は、前記蒸発材料を被蒸着部材に案内する主誘導管と、主誘導管から分岐されて前記主誘導管内の蒸発材料の一部を監視用として取り出す監視用誘導管とを有し、蒸発レート検出手段は、前記監視用誘導管の蒸発材料の飛翔経路上に設けられたことを特徴としたものである。
また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明であって、主誘導管から放出される蒸発材料と監視用誘導管から放出される蒸発材料を遮断する遮蔽部材を設けることを特徴としたものである。
本発明の蒸着装置は、主誘導管から監視用誘導管を分岐したので、主誘導管から放出される蒸発材料の放出量に対して、一定の比率の蒸発材料を取り出すことができ、そして、この監視用誘導管の飛翔経路の飛翔軸上に例えば水晶振動子型の蒸発レート検出手段を設けることにより、監視用誘導管から放出される密度の高い蒸発材料を安定して検出することができ、主誘導管から被蒸着部材の中心付近に放出される蒸発材料の変動量を正確に把握することができるため、蒸発材料の放出速度であり、単位時間あたりの放出量でもある蒸発レートを精度よく計測することができ、したがって被蒸着部材に成膜される膜厚を正確に検出することができる。
以下に、本発明の実施の形態に係る蒸発装置について、図面を参照しながら説明する。
なお実施の形態においては、有機ELディスプレイの表示部を製造する場合、すなわち有機材料をガラス基板の表面に蒸着させる場合で、且つ異なる2種類の蒸着材料(有機材料である)を蒸着させる場合について説明する。なお、異なる蒸着材料のうち、主成分である材料を第1蒸着材料(ホスト)と称するとともに、微量材料を第2蒸着材料(ドーパント)と称し、さらに各蒸着材料を加熱して蒸発させたものを第1および第2蒸発材料と称して説明を行う。
[実施の形
図1に示すように、蒸着装置は、ガラス基板(被蒸着部材の一例)1が、その蒸着面が下方となるように水平方向で挿入されるとともに保持具2により保持される蒸着用容器3と、この蒸着用容器3の下部に配置され材料容器4A内の第1蒸着材料を加熱して蒸発させる第1蒸発用容器(蒸発手段の一例)4と、同じく蒸着用容器3の下部に配置され材料容器5A内の第2蒸着材料を加熱して蒸発させる第2蒸発用容器(蒸発手段の一例)5と、ガラス基板1に向かう飛翔経路M1の飛翔軸Mを中心として放出される第1蒸発材料を遮断または開放して第1蒸発材料の供給制限を行う第1シャッター6と、ガラス基板1に向かう飛翔経路M2の飛翔軸Mを中心として放出される第1蒸発材料を遮断または開放して第2蒸発材料の供給制限を行う第2シャッター7と、第1蒸発材料の放出速度であり単位時間あたりの放出量でもある蒸発レートを検出する水晶振動子型の第1蒸発レート検出センサ(蒸発レート検出手段の一例)8と、第2蒸発材料の放出速度であり単位時間あたりの放出量でもある蒸発レートを検出する水晶振動子型の第2蒸発レート検出センサ(蒸発レート検出手段の一例)9を備えている。なお、各蒸発レート検出センサ8,9は制御装置(図示せず)と接続されており、制御装置内に設けられたタイマーや放出量測定装置などにより蒸発レートが求められている。
なお、上記各蒸発用容器4,5には、各蒸発用容器4,5を加熱して蒸着材料を蒸発させるための加熱用電熱線(加熱手段の一例)10,11と、各材料容器4A,5Aを加熱して各材料容器4A,5A内の蒸着材料を蒸発させる加熱用ヒーター14,15が設けられている。また、上記各シャッター6,7は、各蒸発用容器4,5の出口開口部に配置され、円板状に形成された蓋部12を介して偏心した位置から上記飛翔経路M1,M2の飛翔軸Mと平行に形成された回転軸13を回転駆動することにより、各蒸発材料の遮断または開放を行っている。
