JP4020261B2 - 露光方法、露光装置、及び基板製造方法 - Google Patents
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Description
(ステップ208)。
10a,10b チャック
11 Xガイド
12 Xステージ
13 Yガイド
14 Yステージ
15 θ,Zステージ
16 ピン
20 マスク
21 マスクホルダ
30a,30b ハンドリングアーム
40 搬送ライン
Claims (6)
- フォトマスクとガラス基板との間に微小なギャップを設けて、フォトマスクのパターンをガラス基板へ転写する露光方法であり、ガラス基板をXY方向にステップ移動させて、ガラス基板の一面を複数のショットに分けて露光する露光方法であって、
ガラス基板を固定して冷却するチャックを複数用意し、
チャックに対してガラス基板のロード/アンロードを行う複数のロード/アンロード位置と、ガラス基板のXY方向へのステップ移動及びフォトマスクとガラス基板とのギャップ合わせを行う露光位置とを設け、
各チャックを1つのロード/アンロード位置と露光位置との間で往復して移動させ、
露光位置で1つのチャック上のガラス基板のXY方向へのステップ移動及びフォトマスクとガラス基板とのギャップ合わせを行っている間に、ロード/アンロード位置で他のチャックに対するガラス基板のロード/アンロード及び他のチャック上のガラス基板の冷却を行うことを特徴とする露光方法。 - 露光位置で1つのチャック上のガラス基板のXY方向へのステップ移動及びフォトマスクとガラス基板とのギャップ合わせを行っている間に、ロード/アンロード位置でさらに他のチャック上のガラス基板のプリアライメントを行うことを特徴とする請求項1に記載の露光方法。
- フォトマスクとガラス基板との間に微小なギャップを設けて、フォトマスクのパターンをガラス基板へ転写する露光装置であり、ガラス基板をXY方向にステップ移動させて、ガラス基板の一面を複数のショットに分けて露光する露光装置であって、
ガラス基板を固定して冷却する複数のチャックと、
各チャックに対してガラス基板のロード/アンロードを行う複数のロード/アンロード位置と、
ガラス基板のXY方向へのステップ移動及びフォトマスクとガラス基板とのギャップ合わせを行う露光位置と、
前記ロード/アンロード位置にある前記チャックに対してガラス基板のロード/アンロードを行う基板搬送手段と、
各チャックを搭載して、1つのロード/アンロード位置と前記露光位置との間を往復して移動し、前記露光位置でガラス基板のXY方向へのステップ移動及びフォトマスクとガラス基板とのギャップ合わせを行う複数の独立したステージとを備え、
前記基板搬送手段は、1つのステージが前記露光位置で1つのチャック上のガラス基板のXY方向へのステップ移動及びフォトマスクとガラス基板とのギャップ合わせを行っている間に、前記ロード/アンロード位置にある他のチャックに対してガラス基板のロード/アンロードを行い、
前記複数のチャックは、1つのステージが前記露光位置で1つのチャック上のガラス基板のXY方向へのステップ移動及びフォトマスクとガラス基板とのギャップ合わせを行っている間に、他のチャックが前記ロード/アンロード位置でガラス基板の冷却を行うことを特徴とする露光装置。 - 前記複数のステージは、1つのステージが前記露光位置で1つのチャック上のガラス基板のXY方向へのステップ移動及びフォトマスクとガラス基板とのギャップ合わせを行っている間に、他のステージが前記ロード/アンロード位置で他のチャック上のガラス基板のプリアライメントを行うことを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 請求項1又は請求項2に記載の露光方法を用いて、ガラス基板上にパターンを形成することを特徴とする基板製造方法。
- 請求項3又は請求項4に記載の露光装置を用いて、ガラス基板上にパターンを形成することを特徴とする基板製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003376238A JP4020261B2 (ja) | 2003-11-05 | 2003-11-05 | 露光方法、露光装置、及び基板製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003376238A JP4020261B2 (ja) | 2003-11-05 | 2003-11-05 | 露光方法、露光装置、及び基板製造方法 |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007211212A Division JP2007293376A (ja) | 2007-08-14 | 2007-08-14 | 露光装置及び基板製造方法 |
JP2007211211A Division JP2007306034A (ja) | 2007-08-14 | 2007-08-14 | 露光装置及び基板製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005140935A JP2005140935A (ja) | 2005-06-02 |
JP2005140935A5 JP2005140935A5 (ja) | 2005-11-24 |
JP4020261B2 true JP4020261B2 (ja) | 2007-12-12 |
Family
ID=34687371
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003376238A Expired - Lifetime JP4020261B2 (ja) | 2003-11-05 | 2003-11-05 | 露光方法、露光装置、及び基板製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4020261B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019047244A1 (zh) * | 2017-09-11 | 2019-03-14 | 深圳市柔宇科技有限公司 | 机械手臂、曝光机前单元和温度控制方法 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4860966B2 (ja) * | 2005-09-02 | 2012-01-25 | Nskテクノロジー株式会社 | 露光パターンの転写方法及び露光装置 |
US7440076B2 (en) * | 2005-09-29 | 2008-10-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby |
JP4726814B2 (ja) * | 2007-01-16 | 2011-07-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 基板の位置決め装置及び位置決め方法 |
US7923660B2 (en) * | 2007-08-15 | 2011-04-12 | Applied Materials, Inc. | Pulsed laser anneal system architecture |
JP2009295950A (ja) * | 2008-05-09 | 2009-12-17 | Nsk Ltd | スキャン露光装置およびスキャン露光方法 |
JP2010169949A (ja) * | 2009-01-23 | 2010-08-05 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
WO2011065380A1 (ja) * | 2009-11-25 | 2011-06-03 | 日本精工株式会社 | プリアライメント装置及びプリアライメント方法 |
JP2011158718A (ja) * | 2010-02-01 | 2011-08-18 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP5843161B2 (ja) * | 2011-05-13 | 2016-01-13 | 株式会社ニコン | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
JPWO2017158943A1 (ja) * | 2016-03-18 | 2019-01-24 | コニカミノルタ株式会社 | パターニング装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3571243B2 (ja) * | 1999-02-22 | 2004-09-29 | 日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社 | プロキシミティ露光方法及び装置 |
JP2000250227A (ja) * | 1999-03-02 | 2000-09-14 | Adtec Engineeng Co Ltd | 露光装置 |
JP2000292942A (ja) * | 1999-04-06 | 2000-10-20 | Adtec Engineeng Co Ltd | 露光装置及び露光方法 |
JP2001093808A (ja) * | 1999-09-21 | 2001-04-06 | Nikon Corp | 露光方法及び露光装置 |
JP4538884B2 (ja) * | 2000-03-08 | 2010-09-08 | 凸版印刷株式会社 | 大型基板の露光装置 |
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-
2003
- 2003-11-05 JP JP2003376238A patent/JP4020261B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2019047244A1 (zh) * | 2017-09-11 | 2019-03-14 | 深圳市柔宇科技有限公司 | 机械手臂、曝光机前单元和温度控制方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005140935A (ja) | 2005-06-02 |
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