JP2007293376A - 露光装置及び基板製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ガラス基板1a,1bを固定する複数のチャック10a,10bと、チャック10a,10bに対してガラス基板1a,1bのロード/アンロードを行うロード/アンロード位置a,bと、ガラス基板1a,1bのXY方向へのステップ移動及びガラス基板1a,1bの露光を行う露光位置と、各チャックを搭載して、ロード/アンロード位置a,bと露光位置との間を往復して移動し、露光位置でガラス基板1a,1bのXY方向へのステップ移動を行う複数の独立したステージとを備える。各ステージは、ロード/アンロード位置a,bと露光位置との間の移動と、露光位置でのX方向へのステップ移動とを、共通のXガイド11に沿って行うXステージ12を有する。
【選択図】図2
Description
10a,10b チャック
11 Xガイド
12 Xステージ
13 Yガイド
14 Yステージ
15 θ,Zステージ
16 ピン
20 マスク
21 マスクホルダ
30a,30b ハンドリングアーム
40 搬送ライン
Claims (6)
- フォトマスクとガラス基板との間に微小なギャップを設けて、フォトマスクのパターンをガラス基板へ転写する露光装置であり、ガラス基板をXY方向にステップ移動させて、ガラス基板の一面を複数のショットに分けて露光する露光装置であって、
ガラス基板を固定する複数のチャックと、
前記チャックに対してガラス基板のロード/アンロードを行うロード/アンロード位置と、
ガラス基板のXY方向へのステップ移動及びガラス基板の露光を行う露光位置と、
各チャックを搭載して、前記ロード/アンロード位置と前記露光位置との間を往復して移動し、前記露光位置でガラス基板のXY方向へのステップ移動を行う複数の独立したステージとを備え、
各ステージは、前記ロード/アンロード位置と前記露光位置との間の移動と、前記露光位置でのX方向へのステップ移動とを、共通のガイドに沿って行う第1の移動機構を有することを特徴とする露光装置。 - 前記ロード/アンロード位置を複数備えたことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 各ステージは、他のステージと独立してY方向へのステップ移動を行う第2の移動機構を有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の露光装置。
- 前記第2の移動機構を、前記第1の移動機構の上に有することを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記複数のチャックは、1つのチャックが前記露光位置にある間に、他のチャックが前記ロード/アンロード位置でガラス基板の冷却を行うことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の露光装置。
- 請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の露光装置を用いて、ガラス基板上にパターンを形成することを特徴とする基板製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007211212A JP2007293376A (ja) | 2007-08-14 | 2007-08-14 | 露光装置及び基板製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007211212A JP2007293376A (ja) | 2007-08-14 | 2007-08-14 | 露光装置及び基板製造方法 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003376238A Division JP4020261B2 (ja) | 2003-11-05 | 2003-11-05 | 露光方法、露光装置、及び基板製造方法 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008026229A Division JP2008122996A (ja) | 2008-02-06 | 2008-02-06 | プロキシミティ露光装置及び基板製造方法 |
JP2008026232A Division JP2008146098A (ja) | 2008-02-06 | 2008-02-06 | プロキシミティ露光装置及び基板製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007293376A true JP2007293376A (ja) | 2007-11-08 |
Family
ID=38763982
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007211212A Withdrawn JP2007293376A (ja) | 2007-08-14 | 2007-08-14 | 露光装置及び基板製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007293376A (ja) |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
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