上記第1蒸発用容器4は、第1蒸着材料が収納されている材料容器4Aを有し、ガラス基板1に対して膜均一性が最良となる位置に向けて設定された飛翔経路M1の飛翔軸Mを中心として第1蒸発材料が放出される筒状で口径の大きい第1主誘導管21と、第1主誘導管21の中間部から斜め上方に分岐されて第1主誘導管21の第1蒸発材料の一部を監視用として取り出すための口径の小さい第1監視用誘導管22(監視用誘導管の一例)から形成されている。なお、第1主誘導管21から第1監視用誘導管22に分岐される部分を分岐部Aという。また、第1監視用誘導管22は、第1蒸発レート検出センサ8に向かう飛翔経路N1の飛翔軸Nを中心として、周囲に第1蒸発材料を放出する。
ここで、第1主誘導管21は、分岐部Aの上流側の第1上流部主誘導管21Aと、分岐部Aの下流側の第1下流部主誘導管21Bから形成されている。なお、第1下流部主誘導管21Bと第1監視用誘導管22はそれぞれ、分岐部Aから第1蒸発材料を安定して放出することが可能となる長さに形成されている。
また、分岐部Aには、一端が第1下流部主誘導管21Bと第1監視用誘導管22との間に位置している下位遮蔽部25Aと、下位遮蔽部25Aの他端に接続されている上位遮蔽部25Bから構成された第1遮蔽板25(遮蔽部材の一例)が設けられており、この第1遮蔽板25は、第1主誘導管21から放出された飛翔経路M1の第1蒸発材料と第1監視用誘導管22から放出された飛翔経路N1の第1蒸発材料とを互いに遮断して混合されないよう構成されており、第1監視用誘導管22から放出される第1蒸発材料がガラス基板1に付着することを防止し、また第1主誘導管21から放出される第1蒸発材料が第1蒸発レート検出センサ8に検出されることを防止している。
上記第2蒸発用容器5は、第2蒸着材料が収納されている材料容器5Aを有し、ガラス基板1の中央付近に向かう飛翔経路M2の飛翔軸Mを中心として第2蒸発材料が放出される筒状の口径の大きい第2主誘導管31と、第2主誘導管31の中間部から斜め上方に分岐されて第2主誘導管31の第2蒸発材料の一部を監視用として取り出すための口径の小さい第2監視用誘導管32(監視用誘導管の一例)から形成されている。なお、第2主誘導管31から第2監視用誘導管32に分岐される部分を分岐部Bという。また、第2監視用誘導管32は、第2蒸発レート検出センサ9に向かう飛翔経路N2の飛翔軸Nを中心として、周囲に第2蒸発材料を放出する。
ここで、第2主誘導管31は、分岐部Bの上流側の第2上流部主誘導管31Aと、分岐部Bの下流側の第2下流部主誘導管31Bから形成されている。なお、第2下流部主誘導管31Bと第2監視用誘導管32はそれぞれ、分岐部Bから第2蒸発材料を安定して放出することが可能となる長さに形成されている。
また、分岐部Bには、一端が第2下流部主誘導管31Bと第2監視用誘導管32との間に位置している下位遮蔽部35Aと、下位遮蔽部35Aの他端に接続されている上位遮蔽部35Bから構成された第2遮蔽板35(遮蔽部材の一例)が設けられており、この第2遮蔽板35は、第2主誘導管31から放出された飛翔経路M2の第2蒸発材料と第2監視用誘導管32から放出された飛翔経路N2の第2蒸発材料とを互いに遮断して混合しないよう構成されており、第2監視用誘導管32から放出される第2蒸発材料が第2蒸発レート検出センサ9を越えてガラス基板1に付着することを防止している。
上記第1蒸発レート検出センサ8は、第1蒸発用容器4から放出される第1蒸発材料の放出量が多いため、第1監視用誘導管22の飛翔経路N1の飛翔軸N上におけるガラス基板1の近傍、すなわち飛翔経路N1の飛翔軸N上において第1監視用誘導管22の開口部22Aから離れた位置に配置されている。
上記第2蒸発レート検出センサ9は、第2蒸発用容器5から放出される第2蒸発材料の放出量が少ないため、第2監視用誘導管32の飛翔経路N2の飛翔軸N上における第2監視用誘導管32の開口部32Aの近傍に配置されている。
このように、上述した位置関係で第1蒸発レート検出センサ8および第2蒸発レート検出センサ9が配置されているため、第1蒸発レート検出センサ8および第2蒸発レート検出センサ9は同じ比率で蒸着されることとなり、したがって各センサの交換時期をほぼ同時期とすることができる。
