JP4544761B2 - プロキシミティギャップ制御方法、プロキシミティギャップ制御装置及びプロキシミティ露光装置 - Google Patents
プロキシミティギャップ制御方法、プロキシミティギャップ制御装置及びプロキシミティ露光装置 Download PDFInfo
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば液晶ディスプレイ(LCD:Liquid Crystal Display)等の製造において、基板の露光を行う露光位置で、基板と露光位置にあるマスクとの間のプロキシミティギャップを設定するプロキシミティギャップ制御方法、プロキシミティギャップ制御装置及びそれらを用いたプロキシミティ露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶ディスプレイは、薄型、軽量かつ低消費電力の特徴を有し、表示装置として広く応用されている。液晶ディスプレイの製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィ技術によりガラス、カラーフィルタ等の基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、レンズ又は鏡を用いてフォトマスク(以下、「マスク」と称す)のパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙(プロキシミティギャップ)を設けてマスクのパターンを転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ露光装置は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能は劣るが、照射光学系の構成が簡単で、かつ処理能力が高く量産用に適している。
【0003】
プロキシミティ露光装置は、チャック上に固定した基板をマスクに極めて接近させて露光を行う。通常、チャックは、マスクとの位置合わせ及びギャップ合わせを行うステージ上に搭載されており、基板を真空吸着して固定する。チャックへの基板の着脱は、通常、ロボット等のハンドリングアームにより行われるが、マスクと基板との接触を避けるためにマスクが置かれている露光部から離れた受け渡し位置で行われる。受け渡し位置で基板をチャック上に固定した後、ステージが露光部のマスクの下へ移動してマスクとの位置合わせ及びギャップ合わせを行う。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
従来は、ステージが基板の受け渡し位置から露光部のマスクの下へ移動してマスクとの位置合わせ及びギャップ合わせを行う際、マスクと基板との接触を避けるために基板を一旦下降させてマスクとの間に十分な間隔を保って移動を行い、移動終了後にギャップ合わせを行って適切なプロキシミティギャップを設定していた。このとき、露光時のマスクと基板との間のプロキシミティギャップは、数百μm程度であり、基板の面積に対して極めて小さい。そのため、ギャップ合わせ時、基板とマスクの間に存在する空気は、粘性を有し急激にギャップの外へ逃げ出すことができず、マスクのたわみ等の変形を引き起こしていた。従って、変形したマスクが元に戻るまで適切なプロキシミティギャップを設定することができず、ギャップ合わせに時間を要し、露光装置の処理能力を低下させる原因となっていた。
【0005】
本発明は、短い時間でプロキシミティギャップを設定することのできるプロキシミティギャップ制御装置を提供することを目的とする。
本発明はまた、短い時間でプロキシミティギャップを設定し、処理能力の高いプロキシミティ露光装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るプロキシミティギャップ制御方法は、基板の露光を行う露光位置で、上記基板と上記露光位置にあるマスクとの間のプロキシミティギャップを設定するプロキシミティギャップ制御方法であって、上記基板の受け渡しを行う受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間に、上記露光位置にある上記マスクの周辺の上空で、発光素子から照射された光を斜めに上記マスクへ投影し、上記マスクの下面からの反射光と、上記基板の表面からの反射光を、受光素子上にそれぞれ結像させて、上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを検出し、検出された上記ギャップに基づいて、上記受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間に、上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを制御するようにしたものである。また、本発明に係るプロキシミティギャップ制御方法は、上記基板の受け渡しを行う受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間に、発光素子から照射された光を斜めに上記マスクへ投影し、上記マスクの下面からの反射光と、上記基板の表面からの反射光を、受光素子上にそれぞれ結像させて、上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを検出する代わりに、上記露光位置へ移動される上記基板の表面の高さを検出し、検出された上記高さに基づいて、上記受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間に、上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを制御するようにしたものである。