以下に、上記した基本構成における作用を説明する。
上記第1シャッター6および第2シャッター7を開放し、第1主誘導管21および第1監視用誘導管22を用いて第1蒸発材料を放出させる場合、加熱用電熱線10および加熱用ヒーター14により第1蒸発用容器4における材料容器4Aの第1蒸着材料が加熱され蒸発されると、蒸発した第1蒸着材料である第1蒸発材料は、第1主誘導管21から飛翔経路M1の飛翔軸Mを中心としてガラス基板1へ放出されるとともに、第1監視用誘導管22から飛翔経路N1の飛翔軸Nを中心として、飛翔経路N1の飛翔軸N上におけるガラス基板1の近傍に配置された第1蒸発レート検出センサ8へ放出される。
また、上記第2主誘導管31および第2監視用誘導管32を用いて第2蒸発材料を放出させる場合、加熱用電熱線11および加熱用ヒーター15により第2蒸発用容器5における材料容器5Bの第2蒸着材料が加熱され蒸発されると、蒸発した第2蒸着材料である第2蒸発材料は、第2主誘導管31から飛翔経路M2の飛翔軸Mを中心として放出され、ガラス基板1へ蒸着されるとともに、第2監視用誘導管32から飛翔経路N2の飛翔軸Nを中心として放出され、飛翔経路N2の飛翔軸N上における第2監視用誘導管32の開口部32Aの近傍に配置された第2蒸発レート検出センサ9の検出面に蒸着される。
このように、第1主誘導管21から第1監視用誘導管22を分岐したので、第1主誘導管21から放出される第1蒸発材料の放出量に対して、一定の比率の第1蒸発材料を取り出すことができ、そして、この第1監視用誘導管22の飛翔経路N1の飛翔軸N上に第1蒸発レート検出センサ8を設けることにより、第1監視用誘導管22から放出される密度の高い第1蒸発材料を安定して検出することができ、第1主誘導管21からガラス基板1の中心付近に放出される第1蒸発材料の変動量を正確に把握することができるため、第1蒸発材料の放出量を精度よく計測することができ、したがってガラス基板1に成膜される膜厚を正確に検出することができる。なお、第2主誘導管31から分岐された第2監視用誘導管32に関しても、上述と同様の効果を奏し得ることができる。
なお、各蒸発用容器から放出される蒸発材料がガラス基板1に飛翔することを遮断または開放するために第1シャッター6と第2シャッター7が設けられていたが、これら第1シャッター6および第2シャッター7の代わりに、ガラス基板1の直下にガラス基板1と平行に配置された2枚のシャッター板6A,7A(図1参照)、または一枚のシャッター板を設けてもよい。
ところで、上記実施の形態においては、蒸発材料を放出する主誘導管21,31の途中から監視用誘導管22,32を分岐させて、蒸着用容器3内でのガラス基板1に蒸着される蒸発材料の放出量の監視を精度良く行い得る蒸着装置について説明したが、さらに主誘導管から放出される蒸発材料の放出量を制御し得る構成を付加した蒸着装置を参考例として以下に説明しておく。
[参考例1]
以下に、本発明の参考例1に係る蒸着装置について、図面を参照しながら説明する。
なお、参考例1は、上記実施の形の第1蒸発用容器4における分岐部Aに第1流量制御手段40、第2蒸発用容器5における分岐部Bに第2流量制御手段50を具備した構成であるため、これら異なる部分に着目して説明する。なお、実施の形と同一の部材については同一の番号を付して説明を行うものとする。また、第1流量制御手段40と第2流量制御手段50は同様の構成であるため、第2流量制御手段50の説明を省略する。
図2に示すように、第1蒸発用容器4における分岐部Aに設けられた第1流量制御手段40は、第1主誘導管21を介して第1監視用誘導管22と同一経路となるよう第1主誘導管21から斜め下方に分岐され、第1監視用誘導管22の口径と同一の口径に形成されている第1弁棒用通路管43と、第1弁棒用通路管43の端部に設けられている第1ベローズ42と、第1主誘導管21と第1監視用誘導管22に亘って出退自在な四角柱状の第1弁棒41(第1弁体の一例)と、第1ベローズ42の端部に設けられ、第1弁棒41を出退させる第1弁棒駆動装置44から構成されている。なお、第1監視用誘導管22および第1弁棒用通路管43の口径は、第1主誘導管21と同一の口径に形成されている。
図3に示すように、上記第1弁棒41は遮断部45および流量調整部46を有しており、遮断部45は第1弁棒41の先端部(伸展方向側)から中央部付近まで形成され各誘導路を遮断し、流量調整部46は遮断部45に隣接して形成され第1弁棒41の出退方向に大径の貫通孔46A、中径の貫通孔46B、小径の貫通穴46Cを有し、第1主誘導管21の流量調整(流量制限)が可能とされている。なお、各貫通孔46A,46B,46Cは、第1弁棒41の出退方向と交差する方向に、すなわち第1主誘導管21の飛翔経路M1の飛翔軸Mと沿う方向、例えば平行に形成されている。
また、第1弁棒41には加熱制御を行うためのシースヒータや熱電対(図示せず)が内蔵されており、これらのケーブル(図示せず)は第1弁棒駆動装置44側から接続されている。
以下に、上記した参考例1における作用を説明する。
ここで、ガラス基板1に対して安定した蒸着が行われる状態での、第1弁棒41による各誘導管の流量調整(開閉を含む)方法について説明する。
第1弁棒41により第1主誘導管21および第1監視用誘導管22を開放する場合、第1弁棒駆動装置44により第1弁棒41を第1弁棒用通路管43へ退入させ、第1主誘導路21および第1監視用誘導管22を開放状態とする。
また、第1主誘導管21および第1監視用誘導管22を遮断する場合、第1弁棒駆動装置44により第1弁棒41を伸展させ、第1弁棒41の先端部を第1監視用誘導管22へ挿入するとともに第1主誘導管21の流路上に遮断部45を位置させることにより、第1主誘導路21および第1監視用誘導管22を遮断状態とする。
このように、第1弁棒41のみを出退動させることにより、第1主誘導管21および第1監視用誘導管22を開放または遮断することができるため、第1蒸発用容器4における各誘導管の開閉構造を簡素化することができ、したがって装置のコストを低減することができる。
さらに、第1監視用誘導管22を遮断した状態で第1主誘導管21の流量調整を行う場合、第1弁棒駆動装置44により第1弁棒41を出退させ、第1主誘導管21の流路上に貫通孔46A,46B,46Cのいずれかを位置させることにより、第1主誘導管21において第1上流部主誘導管21Aから第1下流部主誘導管21Bへ放出される第1蒸発材料の流量調整を行う。なお、第1蒸発材料の流量を大量とする場合は貫通孔46Aを使用し、流量を中量とする場合は貫通孔46Bを使用し、流量を小量とする場合は貫通孔46Cを使用する。
このように、第1弁棒41を出退動させて、第1主誘導管21の流路上に貫通孔46A,46B,46Cのいずれかを位置させることにより、第1主誘導管21において第1上流部主誘導管21Aから第1下流部主誘導管21Bへ放出される第1蒸発材料の流量調整を容易に行うことができる。
また、ガラス基板1の交換等で第1弁棒41により第1主誘導管21および第1監視用誘導管22が遮断されると、その間に第1蒸発用容器4における第1上流部主誘導管21A内は第1蒸発材料が飽和状態になっている可能性があるため、第1弁棒41により第1主誘導管21が開放されると、第1蒸発材料が一気にガラス基板1に向けて大量放出されることとなり、安定した膜厚制御が困難になってしまう。
このとき、図3に示すように、第1弁棒41の先端部の一部に切り欠き部47を形成しておくことにより、第1蒸発用容器4の第1上流部主誘導管21A内における飽和状態、もしくは飽和状態に近い状態の第1蒸発材料を、第1下流部主誘導管21Bへ流さず第1上流部主誘導管21Aから第1監視用誘導管22へ放出し安定した状態に戻すことができる。また、蒸着材料補充後の加熱においても、第1弁棒41により第1主誘導管21を閉止状態として加熱を続け、放出速度であり、単位時間あたりの放出量でもある蒸発レートを監視するのに切り欠き部47を用いた第1監視用誘導管22のみの開閉を行うこともできる。