【0007】
本発明に係るプロキシミティギャップ制御装置は、基板の露光を行う露光位置で、上記基板と上記露光位置にあるマスクとの間のプロキシミティギャップを設定するプロキシミティギャップ制御装置であって、上記基板の受け渡しを行う受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる移動手段と、上記露光位置にある上記マスクの周辺の上空に設けられ、上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間、発光素子から照射された光を斜めに上記マスクへ投影し、上記マスクの下面からの反射光と、上記基板の表面からの反射光を、受光素子上にそれぞれ結像させて、上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを検出し、または上記露光位置へ移動される上記基板の表面の高さを検出するギャップ検出手段と、上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間、上記ギャップ検出手段の検出結果に基づいて、上記移動手段を上下させて上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを制御するギャップ制御手段とを備えたものである。
【0008】
本発明に係るプロキシミティ露光装置は、マスクを有し、基板の露光を行う露光部で、上記基板と上記露光部にある上記マスクとの間のプロキシミティギャップを設定するプロキシミティ露光装置であって、上記基板の受け渡しを行う受け渡し位置から上記露光部へ上記基板を移動させる移動手段と、上記露光部にある上記マスクの周辺の上空に設けられ、上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光部へ上記基板を移動させる間、発光素子から照射された光を斜めに上記マスクへ投影し、上記マスクの下面からの反射光と、上記基板の表面からの反射光を、受光素子上にそれぞれ結像させて、上記露光部へ移動される上記基板と上記露光部にある上記マスクとの間のギャップを検出し、または上記露光位置へ移動される上記基板の表面の高さを検出するギャップ検出手段と、上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光部へ上記基板を移動させる間、上記ギャップ検出手段の検出結果に基づいて、上記移動手段を上下させて上記露光部へ移動される上記基板と上記露光部にある上記マスクとの間のギャップを制御するギャップ制御手段とを備えたものである。
【0009】
本発明のプロキシミティギャップ制御方法、プロキシミティギャップ制御装置及びプロキシミティ露光装置では、移動手段であるチャックが基板を受け渡し位置から露光位置(露光部)へ移動する間、ギャップ制御手段が、ギャップ検出手段又は高さ検出手段の検出結果に基づいて、チャックを上下して基板とマスクとの間のギャップを制御しているので、基板がマスクに接触する心配がない。そのため、移動中にあるいは最初から、チャックが受け渡し位置から露光位置(露光部)へ移動する際の基板とマスクとの間隔を小さくすることができる。従って、移動終了後のギャップ合わせ時の移動距離が短くなり、基板とマスクの間の空気によるマスクのたわみ等の変形が少ない。
なお、本発明のプロキシミティギャップ制御方法、プロキシミティギャップ制御装置及びプロキシミティ露光装置で、ギャップ検出手段又は高さ検出手段をマスクの周辺に複数設けると、基板とマスクとの間隔又は基板の高さの検出精度が向上して、ギャップ制御手段による基板とマスクとの間隔の制御能力が向上する。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面に従って説明する。図6は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の構成図である。本実施の形態によるプロキシミティ露光装置は、基板を固定するチャック10と基板の露光を行う露光部20とを含む露光装置本体30、チャック10へ基板を供給する供給アーム40、チャック10から基板を回収する回収アーム50、供給コンベア60、供給バッファ70、回収バッファ80、及び回収コンベア90を備える。実際の露光装置は露光部20のマスクを自動的に交換するマスクチェンジャや装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えているが、本実施の形態では発明に直接関係しない部分は省略してある。なお、図6は、チャック10が基板の受け渡しを行う受け渡し位置にある状態を示している。
【0011】
図6において、パターンを形成するために露光を行う基板は、図示しないローダから矢印に示す方向で供給コンベア60へ供給される。供給コンベア60は、複数のローラ61を有し、ローダから供給された基板を供給バッファ70へ搬送する。供給バッファ70は、複数のローラ71を有し、供給アーム40が挿入される溝を備え、上下に移動可能に構成されている。供給コンベア60から搬送された基板は、供給バッファ70に一時保持される。
供給アーム40は、基板を保持する2本の腕を有し、供給バッファ70と受け渡し位置との間を移動可能に構成されている。図6に実線で示したように供給アーム40が供給バッファ70の溝に挿入された状態で、供給バッファ70が図面奥行き方向へ下降して保持していた基板を供給アーム40へ渡す。基板を受け取った供給アーム40は、図6に破線で示したように受け渡し位置へ移動する。
【0012】
チャック10は、露光部20と受け渡し位置とを移動可能に構成されている。
受け渡し位置に移動した供給アーム40は、受け渡し位置に移動したチャック10へ基板を渡す。受け渡し位置で供給アーム40から基板を受け取ったチャック10は、露光部20へ移動する。露光部20で露光が終了すると、チャック10は受け渡し位置へ移動する。
回収アーム50は、基板を保持する2本の腕を有し、受け渡し位置と回収バッファ80との間を移動可能に構成されている。図6に破線で示したように受け渡し位置で待機していた回収アーム50は、受け渡し位置へ移動したチャック10から基板を受け取り、図6に実線で示したように回収バッファ80の位置へ移動する。
【0013】
回収バッファ80は、複数のローラ81を有し、回収アーム50が挿入される溝を備え、上下に移動可能に構成されている。回収バッファ80は、図面奥行き方向へ下降して待機しており、回収アーム50が回収バッファ80の位置へ移動すると、上昇して回収アーム50から基板を受け取る。回収バッファ80は、回収アーム50から受け取った基板を回収コンベア90へ搬送する。回収コンベア90は、複数のローラ91を有し、回収バッファ80から搬送された基板を矢印に示す方向で図示しないアンローダへ搬送する。
【0014】
図1(a)は本発明の一実施の形態によるプロキシミティギャップ制御装置の上面図、図1(b)は同側面図である。本実施の形態によるプロキシミティギャップ制御装置は、基板1の受け渡しを行う受け渡し位置と基板の露光を行う露光位置とを移動するチャック10、チャック10に固定された基板1と露光位置にあるマスク21との間隔を検出するギャップセンサ100、及びチャック10を上下して基板1とマスク21との間隔を制御するチルト機構11a,11b,11cを備える。本実施の形態では、ギャップセンサ100が、マスク21の上空の基板1が進入して来る入り口付近に1つ設けられている。
【0015】
図1において、チャック10は、基板の受け渡しを行う受け渡し位置にあり、基板1を真空吸着している。チャック10は、チルト機構11a,11b,11cを介してステージ12に搭載されており、ステージ12の下にはステップステージ13が設けられている。チャック10を搭載したステージ12は、X,Y,θの3軸で構成され、露光位置で基板1とマスク21との位置合わせを行う。ステップステージ13は、定盤15に設けられたリニアガイド14に沿ってX軸方向(図面横方向)へ移動し、これによりチャック10が受け渡し位置からマスク21下の露光位置へ移動する。なお、駆動手段としてはリニアモータ等が用いられるが、図示は省略する。
【0016】
露光位置の入り口付近に設けられたギャップセンサ100は、チャック10が受け渡し位置から露光位置へ移動する間、チャック10に固定された基板1と露光位置にあるマスク21との間隔を検出する。チャック10とステージ12との間の3箇所に設けられたチルト機構11a,11b,11cは、垂直方向のガイドと送りねじ、あるいは垂直方向のガイドと楔機構等により構成される垂直微動機構である。チルト機構11a,11b,11cは、チャック10が受け渡し位置から露光位置へ移動する間、ギャップセンサ100の検出結果に基づいて、チャック10を上下して基板1とマスク21との間隔を制御する。この制御は、例えば、次のように行われる。
【0017】
基板は、一般に製法上の理由から、厚さが1方向に単調に変化し、それと直行する方向では厚さの変化が少ないという性質を有している。図1で、基板1は、チャック10上に、その厚さが変化する方向がX軸方向(図面横方向)となるように置かれている。まずチャック10が移動して露光位置の入り口に来ると、ギャップセンサ100は、基板1の端部の表面とマスク21との間隔を検出する。
チルト機構11aは、この検出結果に基づいて上下し、基板1がマスク21と必要な間隔を保って露光位置へ進入するように制御する。その後、チャック10が移動を続ける間、ギャップセンサ100は常に基板1とマスク21との間隔を検出する。そして、チルト機構11b,11cはそれぞれ、その検出結果に基づいて上下して、基板1がマスク21と必要な間隔を保って移動するよう必要な補正を行う。