なお、上記参考例1では、第1蒸発用容器4における第1監視用誘導管22および第1弁棒用通路管43は、第1主誘導管21に対して傾斜した状態で設けられていたが、図4に示すように、第1主誘導管21と直交した方向に形成してもよい。このときも、第1主誘導管21の各貫通孔46A,46B,46Cは、第1主誘導管21の飛翔経路M1の飛翔軸Mと沿う方向、例えば平行に形成される。
なお、上述した各作用は、第2蒸発用容器5の第2流量調整手段50に関しても同様に行われるため、同様の効果を奏し得ることができる。
[参考例2]
以下に、本発明の参考例2に係る蒸着装置について、図面を参照しながら説明する。
なお、参考例2は、上記実施の形の第1蒸発用容器4における分岐部Aに第1流量制御手段60、第2蒸発用容器5における分岐部Bに第2流量制御手段70を具備した構成であるため、これら異なる部分に着目して説明する。なお、実施の形と同一の部材については同一の番号を付して説明を行うものとする。また、第1流量制御手段60と第2流量制御手段70は同様の構成であるため、第2流量制御手段70の説明を省略する。
図5に示すように、第1蒸発用容器4における分岐部Aに設けられた第1流量制御手段60は、第1主誘導管21と直交した方向に分岐されている第1弁棒用通路管63と、第1弁棒用通路管63の端部に設けられている第1ベローズ62と、第1主誘導管21と第1監視用誘導管22に亘って出退自在な四角柱状の第1弁棒61と、第1ベローズ62の端部に設けられ、第1弁棒61を出退させる第1弁棒駆動装置64から構成されている。なお、第1弁棒用通路管63の口径は、第1主誘導管21と同一の口径に形成されている。
図6に示すように、上記第1弁棒61は遮断部65と流量調整部66と切り欠き部67を有しており、遮断部65は、第1弁棒61の先端部(伸展方向側)から中央部付近まで形成され各誘導路を遮断し、流量調整部66は、遮断部65に隣接して形成され貫通孔66Aを有し、第1主誘導管21の流量調整を行っており、切り欠き部67は、第1監視用誘導管22の傾斜と平行に切り欠かれ、第1監視用誘導管22と当接するよう形成されている。なお、貫通孔66Aは第1主誘導管21の飛翔経路M1の飛翔軸Mと平行に形成されている。
また、第1弁棒61には加熱制御を行うためのシースヒータや熱電対(図示せず)が内蔵されており、これらのケーブル(図示せず)は第1弁棒駆動装置64側から接続されている。
以下に、上記した参考例2における作用を説明する。
ここで、ガラス基板1に対して安定した蒸着が行われる状態での、第1弁棒61による各誘導管の流量調整(開閉を含む)方法について説明する。
第1弁棒61により第1主誘導管21および第1監視用誘導管22を開放する場合、第1弁棒駆動装置64により第1弁棒61を第1弁棒用通路管63へ退入させ、第1主誘導管21および第1監視用誘導管22を開放状態とする。
また、第1監視用誘導管22のみを開放する場合、第1弁棒駆動装置64により第1弁棒61を伸展させ、第1主誘導管21の流路上に遮断部65を位置させることにより、第1監視用誘導管22のみを開放状態とする。
このように、第1弁棒61のみを出退動させることにより、第1主誘導管21および第1監視用誘導管22を開放または第1監視用誘導管22のみを開放することができるため、第1蒸発用容器4における各誘導管の開閉構造を簡素化することができ、したがって装置のコストを低減することができる。
さらに、第1監視用誘導管22を遮断した状態で第1主誘導管21のみ開放を行う場合、第1弁棒駆動装置64により第1弁棒61を伸展させて切り欠き部67を第1監視用誘導管22に当接させ、第1主誘導管21の流路上に貫通孔66Aを位置させることにより、第1主誘導管21における流路が第1主誘導管21の口径より小さくなるため、第1上流部主誘導管21Aから第1下流部主誘導管21Bへ放出される第1蒸発材料の流量調整が行われる。
このように、第1主誘導管21の流路上に貫通孔66Aを位置させることにより、第1上流部主誘導管21Aから第1下流部主誘導管21Bへ放出される第1蒸発材料の流量調整(流量制限)を容易に行うことができる。
また、ガラス基板1の交換等で第1弁棒61により第1主誘導管21および第1監視用誘導管22が遮断されると、第1蒸発用容器4における第1上流部主誘導管21A内は第1蒸発材料が飽和状態、もしくは飽和状態に近い状態となっている可能性が高いため、第1弁棒61により第1主誘導管21および第1監視用誘導管22が開放されると、第1蒸発材料が一気に大量放出されることとなる。
上記遮断時において、第1弁棒61の先端部の切り欠き部67は第1監視用誘導管22の内壁面と接触しているため、第1弁棒61を少し後退させて第1監視用誘導管22のみを開放することにより、第1蒸発用容器4の第1上流部主誘導管21A内における飽和状態の第1蒸発材料を、流量調整を行いつつ第1上流部主誘導管21Aから第1監視用誘導管22へ放出することができ、したがって第1蒸発材料が第1下流部主誘導管21Bへ一気に流入することを防止することができ、ガラス基板1に不慮に制御されない膜が形成されるのを防止することができる。
なお、上述した各作用は、第2蒸発用容器5の第2流量制御手段70に関しても同様に行われるため、同様の効果を奏し得ることができる。
ここで、各蒸発材料の流量調整を行う際、上記参考例1では、貫通孔46A,46B,46Cが形成された流量調整部46を有する第1弁棒41が使用され、上記参考例2では、貫通孔66Aが形成された流量調整部66を有する第1弁棒61が使用されていたが、図7に示すように、円柱状で出退および回転自在に形成され、先端部から中央部付近まで形成され各誘導路を遮断するための遮断部82と、この遮断部82に隣接して形成され出退方向において所定距離離れ且つ異なる方向に所定角度隔てて形成された大径の貫通孔83A(第1貫通孔の一例)と小径の貫通孔83B(第2貫通孔の一例)とを有する流量調整部83が形成されている第1弁棒81でもよい。このとき、第1弁棒81は円柱状に形成されているため、少なくとも第1弁棒用通路管および第1監視用誘導管22は、円筒状に形成しなければならない。また、大径の貫通孔83Aと小径の貫通孔83Bとは所定角度隔てて形成されているが、この所定角度とは貫通孔83Aと貫通孔83Bとが同時に第1主誘導管21の流路上に位置することができる角度を意味する。
例えば参考例2において上記第1弁棒81を使用して第1主誘導管21の流量調整を行う場合、図8に示すように、第1弁棒駆動装置64により第1弁棒81を伸展させて第1主誘導管21の流路上に貫通孔83A,83Bを位置させるとともに、第1弁棒駆動装置64により第1弁棒81を回転させることにより、第1上流部主誘導管21Aから第1下流部主誘導管21Bへ放出される第1蒸発材料の流量調整を行う。なお、流量を中量とする場合は貫通孔83Aのみを開放し、流量を小量とする場合は貫通孔83Bのみを開放し、流量を大量とする場合は両貫通孔83A,83Bを開放する。また、第1弁棒駆動装置64により第1弁棒81を回転させて、各貫通孔83A,83Bの開口部を第1主誘導管21の側部と対向させることにより、第1主誘導路21を遮断状態とすることができる。
このように、第1弁棒81を回転させ、第1主誘導管21の流路上にいずれかの貫通孔83A,83B、もしくは両貫通孔83A,83Bを位置させることにより、第1上流部主誘導管21Aから第1下流部主誘導管21Bへ放出される第1蒸発材料の流量調整を容易に行うことができる。
なお、上述した各作用は、第2蒸発用容器5の第2流量制御部91に関しても同様に行われるため、同様の効果を奏し得ることができる。
また、上記各参考例における第1監視用誘導管22および第2監視用誘導管32の開口部にそれぞれ、流量制御弁(図示せず)を設けてもよい。