【0018】
チャック10の露光位置への移動が終了すると、チルト機構11a,11b,11cは、ギャップセンサ100と別個に設けられた図示しないギャップ検出手段の検出結果に基づいてギャップ合わせを行い、プロキシミティギャップを設定する。
本実施の形態によれば、チャック10が受け渡し位置から露光位置へ移動する間にチャック10に固定された基板1と露光位置にあるマスク21との間隔を検出するギャップセンサ100が1つで済む。
【0019】
図2は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティギャップ制御装置のギャップセンサの構成図である。本実施の形態のギャップセンサ100は、発光素子(半導体レーザ、発光ダイオードなど)101、コリメーションレンズ群102、スリット103、投影レンズ104、全反射ミラー105,106、結像レンズ107、及び受光素子(CCDラインセンサなど)108で構成されている。
【0020】
図2において、発光素子101から照射された光は、コリメーションレンズ群102で集光され、スリット103を通った後、投影レンズ104から全反射ミラー105を介して斜めにマスク21へ投影される。投影された光の一部は、マスク21の下面で反射して反射光Rとなり、また一部は基板1の表面で反射して反射光Sとなる。反射光R,Sは、全反射ミラー106を介して結像レンズ107を通り、受光素子108上にそれぞれ結像する。受光素子108で検出した反射光R,Sの結像の距離により、基板1とマスク21との間隔が検出される。本実施の形態のギャップセンサは、基板1の傾きや反射率に起因する検出誤差が無く、再現性の高い検出を行うことができる。
【0021】
図3は、本発明の他の実施の形態によるプロキシミティギャップ制御装置の斜視図である。本実施の形態では、ギャップセンサ100が、マスク21の周辺の上空に4つ設けられている。
図3は、チャック10が露光位置への移動が終了した状態を示している。マクク21の周辺の上空に設けられた4つのギャップセンサ100はそれぞれ、チャック10が受け渡し位置から露光位置へ移動する間、チャック10に固定された基板1とマスク21との間隔を検出する。図1に示した実施の形態と同様に設けられたチルト機構11a,11b,11cは、チャック10が受け渡し位置から露光位置へ移動する間、4つのギャップセンサ100の検出結果に基づいて、チャック10を上下して基板1とマスク21との間隔を制御する。そして、チャック10の露光位置への移動が終了すると、チルト機構11a,11b,11cは、4つのギャップセンサ100の検出結果に基づいてギャップ合わせを行い、プロキシミティギャップを設定する。
【0022】
本実施の形態によれば、ギャップセンサ100をマスク21の周辺に複数設けたので、基板1とマスク21との間隔の検出精度が向上して、チルト機構11a,11b,11cによる基板1とマスク21との間隔の制御能力が向上する。また、複数のギャップセンサ100を、プロキシミティギャップを設定する際に必要なギャップ検出手段と兼用することができる。
【0023】
図4は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティギャップ制御装置の制御ブロック図である。図4において、ギャップセンサ100の検出結果は、ギャップ計測量変換器110へ送られてギャップ計測量に変換される。一方、基準ギャップ量記憶メモリ120には、露光時のプロキシミティギャップが基準ギャップ量として記憶されている。CPU200は、ギャップ計測量変換手段110からギャップ計測量を、基準ギャップ量記憶メモリ120から基準ギャップ量を読み出し、これらの情報に基づいて、チルト機構11a,11b,11cを駆動する指令をコントローラ130へ送る。コントローラ130は、CPU200からの指令に従って、ドライバ140a,140b,140cを制御してチルト機構11a,11b,11cを駆動する。
【0024】
図5は、従来技術と本発明のプロキシミティギャップ制御装置の動作説明図である。図5(a)は、本発明で、露光位置の入り口での基板とマスクとの間隔を従来技術と同じとした例を示している。図5(a)において、G1は従来技術及び本発明でチャックが露光位置の入り口に達したときの基板とマスクとの間隔、G2は本発明でチャックが露光位置への移動を終了したときの基板とマスクとの間隔、G5は露光時のプロキシミティギャップである。また、T1は従来技術及び本発明でチャックが露光位置への移動を終了した時間、T3は本発明でギャップ合わせが終了して露光を開始した時間、T4は従来技術でギャップ合わせが終了した時間、T5は従来技術で露光を開始した時間である。
【0025】
図5(a)の従来技術では、チャックが移動している間、基板とマスクとの間隔G1は変わらない。時間T1にチャックが露光位置への移動を終了してギャップ合わせが開始され、時間T4にギャップ合わせが終了する。そして、変形したマスクが元に戻るのを待った後、時間T5に露光が開始される。
これに対し図5(a)の本発明では、チャックが移動している間、基板とマスクとの間隔がG1からG2へと制御される。時間T1にチャックが露光位置への移動を終了してギャップ合わせが開始され、時間T3にギャップ合わせが終了する。この間のギャップ合わせの移動距離が短いので、マスクの変形は少なく、時間T3にすぐ露光を開始することができる。
【0026】
図5(b)は、本発明で、露光位置の入り口での基板とマスクとの間隔を、従来技術より小さくした例を示している。図5(b)において、G1は従来技術でチャックが露光位置の入り口に達したときの基板とマスクとの間隔、G3は本発明でチャックが露光位置の入り口に達したときの基板とマスクとの間隔、G4は本発明でチャックが露光位置への移動を終了したときの基板とマスクとの間隔、G5は露光時のプロキシミティギャップである。また、T1は従来技術及び本発明でチャックが露光位置への移動を終了した時間、T2は本発明でギャップ合わせが終了して露光を開始した時間、T4は従来技術でギャップ合わせが終了した時間、T5は従来技術で露光を開始した時間である。
【0027】
図5(b)の従来技術は、図5(a)と同じである。
図5(b)の本発明では、露光位置の入り口での基板とマスクとの間隔G3が従来技術のG1よりも小さく、さらに、チャックが移動している間、基板とマスクとの間隔がG3からG4へと制御される。時間T1にチャックが露光位置への移動を終了してギャップ合わせが開始され、時間T2にギャップ合わせが終了する。この間のギャップ合わせの移動距離が短いので、マスクの変形は少なく、時間T2にすぐ露光を開始することができる。
【0028】
以上説明した本実施の形態では、ギャップセンサ100でチャック10に固定された基板1と露光位置にあるマスク21との間隔を検出していたが、チャック10に固定された基板1の表面の高さを検出する高さ検出手段を設け、チルト機構11a,11b,11cは、高さ検出手段の検出結果に基づいて、チャックを上下して基板とマスクとの間隔を制御してもよい。
【0029】
【発明の効果】
本発明のプロキシミティギャップ制御装置によれば、チャックが受け渡し位置から露光位置へ移動する際の基板とマスクとの間隔を、移動中にあるいは最初から小さくすることができる。従って、移動終了後のギャップ合わせ時の移動距離が短くなり、基板とマスクの間の空気によるマスクのたわみ等の変形が少ないので、短い時間でプロキシミティギャップを設定することができる。
また、本発明のプロキシミティ露光装置によれば、短い時間でプロキシミティギャップを設定することができるので、処理能力を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1(a)は本発明の一実施の形態によるプロキシミティギャップ制御装置の上面図、図1(b)は同側面図である。
【図2】 本発明の一実施の形態によるプロキシミティギャップ制御装置のギャップセンサの構成図である。
【図3】 本発明の他の実施の形態によるプロキシミティギャップ制御装置の斜視図である。
【図4】 本発明の一実施の形態によるプロキシミティギャップ制御装置の制御ブロック図である。
【図5】 従来技術と本発明のプロキシミティギャップ制御装置の動作説明図である。
【図6】 本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の構成図である。
【符号の説明】
1…基板、10…チャック、11a,11b,11c…チルト機構、
12…ステージ、20…露光部、21…マスク、30…露光装置本体、
40…供給アーム、50…回収アーム、60…供給コンベア、
70…供給バッファ、80…回収バッファ、90…回収コンベア、
100…ギャップセンサ
Claims (12)
- 基板の露光を行う露光位置で、上記基板と上記露光位置にあるマスクとの間のプロキシミティギャップを設定するプロキシミティギャップ制御方法であって、
上記基板の受け渡しを行う受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間に、上記露光位置にある上記マスクの周辺の上空で、発光素子から照射された光を斜めに上記マスクへ投影し、上記マスクの下面からの反射光と、上記基板の表面からの反射光を、受光素子上にそれぞれ結像させて、上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを検出し、検出された上記ギャップに基づいて、上記受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間に、上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを制御することを特徴とするプロキシミティギャップ制御方法。 - 上記ギャップを上記マスクの周辺の複数箇所で検出することを特徴とする請求項1に記載のプロキシミティギャップ制御方法。