上記構成により、第1蒸発レート検出センサ8および第2蒸発レート検出センサ9を使用しない場合、または成膜中の場合、第1監視用誘導管22および第2監視用誘導管32から放出される各蒸発物質の流量を各流量制御弁により制御することができるため、第1蒸発レート検出センサ8および第2蒸発レート検出センサ9への蒸着を抑制することができ、したがって第1蒸発レート検出センサ8および第2蒸発レート検出センサ9のクリスタル(水晶振動子)の寿命を延ばすことができる。なお、これは主成分である第1蒸着材料(ホスト)を加熱して蒸発させた第1蒸発材料の放出量が大きくなる第1蒸発レート検出センサ8に特に有効である。
また、ガラス基板1に対して蒸着作業を行う前に、各センサ8,9で検出された蒸発レートとガラス基板1での成膜レート(成膜速度であり、単位時間あたりの膜厚の変化)との関係をデータベース化するために、ガラス基板1の直下に、第1主誘導管21から放出された第1蒸発材料および第2主誘導管31から放出された第2蒸発材料が付着した成膜レートを検出する水晶振動子型の成膜レート検出センサ(図示せず)を設けて、データ収集のための実験を行っておく。
詳述すると、成膜レート検出センサと第1蒸発レート検出センサ8または第2蒸発レート検出センサ9の検出値を同時に得ておき、蒸発レートに対応する成膜レートの関係をデータベース化する。これにより、蒸着作業開始前に開始可能状態の蒸発レートを確保できているか判断可能となり、また蒸着作業中に蒸発レートが変化しても、データベースから成膜レートに換算でき、したがって正確な膜厚管理を行うことができる。
また、上記各参考例では、第1弁棒用通路管および第2弁棒用通路管の端部に第1ベローズおよび第2ベローズが設けられていたが、第1弁棒と第1弁棒用通路管との間隙、および第2弁棒と第2弁棒用通路管との間隙が十分に小さく、すなわち密封性が高く、その間隙から第1蒸発材料および第2蒸発材料が漏れる量が少なければ、上記第1ベローズおよび第2ベローズを使用する必要はなく、例えば漏れた第1蒸発材料および第2蒸発材料がガラス基板1へ直接放出されないよう、ガラス基板1との間に遮蔽板を設けてもよい。
本発明の実施の形に係る蒸着装置の概略構成を示す図である。 本発明の参考例1に係る蒸着装置の概略構成を示す図である。 同蒸着装置の弁棒であり、(a)は平面図、(b)は側面図である。 同蒸着装置の他の形態における第1蒸発用容器の断面図である。 本発明の参考例2に係る蒸着装置の第1蒸発用容器の断面図である。 同蒸着装置の弁棒であり、(a)は平面図、(b)は側面図である。 同蒸着装置の変形例における弁棒であり、(a)は平面図、(b)は側面図である。 同蒸着装置の変形例における弁棒により流量調整を行う際の断面図である。
4 第1蒸発用容器(蒸発装置)
5 第2蒸発用容器(蒸発装置)
8 第1膜厚検出用センサ(膜厚検出手段)
9 第2膜厚検出用センサ(膜厚検出手段)
41,61,81 第1弁棒(弁体)
51,71,91 第2弁棒(弁体)
21 第1主誘導管(主誘導管)
22 第1監視用誘導管(監視用誘導管)
31 第2主誘導管(主誘導管)
32 第2監視用誘導管(監視用誘導管)
46A,46B,46C,66A,83A,83B 貫通孔

Claims (2)

  1. 蒸着材料を加熱・蒸発して得た蒸発材料を、被蒸着部材に蒸着させる蒸着装置であって、
    蒸着用容器内に、前記蒸着材料を加熱・蒸発させる蒸発手段と、蒸発レートを検出する蒸発レート検出手段とを備え、
    蒸発手段は、前記蒸発材料を被蒸着部材に案内する主誘導管と、主誘導管から分岐されて前記主誘導管内の蒸発材料の一部を監視用として取り出す監視用誘導管とを有し、
    蒸発レート検出手段は、前記監視用誘導管の蒸発材料の飛翔経路上に設けられたこと
    を特徴とする蒸着装置。
  2. 主誘導管から放出される蒸発材料と監視用誘導管から放出される蒸発材料を遮断する遮蔽部材を設けること
    を特徴とする請求項1に記載の蒸着装置。
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