- 上記基板の受け渡しを行う受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間に、発光素子から照射された光を斜めに上記マスクへ投影し、上記マスクの下面からの反射光と、上記基板の表面からの反射光を、受光素子上にそれぞれ結像させて、上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを検出する代わりに、上記露光位置へ移動される上記基板の表面の高さを検出し、検出された上記高さに基づいて、上記受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間に、上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを制御することを特徴とする請求項1に記載のプロキシミティギャップ制御方法。
- 上記高さを上記マスクの周辺の複数箇所で検出することを特徴とする請求項3に記載のプロキシミティギャップ制御方法。
- 基板の露光を行う露光位置で、上記基板と上記露光位置にあるマスクとの間のプロキシミティギャップを設定するプロキシミティギャップ制御装置であって、
上記基板の受け渡しを行う受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる移動手段と、
上記露光位置にある上記マスクの周辺の上空に設けられ、上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間、発光素子から照射された光を斜めに上記マスクへ投影し、上記マスクの下面からの反射光と、上記基板の表面からの反射光を、受光素子上にそれぞれ結像させて、上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを検出するギャップ検出手段と、
上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間、上記ギャップ検出手段の検出結果に基づいて、上記移動手段を上下させて上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを制御するギャップ制御手段と
を備えたことを特徴とするプロキシミティギャップ制御装置。 - 上記ギャップ検出手段を上記マスクの周辺に複数設けたことを特徴とする請求項5に記載のプロキシミティギャップ制御装置。
- 上記ギャップ検出手段は、上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間、上記露光位置へ移動される上記基板の表面の高さを検出し、
上記ギャップ制御手段は、上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光位置へ上記基板を移動させる間、上記ギャップ検出手段の検出結果に基づいて、上記移動手段を上下させて上記露光位置へ移動される上記基板と上記露光位置にある上記マスクとの間のギャップを制御することを特徴とする請求項5に記載のプロキシミティギャップ制御装置。 - 上記ギャップ検出手段を上記マスクの周辺に複数設けたことを特徴とする請求項7に記載のプロキシミティギャップ制御装置。
- マスクを有し、基板の露光を行う露光部で、上記基板と上記露光部にある上記マスクとの間のプロキシミティギャップを設定するプロキシミティ露光装置であって、
上記基板の受け渡しを行う受け渡し位置から上記露光部へ上記基板を移動させる移動手段と、
上記露光部にある上記マスクの周辺の上空に設けられ、上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光部へ上記基板を移動させる間、発光素子から照射された光を斜めに上記マスクへ投影し、上記マスクの下面からの反射光と、上記基板の表面からの反射光を、受光素子上にそれぞれ結像させて、上記露光部へ移動される上記基板と上記露光部にある上記マスクとの間のギャップを検出するギャップ検出手段と、
上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光部へ上記基板を移動させる間、上記ギャップ検出手段の検出結果に基づいて、上記移動手段を上下させて上記露光部へ移動される上記基板と上記露光部にある上記マスクとの間のギャップを制御するギャップ制御手段と
を備えたことを特徴とするプロキシミティ露光装置。 - 上記ギャップ検出手段を上記マスクの周辺に複数設けたことを特徴とする請求項9に記載のプロキシミティ露光装置。
- 上記ギャップ検出手段は、上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光部へ上記基板を移動させる間、上記露光部へ移動される上記基板の表面の高さを検出し、
上記ギャップ制御手段は、上記移動手段が上記受け渡し位置から上記露光部へ上記基板を移動させる間、上記ギャップ検出手段の検出結果に基づいて、上記移動手段を上下させて上記露光部へ移動される上記基板と上記露光部にある上記マスクとの間のギャップを制御することを特徴とする請求項9に記載のプロキシミティ露光装置。 - 上記ギャップ検出手段を上記マスクの周辺に複数設けたことを特徴とする請求項11に記載のプロキシミティ露光装置。
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